企业商机
射频离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 射频离子源
射频离子源企业商机

【如何减少真空镀膜的灰尘】1、使用的源材料要符合必要的纯度要求。2、样品取出后放置环境要注意清洁的问题。3、镀膜一段时间后,真空室内壁必须要清洁处理。4、清洗衬底材料,必须要做到严格合乎工艺要求。5、工作人员有专门的服装,操作要戴手套、脚套等。6、适当的增加环境的湿度,有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。7、技术上明确允许的较da颗粒尺寸和单位面积颗粒物的数量的上限da致是多少。8、室内空气流动性低、地面干净,如果是裸露的水泥地,需要覆盖处理。墙壁、屋顶不能使用一般的灰质涂料粉刷。成都国泰真空镀膜机怎么样?湖南射频离子源

    所述叶片远离底座的一侧面上设有相较固定轴位置靠近叶片尾端的导柱,所述滑环上设有可供导柱伸入其中滑动以在滑环旋转时带动叶片的尾端绕叶片首端转动的导槽,所述导槽呈弧形设置。进一步的,所述滑环的外周设有齿圈,所述驱动组件包括能与齿圈啮合的齿轮及驱动齿轮转动的伺服电机。一种射频离子源离子束束径控制装置,其特征在于:包括一真空腔体、控制器以及设于真空腔体中的离子束发生器、束径约束器和驱动器,所述束径约束器设置在离子束发生器前端,所述驱动器与束径约束器的驱动机构相连以控制驱动机构动作,所述控制器分别与束径约束器及驱动器相连。进一步的,所述离子束发生器包括离子束发生器外壁以及位于离子束发生器外壁内并位于离子束前端的平面栅网。进一步的,所述驱动器为微型电机。一种射频离子源离子束束径控制方法,其特征在于:s1,对真空腔体进行抽真空;s2,打开离子束发生器,调整电压电流参数;s3,在控制器的输入界面中输入离子束束径值;s4,点击控制器的执行按钮,控制器向驱动器发出指令,驱动器控制驱动机构动作;s5,驱动组件驱动滑环转动并带动导柱在导槽中滑动,叶片绕固定轴转动使光阑大小与输入的离子束束径值一致。与现有技术相比。福建离子束清洗射频离子源源头实力厂家真空镀膜机使用时,需要注意哪些问题?

    本发明涉及离子束溅射镀膜及超精密抛光技术领域,尤其涉及一种射频离子源离子束束径约束器、束径控制装置及方法。背景技术:离子束超精密加工研究中,离子源起着非常重要的作用。离子源是产生离子束流的装置,又是离子束设备中的关键部件。不论是光学薄膜的制备还是纳米尺度的离子束刻蚀和抛光,高性能的离子束流都是不可缺少的。目前采用的离子束源主要有考夫曼离子源、微波ecr离子源和射频离子源,其工作原理是利用气体放电产生等离子体,等离子体由电子、离子和中性粒子所组成,并被引出成束,成为离子源。射频离子源由德国giessen大学,,从电火箭空间应用向地面应用扩展而来。这种离子源具有结构简单、无极放电的优点,因而对任何气体特别是反应气体具有长寿命、效率高的特点。采用射频离子源镀制的膜层具有吸收少、漂移小、效率高、致密性好、牢固性高等优点;同时,射频离子源离子束抛光在超精密光学元件的**终加工中应用也非常***,是一种去除精度达到原子级别的抛光技术,被认为是加工精度**高,修形效果**好的光学元件修形技术,在此过程中,具有一定能量和空间分布的离子束流轰击光学元件表面,利用轰击时发生的物理溅射效应去除光学元件表面材料。

国泰真空射频离子源采用通用的LC高频谐振原理,使用可调电容快速调谐,使整个负载阻抗匹配到50Ώ,从而使功率输出比较大,电离化效率比较高,调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位,并带锁止和记忆功能,以满足负载在不同的真空环境、不同国泰射频离子源采用通用的LC高频谐振原理,使用可调电容快速调谐,使整个负载阻抗匹配到50Ώ,从而使功率输出比较大,电离化效率比较高,调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位,并带锁止和记忆功能,以满足负载在不同的真空环境、不同阻抗快速点火。射频部分匹配采用了硬件反馈和软件提前记忆并预判的技术;直流引入快速灭弧技术,同时提高了射频和直流部分的稳定性,软件设置了自检和自诊断功能,即:使用前系统自检,使用中即时刷新,对非调整性输入的变化提前警报并告知客户做好预案。射频离子源可用于制备纳米材料、薄膜、光学器件等高科技产品。

【真空镀膜的膜层结构分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等树脂类均可成型真空电镀,要求底材为纯原料,电镀级别更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,对基材表面做预处理,为膜层的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情况可酌情加厚;膜层:靶材蒸发的结果,VM膜层可导电,NCVM镀层不导电,且抗干扰性效果很好,膜层厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可与色浆搭配出各类顏色,同時对真空膜层起保护作用,再加上UV、PU的表面装饰,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。真空镀膜机厂家qian十。山东光学镀膜射频离子源制造生产

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【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源,在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除。清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系。即取决于单位表面积上的离子数和离子能量,从而取决于有效电功率。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(典型的如Ar气),可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。该方法中,惰性气体被离化并轰击真空室内壁、真空室内的其它结构件及被镀基片,它可以使某些真空系统免除被高温烘烤。如果在充入的气体中加入氧气,对某些碳氢化合物可以获得更好的清洗效果。因为氧气可以使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气体而容易被真空系统排除。不锈钢高真空和超高真空容器表面上杂质的主要成分是碳和碳氢化合物。湖南射频离子源

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