湖南光学镀膜机操作

【光学镀膜之什么是蒸发镀】通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。 薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。光学镀膜机技术教程；湖南光学镀膜机操作

    【光学镀膜机的维护与保养之电子qiang头和坩埚的维护】电子qiang的qiang头安装好坏直接影响到工作的正常进行，其发生的故障有90%同电子qiangqiang头有关。电子qiangqiang头有使用一段时间后，会因为组件的污染而影响电子束的成型及功率，需要拆卸清洁。拆坩埚之前，请先关掉水路用压缩空气把电子qiang冷却管内的水分尽可能吹干净。蒸发源装卸顺序：1.拆落两条冷却水连接管。2.拧出电子qiangqiang头连接高压线两个螺丝。3.拆坩埚传动连接座、联轴器。4.拧落蒸发源四个固定螺丝。5.把蒸发源搬运到一个稳定平整的工作台。6.拆落坩埚盖板四个螺丝，取下盖板打磨干净。7.检查盖板上面两个密封圈是否需要更换。8.把蒸发源反转过来倒置，用木板垫住坩埚部分。9.拧下固定坩埚转动四个螺丝10.抬起蒸发源，取下坩埚11.把坩埚倒置，拧下坩埚底盖的八个螺丝，清洗干净里面的污垢，检查是否需要近密封圈。12.拧下导水管的一个螺丝13.拧下坩埚转动机构与坩埚盖板连接的四个螺丝14.拨出坩埚转动轴，检查转动轴的油封是否需要换件15.把坩埚清洁干净安装。安装按上面的倒过顺序来进行。 山西光学镀膜机开发程序书光学镀膜机使用时，需要注意哪些问题?

真空镀膜和光学镀膜有什么区别：一、概念的区别1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

【镀膜玻璃的主要产生法之真空磁控溅射法】磁控溅射法的生产方式包括间歇式和连续式生产法，其中连续式生产法又可分为水平和垂直连续式生产两种。其中，水平连续式生产法是玻璃基片在水平输送过程中完成全部加工工艺的生产方式，以具有3个溅射室的双端机。 磁控溅射镀膜的优点主要有：①对靶材的面积和形状不作要求，且可实现大面积镀膜，且膜层均匀性好、膜厚可控、溅射工艺重复性好；②可用的膜材广fan，只要能做成靶材的任何材料都可实现溅射，因此可制备绝大多数材料的薄膜，包括合金和化合物等；③薄膜与基片的附着力强，膜层纯度高、致密；④成膜速度快，生产效率高。光学镀膜机是什么样的？

    二、光路的检修与维护光路调整的先决条件是：确保直流稳定电源、调制光源头、光纤、光栅单色仪、光电转换放大器、光学膜厚仪及各**电缆的完好和正确接入。特别是光电转换放大器、光学膜厚测量仪的接地点，必须单独归至主机接点牢固接地。三、光学镀膜机的清洗设备使用一个星期后（三班），因镀料除镀在工件表面外，亦因无定向性而工作室内的衬板上镀料，并越镀越厚，该层膜厚因组织、繞疏松，吸收大量气体而造成真空镀膜设备抽气越来越慢。此时，应对工作室及衬板进行清洗，如不必要拆落来的部件，可用砂纸打磨干净，衬板可浸泡在氢氟酸水溶液里，氢氟酸和水的比例看需要浸泡时间长短以及不伤衬板为原则。注：衬板必须烘干水份才能安装，烘干前，衬板的水分尽量抹干，工作架等部件用砂纸清洁后，需要把真空室的所有灰尘清理干净，此可用吸尘器吸干净灰尘。***安装衬板时，真空室及衬板都需要用酒精控拭干净。因使用电子枪及离子源辅助镀膜，可能会造成清洁困难，可使用喷沙等方法来清洁。 光学镀膜机故障维修技巧有哪些？江西光学镀膜机氧化钛

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    【光学镀膜法的应用之化学镀膜法和物理镀膜法】浸镀法是唯yi可以同时制作双面膜的方法。不过，后来的一些镜片设计要求，不需要双面膜。因此，必须将另一面清洗掉，增加了成本和环保的负担。喷镀法则是把配置好的膜溶液装在喷qiang上，喷在玻璃表面，并烘干和定型。玻璃载体可以是移动或旋转，以增加膜的均匀性。可镀双面或单面。以此方法延生的还有一种甩胶法。将溶液滴至镜片中心，利用镜片高速旋转的离心力，将溶液均匀的“抛”在表面上。以现在的观点来看，化学镀膜的好处，在于其设备投资低，因此它仍然是镀有机膜的一种常用且成本低廉的方法。化学镀膜法具有价格低，操作容易等优点，但也有相对污染较大，无法镀多层膜的缺点。新一代的镀膜技术改用物理方式，以真空蒸镀、离子镀等多种不同的形式进行。物理镀膜的过程是在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物或其反应物沉淀积在被镀基片表面的过程。物理镀膜的强度和均匀性普遍高于化学镀膜，而且Z重要的是物理镀膜可以进行多层镀膜，而化学镀膜受限于其工作原理基本只能实现单层镀膜。 湖南光学镀膜机操作

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