【离子镀膜法介绍】: 离子镀膜技术是在真空条件下,应用气体放电实现镀膜的,即在真空室中使气体或蒸发物质电离,在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下、同时将蒸发物或其反应产物蒸镀在基片上。根据不同膜材的气化方式和离化方式可分为不同类型的离子镀膜方式。膜材的气化方式有电阻加热、电子束加热、等离子电子束加热、高频感应加热、阴极弧光放电加热等。气体分子或原子的离化和激huo方式有:辉光放电型、电子束型、热电子型、等离子电子束型、多弧型及高真空电弧放电型,以及各种形式的离子源等。不同的蒸发源与不同的电离或激发方式可以有多种不同的组合。常用的组合方式有:直流二极型(DCIP)、多阴极型、活性反应蒸镀法(ABE)、空心阴极离子镀(HCD)、射频离子镀(RFIP)等。真空镀膜设备是什么?辽宁真空镀膜设备厂家公司
【真空镀膜设备之真空的获得】: 真空泵:真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空的器件或设备。通俗来讲,真空泵是用各种方法在某一封闭空间中改善、产生和维持真空的装置。 按真空泵的工作原理,真空泵基本上可以分为两种类型,即气体捕集泵和气体传输泵。其广fan用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。 A、粗真空泵(Rough Vacuum Pump):一般用于抽粗真空,有油泵和 干泵。从结构上可分几种: 旋转叶片泵:油泵,极限真空可达10&3Torr,抽速1~650CFM 隔膜泵:干泵,极限真空1Torr左右,抽速<10CFM 往复式活塞泵:干泵,极限真空10&2Torr,抽速6~32CFM 涡旋式真空泵:干泵,极限真空10&2Torr,抽速12~25CFM 螺旋泵:干泵,极限真空10&3Torr,抽速30~318CFM 重庆新北硅胶真空镀膜设备真空镀膜设备怎么保养?
【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜色差异】:膜色差异有两种(不含色斑),一种时整罩上、中、下膜色不一致,即分光测试曲线有差异;二是单片膜色不一致。改善对策:1.调整修正版,尽量考虑高低折射率膜料的平衡兼容,如果有两个蒸发源,可能的条件下,独li使用各自的修正板,避免干扰。2.条件许可,采用行星夹具。3.伞片整形。4.加强伞片管理。5.改善膜料状况6.能够自动预熔的膜料,尽量自动预熔注:修正板对物理膜厚的修正有效,但对折射率的修正是力不从心的,所以完全靠修正板解决分光均匀性,是很困难的。如果一个修正板对应二把电子抢(蒸发源)、以及多种膜料,就会有较大困难。
【真空镀膜简介】: 真空(vacuum)是一种没有任何物质的空间状态,因为真空之中没有介质,所以像声音这种需要介质传递的能量在真空中是无法传播的。1654年当时的马德堡市zhang奥&托&格里克在今tian德国雷根斯堡进行了一项实验,从而证明了真空是存在的。现在我们所说的真空并不是指空间内没有任何物质,而是指在一个既定的空间内低于一个大气压的气体状态,我们把这种稀薄的状态称为真空。现在的真空镀膜技术是在真空中把金属、合金进行蒸发、溅射使其沉积在目标物体上。 在当今电子行业,很多的电子元器件都要使用真空镀膜工艺,虽然我国的真空镀膜技术起步较晚,但发展的十分迅速。真空镀膜已经成为电子元器件制造的一项不可或缺的技术。目前的真空镀膜技术主要分为:真空蒸镀、磁控溅射镀膜、离子镀。真空镀膜设备大概多少钱一台?
【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之破边、炸裂】: 一般的镀膜会对基片加热,由于基片是装架在金属圈、碟内,由于镜圈或碟片与镜片(基片)的热膨胀系数不一致,冷却过程中会造成镜片的破便或炸裂。 有些大镜片,由于出罩时的温度较高,与室温的温差较大,镜片的热应力作用造成镜片炸裂或破边。有些零件边缘倒边的形状容易造成卡圈而破边。 改善对策: 1. 夹具(镜圈、碟片)的设计,在尺寸配合上要合理,充分考虑制造误差带来的影响。 2. 注意镜圈、碟片的变形,已经变形的夹具不能使用。 3. 选用合适的夹具才来哦(非导磁材料、不生锈、耐高温不变性),不锈钢较为理想(热变形系数小),就是加工难度大,价格贵。 4. 对于大镜片应降低出罩时的温度,减少温差,防止炸裂。 5. 如果时镜圈,可以考虑在镜圈上开槽,作为缓冲。成都国泰真空镀膜设备怎么样?安徽真空镀膜设备厂
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【离子镀的历史】: 真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步,我国也有将近30多年的离子镀研究进程。 【离子镀的原理】: 蒸发物质的分子被电子撞击后沉积在固体表面称为离子镀。蒸发源接阳极,工件接阴极,当通以三至五千伏高压直流电以后,蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于 真空罩内充有惰性氩气,在放电电场作用下部分氩气被电离,从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引,猛烈地轰击工件表 面,致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出,从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后,接通蒸发源交流电源,蒸发料粒子熔化蒸发,进入辉光放电区并 被电离。带正电荷的蒸发料离子,在阴极吸引下,随同氩离子一同冲向工件,当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘 附于工件表面的镀层。 【离子镀的优缺点】: 优点:膜层附着力好,膜层致密,具有绕度性能,能在形状复杂的零件表面镀膜。 缺点:离子镀的应用范围不广;膜与基体间存在较宽的过渡界面。会有气体分子吸附。 辽宁真空镀膜设备厂家公司
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