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【光谱分光不良的补救（补色）之机器故障和人为中断】：分光不良分为二种情况：一是全部膜系镀制完成后，经测试分光不良，此类不良主要按六节所述方法处理，一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断（包括发现错误中断）造成的分光不良，一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确，补救成功率比较高。中断的原因形式之机器故障和人为中断：模拟：根据已经实镀的镜片（测试比较片）实测分光数据输入计算机膜系设计程序的优化目标值，再根据已经掌握的膜系信息输入，采用倒推法逐层优化，模拟出实际镀制的膜系数据。*测试比较片是指随镜片一起镀制（在伞片上、与镜片同折射率），用于测试镀后分光曲线的平片。优化：再锁定通过模拟得到的膜系数据，通过后续层膜厚优化找到实现目标的Zui佳方案。试镀：根据新优化的后续膜层数据，试镀若干镜片或测试片，确认补色膜系的可行性。补色镀：对试镀情况确认后实施补色镀。补色镀前，确认基片是否洁净，防止产生其他不良。真空镀膜设备品牌推荐。重庆理想pvd真空镀膜设备

【真空镀膜设备之真空的获得】：真空泵：真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空的器件或设备。通俗来讲，真空泵是用各种方法在某一封闭空间中改善、产生和维持真空的装置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分为两种类型，即气体捕集泵和气体传输泵。其广fan用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空，有油泵和干泵。从结构上可分几种：旋转叶片泵：油泵，极限真空可达10&3Torr，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵，极限真空1Torr左右，抽速<10CFM往复式活塞泵中国台湾真空镀膜设备哪里生产真空镀膜设备哪个牌子的好？

【离子镀膜法介绍】： 离子镀膜技术是在真空条件下，应用气体放电实现镀膜的，即在真空室中使气体或蒸发物质电离，在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下、同时将蒸发物或其反应产物蒸镀在基片上。根据不同膜材的气化方式和离化方式可分为不同类型的离子镀膜方式。膜材的气化方式有电阻加热、电子束加热、等离子电子束加热、高频感应加热、阴极弧光放电加热等。气体分子或原子的离化和激huo方式有：辉光放电型、电子束型、热电子型、等离子电子束型、多弧型及高真空电弧放电型，以及各种形式的离子源等。不同的蒸发源与不同的电离或激发方式可以有多种不同的组合。常用的组合方式有：直流二极型(DCIP)、多阴极型、活性反应蒸镀法(ABE)、空心阴极离子镀(HCD)、射频离子镀(RFIP)等。

    【真空镀膜设备捡漏方法】:检漏方法很多，根据被检件所处的状态可分为充压检漏法、真空检漏法及其它检漏法。充压检漏法：在被检件内部充入一定压力的示漏物质，如果被检件上有漏孔，示漏物质便从漏孔漏出，用一定的方法或仪器在被检件外部检测出从漏孔漏出的示漏物质，从而判定漏孔的存在、位置及漏率的大小，此即充压检漏法。真空检漏法：被检件和检漏器的敏感元件处于真空状态，在被检件的外部施加示漏物质，如果有漏孔，示漏物质就会通过漏孔进入被检件和敏感元件的空间，由敏感元件检测出示漏物质，从而可以判定漏孔的存在、位置利漏率的大小，这就是真空检漏法。其它检漏法：被检件既不充压也不抽真空，或其外部受压等方法归入其它检漏法。背压法就是其中主要方法之一。所谓“背压检漏法”是利用背压室先将示漏气体由漏孔充入被检件，然后在真空状态下使示漏气体再从被检件中漏出．以某种方法(或检漏仪)检测漏出的示漏气体，判定被检件的总漏率的方法。 离子真空镀膜设备是什么？

【磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法】设备包含真空镀膜室、磁控溅射靶组件、立式旋转鼓，真空镀膜室为立式圆筒形结构，立式旋转鼓位于真空镀膜室内，绕垂直轴线旋转，立式旋转鼓中心设置有旋转密封箱，旋转密封箱内设置有膜厚测量仪表，旋转密封箱的上部连接有旋转轴，旋转密封箱内的气氛与真空镀膜室隔离。多组磁控溅射靶组件设置在立式旋转鼓wai围的真空镀膜室的侧壁上。镀膜方法包括将需要镀膜的工件装卡到镀膜设备的立式旋转鼓的侧面，对镀膜设备抽真空；转动立式旋转鼓达到设定的转速；启动射频离子源；交替启动第一种材料的磁控靶靶和第二种材料的磁控靶，按工艺要求镀制膜层。真空镀膜设备怎么保养？上海真空镀膜设备废气处理

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【离子镀膜法之活性反应蒸镀法】：活性反应蒸镀法(ABE):利用电子束加热使膜材气化；依靠正偏置探极和电子束间的低压等离子体辉光放电或二次电子使充入的氧气、氮气、乙炔等反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，要对基板加热，蒸镀效率高，能获得三氧化铝(AL2O3)、氮化钛(TiN)、碳化钛(TiC)等薄膜；可用于镀机械制品、电子器件、装饰品。【离子镀膜法之空心阴极离子镀(HCD)】：空心阴极离子镀(HCD):利用等离子电子束加热使膜材气化；依靠低压大电流的电子束碰撞使充入的气体Ar或其它惰性气体、反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，要对基板加热，离化率高，电子束斑较大，能镀金属膜、介质膜、化合物膜；可用于镀装饰镀层、机械制品。重庆理想pvd真空镀膜设备

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