企业商机
空心阴极霍尔离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 空心阴极霍尔离子源
空心阴极霍尔离子源企业商机

【真空镀膜机操作工艺流程】首先开水、电、气→总电源→开维持泵→开扩散泵加热→开粗抽泵→开预抽阀→关预抽阀→开粗抽阀→开罗茨泵→如有离子轰击,开轰击30秒,关轰击→开真空计→当真空到,关粗抽阀→开前置阀→开精抽阀,当真空达到7x10-3pa,开转架→开始镀膜操作→镀膜完毕后,关闭真空计、离子源→关精抽阀,前置阀→关罗茨泵→开抽气阀,取件→上料,反复开始操作。特别注意:1.设备停用时,镀膜室要保持真空状态,减少内表面气体的吸附,防止氧化。2.冷却水通道场下才能对扩散泵进行加热,未经充分冷却的泵不得与da气接触,防止氧化。3.要保证机器内扩散泵和机械泵的油定期检查和更换。4.设备运行中遇有停电或其它事故发生,须先停扩散泵,关精抽阀,前置阀和真空计。5.产品做完下班后,关了扩散泵后须待温度降低至60℃后才能关维持泵。真空镀膜机品牌排行。天津玻璃镀膜空心阴极霍尔离子源源头实力厂家

【真空镀膜机之电镀工艺】利用电解作用使零件表面附着一层金属膜的工艺,从而起到防止金属氧化,提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性及增进美观等作用,不少硬币的外层亦为电镀。适用材料:多数金属可以进行电镀但是不同的金属具有不同等级的纯度和电镀效率。其中常见的有:锡,铬,镍,银,金和铑;2.常用于电镀的塑料为ABS。3.镍金属不可用于电镀接触皮肤的产品,因为镍对皮肤有刺激性且有毒性。工艺成本:无模具费用,但需要夹具对零件进行固定/时间成本取决于温度和金属种类/人力成本(中-高),取决于具体电镀件的种类,例如银器和珠宝的电镀就需要极高的熟练工人进行操作,因为其对外观和耐久性的要求很高环境影响:da量有毒物质会被用在电镀过程中,所以需要专业的分流和提取,以确保小的环境影响。吉林AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源源头实力厂家空心阴极霍尔离子源可用于制备高纯度的金属、合金和化合物材料。

【真空镀膜机真空检漏方法普及之荧光检漏法】荧光检漏法首先需要将荧光材料溶于如丙tong等一些浸润性能好、易于挥发的有机溶剂中,使之成为饱和溶液;然后将被检的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面,这一过程中,为了提升效果、缩短浸泡时间,可以在抽真空或者加压条件下对其进行浸泡。如果存在漏孔,荧光剂溶液会因毛细作用渗入到其中;qing除表面多余的溶液,待有机溶剂挥发后,荧光材料便会在漏孔中残留下来;此时再用紫外线灯光照射,漏孔位置就会观察到明显的荧光点。在进行紫外光源照射时,对于一些存在盲孔、表面不平的器件,可能也会存在残留荧光材料,因此玻璃真空器件好在背面进行照射观察;为了提高对比度也可以采用滤光放da镜,过滤掉紫外线以外的其他光线,来获得更佳的观察效果;而在荧光材料的选择时要注意其发光颜色和被检真空部件的颜色要有明显的反差。荧光检漏法不仅用于真空系统检漏中,而且也被用于铸件、模压金属件以及焊接件的裂纹检查等。

【真空镀膜机之真空泵的安装和指导】真空泵安装指导1、泵应安装在地面结实坚固的场所,周围应留有充分的余地,便于检查、维护、保养。2、泵底座下应保持地基水平,底座四角处建议垫减震橡皮或用螺栓浇制安装,确保泵运转平稳,振动小。3、泵与系统的连接管道应密封可靠,对小泵可采用金属管路连接密封垫采用耐油橡胶,对小泵可采用真空胶管连接,管道管径不得小于泵吸气口径,且要求管路短而少弯头。(焊接管路时应qing除管道中焊渣,严禁焊渣进入泵腔。)4、在连接管路中,用户可在泵进气口上方安装阀门及真空计,随时可检查泵的极限压力。5、按电动机标牌规定连接电源,并接地线和安装合适规格的熔断器及热继电器。6、泵通电试运转时,须取下电机皮带,确认泵转向符合规定方向方可投入使用,以防泵反转喷油。(转向按防护罩指示方向)7、对于有冷却水的泵,按规定接通冷却水。8、如泵口安装电磁阀时,阀与泵应同时动作。9、当泵排出气体影响工作环境时,可在排气口装接管道引离或装接油雾过滤器。电子束蒸发真空镀膜机是什么?

【真空镀膜机镀塑料件时抽真空时间过长是什么原因?】(1)真空室有漏气现象:da家都知道,真空蒸发镀膜机是的基本条件是工件在真空状态下才能进行镀膜加工的,若真空室有漏气现象而没有经过检漏找出漏气位置,则真空镀很长时间都不能抽得上来的;(2)即使真空室没有漏气,因为塑料产品的放气量da,所以抽真空,特别是高真空很难达到。真空室内太脏放气,而且由于塑料产品的放气,造成真空室内镀膜气体的不纯,有杂气的存在,造成镀膜产品的颜色发暗,发黄,发黑等。(3)也许是真空机组的抽气能力不够了,油被污染或氧化了。真空镀膜机的主要用途?湖南真空镀膜空心阴极霍尔离子源厂家

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【真空镀膜之离子束溅射镀膜】离子束溅射沉积法在离子源内由惰性气体(通常为氩)产生具有较高能量的离子轰击靶材料,把靶材料沉积到基片上的方法。离子束溅射沉积法的一da优点是基片相对于离子源和靶是du立的,它的温度可以单独控制。基片通常接地位,它和靶与高频电路无关,不会象阴极溅射镀膜那样受到高能电子的轰击,因而温度较低。所以只要配置一台较好的恒温循环器(如HX1050型,控温范围为-10℃~50℃,精度≤0。5℃),实现对样品台的单独控温,就可以根据不同样品的要求以及薄膜生长不同阶段的温度需要进行适当调节。根据现有离子束溅射设备的构造,设计、加工了专门的金属样品架,放上样品后盖上金属压片,用螺丝紧密地固定在镀膜腔体的样品台上,可使样品和控温的样品台有良好的热接触。并在样品架中放置了一个测温铂电阻,用螺丝把金属压片连同其下的铂电阻一起固定压紧,再用导线引出与高精度的万用表相连,以监测薄膜生长过程中的样品温度。天津玻璃镀膜空心阴极霍尔离子源源头实力厂家

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