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空心阴极霍尔离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 空心阴极霍尔离子源
空心阴极霍尔离子源企业商机

【真空镀膜设备的正常工作条件】1、环境温度:10~30℃2、相对湿度:不da于70%3、冷却水进水温度:不高于25℃4、冷却水质:城市自来水或质量相当的水5、供电电压:380V,三相50Hz或220V,单相50Hz(由所用电器需要而定),电压波动范围342~399V或198V~231V,频率波动范围49~51Hz;6、设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。7、设备周围环境整洁、空气清洁,不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。此外,真空镀膜设备所在实验室或车间应保持清洁卫生。地面为水磨石或木质涂漆地面、无尘埃。为防止机械泵工作时排出的气体对实验室环境的污染,可采用在泵的排气口上面装设排气管道(金属、橡胶管)的办法,将气体排出室外。真空镀膜机真空四个阶段。河南光纤镀膜空心阴极霍尔离子源多少钱

【真空镀膜之磁控溅射镀膜】磁控溅射对阴极溅射中电子使基片温度上升过快的缺点加以改良,形成了电场和磁场方向相互垂直的特点。在正交的电磁场的作用下,电子以摆线的方式沿着靶表面前进,从而xianzhu地延长了电子的运动路程,增加了同工作气体分子的碰撞几率,提高了电子的电离效率。由于电子每经过一次碰撞损失一部分动能,经过多次碰撞后,丧失了能量成为“终电子”进入离阴极靶面较远的弱电场区,后到达阳极时已经是能量消耗殆尽的低能电子,也就不再会使基片过热。同时高密度等离子体被束缚在靶面附近,又不与基片接触,这样电离产生的正离子能十分有效地轰击靶面,而基片又可免受等离子体的轰击,因而基片温度又可降低。在溅射仪起辉以后,并不把样品转入阳极的生长位置,也不通循环水,使样品随放电的热能而逐渐升高至一定温度后,才开始生长,以减小应力,获得牢固度较高的薄膜。另外在样品盘中还安装了温控仪(精度小于1℃)以监控薄膜生长过程中的样品温度。重庆真空镀膜空心阴极霍尔离子源制造生产厂家真空镀膜机日常怎么维护?

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为:基材、底漆、真空膜层、面漆,因靶材理化特性直接决定膜层的特性,根据膜层的导电与否,可分为导电真空镀膜(VM)和不导电真空镀膜(NCVM)两种。VM:一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理,其表面效果与水电镀相媲美,靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM:具有金属质感、透明,但不导电,一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理,其表面效果为水电镀不可取代,靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上,抽的速度会显然变慢,当操作不当应拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作。首先启动维持泵,关好da门,数分钟后,观察扩散泵部分真空度是否达到标准,否则要进行检漏。检查联接处的密封圈是否正常。

【真空镀膜机清洗工艺之氮气冲洗】氮气在材料表面吸附时,由于吸附能小,因而吸留表面时间极短.即便吸附在器壁上,也很容易被抽走。利用氮气的这种性质冲洗真空系统,可以dada缩短系统的抽气时间。如真空镀膜机在放入da气之前,先用干燥氮气充入真空室冲刷一下再充入da气,则下一抽气循环的抽气时间可缩短近一半,其原因为氮分予的吸附能远比水气分子小,在真空下充入氮气后,氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的,先被氮分子占满了,其吸附的水分子就很少了,因而使抽气时间缩短了。如果系统被扩散泵油喷溅污染了,还可以利用氮气冲洗法来清洗被污染的系统.一般是一边对系统进行烘烤加热,一边用氮气冲洗系统,可将油污染消除。真空镀膜机厂家qian十。

【真空镀膜机之辅助抽气系统】真空腔各部分有连接阀,用来连接各抽气泵浦。辅助抽气系统:排气系统为镀膜机真空系统的重要部分,主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三da部分组成。此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。排气流程为:机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态,为扩散泵后继抽真空提供前提,之后当扩散泵抽真空腔的时候,机械泵又配合油扩散泵组成串联,以这样的方式完成抽气动作。真空镀膜机是什么样的?重庆空心阴极霍尔离子源自主研发设计生产

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