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    二、光路的检修与维护光路调整的先决条件是：确保直流稳定电源、调制光源头、光纤、光栅单色仪、光电转换放大器、光学膜厚仪及各**电缆的完好和正确接入。特别是光电转换放大器、光学膜厚测量仪的接地点，必须单独归至主机接点牢固接地。三、光学镀膜机的清洗设备使用一个星期后（三班），因镀料除镀在工件表面外，亦因无定向性而工作室内的衬板上镀料，并越镀越厚，该层膜厚因组织、繞疏松，吸收大量气体而造成真空镀膜设备抽气越来越慢。此时，应对工作室及衬板进行清洗，如不必要拆落来的部件，可用砂纸打磨干净，衬板可浸泡在氢氟酸水溶液里，氢氟酸和水的比例看需要浸泡时间长短以及不伤衬板为原则。注：衬板必须烘干水份才能安装，烘干前，衬板的水分尽量抹干，工作架等部件用砂纸清洁后，需要把真空室的所有灰尘清理干净，此可用吸尘器吸干净灰尘。***安装衬板时，真空室及衬板都需要用酒精控拭干净。因使用电子枪及离子源辅助镀膜，可能会造成清洁困难，可使用喷沙等方法来清洁。 光学镀膜机可以制造出具有多层结构的薄膜，可以用于制造多种光学器件。陕西国产光学镀膜机南光

真空镀膜和光学镀膜有什么区别：一、概念的区别1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。上海光学镀膜机市场趋势光学镀膜机可以用于制造各种光学元件，如镜片、滤光片、反射镜等。

    【光学薄膜的研究新进展之软X射线多层膜】意大利、英国、法国、美国和俄罗斯等国对软X射线多层膜开展了广fan研究，软X射线的光谱区为1～30nm，据报道，不同波长的各种软X射线多层膜都取得了可喜的成绩。采用离子束溅射和磁控溅射等镀膜技术制备的软X射线多层膜，在X光激光器、X射线望远镜等高技术方面得到应用；近年来，X射线天文学、软X射线显微术、软X射线投影光刻以及软X射线激光均取得了很好的发展，其中软X射线多层膜起着关键作用。意大利和荷兰联合研制并成功发射了探测X射线的卫星以及发射了“多面镜X射线观测卫星”，均使用了软X射线多层膜；美国已多次发射带有正入射的X射线多层膜系统的卫星，得到了～″nm波段的高分辨率太阳图像。

    【镀膜玻璃的主要产生法之化学沉积法】化学气相沉积(chemicalvapourdeposition,CVD)是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物或单质气体，供给基板，利用气相反应，在基板表面上反应沉积出所需固体薄膜的工艺技术，该技术已成为镀膜玻璃生产的主要制备技术。在线CVD法镀膜技术，是在浮法玻璃生产过程中，连续沉积化合物薄膜的CVD工艺技术，是目前世界上比较先进的镀膜玻璃生产技术。它是以洁净、高速牵引(8-15m/min)、高温(600℃)的浮法玻璃为沉积衬底。换言之，薄膜沉积前，玻璃衬底即将离开锡槽但尚未进人退火窑，且未被处理净化。国外*早采用在线CVD法连续沉积Sn02薄膜，而我国*早是用该法生产硅质镀膜玻璃。目前，我国已基本掌握了在线CVD法镀膜技术，能够稳定地生产硅质镀膜玻璃、在线Low-E玻璃和在线自洁净玻璃。在线镀膜玻璃生产线包括：原料→熔窑→锡槽→退火窑→切割→装箱。 光学镀膜机是一种高精度的设备，可以在各种材料表面上制造出高质量的薄膜。

    【光学镀膜之减反射膜技术】1）镀膜前准备：镜片在接受镀膜前必须进行分子级的预清洗。在清洗槽中分别放置各种清洗液，并采用超声波加强清洗效果，当镜片清洗完后，放进真空舱内，在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。*后的清洗是在真空舱内，在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。*后的清洗是在真空舱内镀前进行的，放置在真空舱内的离子qiang将轰击镜片的表面（例如用氩离子），完成此道清洗工序后即进行减反射膜的镀膜。2）真空镀膜：真空蒸发工艺能够保证将纯质的镀膜材料镀于镜片的表面，同时在蒸发过程中，对镀膜材料的化学成分能严密控制。真空蒸发工艺能够对于膜层的厚度精确控制，精度达到。3）膜层牢固性：对眼镜片而言，膜层的牢固性是至关重要的，是镜片重要的质量指标。镜片的质量指标包括镜片抗磨损、抗文化馆、抗温差等。因此现在有了许多针对性的物理化学测试方法，在模拟戴镜者的使用条件下，对镀膜镜片进行膜层牢度质量的测试。这些测试方法包括：盐水试验、蒸汽试验、去离子水试验、钢丝绒磨擦试验、溶解试验、黏着试验、温差试验和潮湿度试验等等。 真空镀膜机详细镀膜方法。广东国产光学镀膜机市场

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    【光学镀膜之何为化学气相蒸镀，主要的优缺点有哪些】化学气相蒸镀乃使用一种或多种气体，在一加热的固体基材上发生化学反应，并镀上一层固态薄膜。优点:(1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如热喷覆(2)沉积速率快，大气CVD可以达到1μm/min(3)与PVD比较的话。化学量论组成或合金的镀膜较容易达成(4)镀膜的成份多样化，如金属、非金属、半导体、光电材料、钻石薄膜等等(5)可以在复杂形状的基材镀膜，甚至渗入多孔的陶瓷(6)厚度的均匀性良好，低压CVD甚至可以同时镀数十芯片缺点:(1)热力学及化学反应机制不易了解或不甚了解(2)需要在高温下进行，有些基材不能承受，甚至和镀膜产生作用(3)反应气体可能具腐蚀性、毒性或baozha性，处理时需小心(4)反应生成物可能残余在镀膜上，成为杂质。 陕西国产光学镀膜机南光

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