湖南国内真空镀膜设备形势

【离子镀膜法之活性反应蒸镀法】：活性反应蒸镀法(ABE):利用电子束加热使膜材气化；依靠正偏置探极和电子束间的低压等离子体辉光放电或二次电子使充入的氧气、氮气、乙炔等反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，要对基板加热，蒸镀效率高，能获得三氧化铝(AL2O3)、氮化钛(TiN)、碳化钛(TiC)等薄膜；可用于镀机械制品、电子器件、装饰品。【离子镀膜法之空心阴极离子镀(HCD)】：空心阴极离子镀(HCD):利用等离子电子束加热使膜材气化；依靠低压大电流的电子束碰撞使充入的气体Ar或其它惰性气体、反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，要对基板加热，离化率高，电子束斑较大，能镀金属膜、介质膜。真空镀膜设备怎么维修。湖南国内真空镀膜设备形势

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之破边、炸裂】：一般的镀膜会对基片加热，由于基片是装架在金属圈、碟内，由于镜圈或碟片与镜片（基片）的热膨胀系数不一致，冷却过程中会造成镜片的破便或炸裂。有些大镜片，由于出罩时的温度较高，与室温的温差较大，镜片的热应力作用造成镜片炸裂或破边。有些零件边缘倒边的形状容易造成卡圈而破边。改善对策：1.夹具（镜圈、碟片）的设计，在尺寸配合上要合理，充分考虑制造误差带来的影响。2.注意镜圈、碟片的变形，已经变形的夹具不能使用。3.选用合适的夹具才来哦（非导磁材料、不生锈、耐高温不变性），不锈钢较为理想（热变形系数小），就是加工难度大，价格贵。4.对于大镜片应降低出罩时的温度，减少温差，防止炸裂。5.如果时镜圈，可以考虑在镜圈上开槽，作为缓冲。四川真空镀膜设备构成真空镀膜设备为什么会越来越慢？

【光谱分光不良的补救（补色）之其他情况】：分光不良分为二种情况：一是全部膜系镀制完成后，经测试分光不良，此类不良主要按六节所述方法处理，一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断（包括发现错误中断）造成的分光不良，一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确，补救成功率比较高。中断的原因形式之其他情况：对于用错程序，错误操作（预熔未关闭挡板等）人为中断需要补救的；以及反光膜、滤光膜镀后需要补救的情况处理方案：模拟：将实测分光数据输入计算机膜系设计程序的优化目标值。通过计算机模拟（一般是Zui后一层的膜厚确认），找到与实现测试值结果相应的膜系数据。优化：根据模拟得到的膜系数据，输入产品要求的优化目标值，通过加层、优化后续膜层的方法，重新优化设计一个补救膜系。试镀：确认、完善补救膜系效果补救镀：完成补救工作

1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。3.晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。真空镀膜设备的应用。

【真空镀膜设备之真空的获得】：真空泵：真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空的器件或设备。通俗来讲，真空泵是用各种方法在某一封闭空间中改善、产生和维持真空的装置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分为两种类型，即气体捕集泵和气体传输泵。其广fan用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空，有油泵和干泵。从结构上可分几种：旋转叶片泵：油泵，极限真空可达10&3Torr，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵，极限真空1Torr左右，抽速<10CFM往复式活塞泵真空镀膜设备操作培训。湖北真空镀膜设备技术参数

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真空镀膜设备具有下列优点：沉积效率高、电离率高、设备操作简单、成本低、生产能力大，且镀膜具有耐磨、耐腐蚀、耐高温、附着力好和不易褪色等特点。行业：五金行业、卫浴行业、装饰行业、家用电器行业等。适用产品：水龙头、楼梯扶手、家用电器、LOGO标牌、不锈钢展架、不锈钢材及板材等。涂层效果：钛、玫瑰金、香槟金、日本金、银、七彩、蓝宝石、玫瑰红、黑色等。本系列设备安全、生态环境保护、工艺稳定、漆膜色泽丰富、色泽均匀、耐磨、耐腐蚀、耐高温、附着力好、不易褪色。湖南国内真空镀膜设备形势

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