重庆离子束辅助沉积射频离子源批发价格

【真空镀膜机电控柜的操作】1、玻璃真空镀膜机开水泵、气源2、开总电源3、开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。4、开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。5、观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子qiang电源。真空镀膜机抽真空步骤。重庆离子束辅助沉积射频离子源批发价格

【真空镀膜机之卷绕机构设计中应考虑的问题】①提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度，它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min，现在也只有80m/min～120m/min，在国外日本的EW系列产品中，其卷绕速度已达到300m/min，德国L．H公司生产的镀膜机已达到600m/min，可见随着镀膜技术的发展，卷绕速度有待提高。②带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要，因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定，才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜（如电容器膜）尤为重要。③带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高，带状基材在卷绕镀膜过程中，起褶和发生偏斜，严重时会造成基材的断裂，使生产中断，既影响生产效率，又浪费材料。因此，在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。江苏离子束清洗射频离子源怎么选射频离子源可用于制备纳米材料、薄膜、光学器件等高科技产品。

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为：基材、底漆、真空膜层、面漆，因靶材理化特性直接决定膜层的特性，根据膜层的导电与否，可分为导电真空镀膜（VM）和不导电真空镀膜（NCVM）两种。VM：一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理，其表面效果与水电镀相媲美，靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM：具有金属质感、透明，但不导电，一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理，其表面效果为水电镀不可取代，靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上，抽的速度会显然变慢，当操作不当应拆去联结水管，卸下电炉盘，将一级喷嘴拧出，先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍，再用洗衣粉兑水清洗一遍，然后用清水彻底清洗干净，待水份挥发干以后，装好泵胆，加入新扩散泵油，并装回机体，接好水管，装好电炉盘，便可以重新开机。在重新开机前，要注意检漏工作。

【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材须以射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属＜5W/cm2。真空镀膜机是什么样的？

【真空镀膜机之卷绕式镀膜机】镀膜产品广fan用于装饰、包装、电容器等领域中，可镀光学、电学、电磁、导电等多种薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、纸、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量为1%～2%，纸含水量更da，一般为5%-7%，经涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故镀膜室由初始的单室发展到目前双室或多室结构。蒸发源可以是电阻式、感应式、电子柬式以及磁控溅射式。双室结构应用普遍，其优点是：①可以蒸镀放气量较da的纸基材，并能保障镀膜质量。纸放出的da量气体从卷绕室中被排走。由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小，使放出来的气体不易进入蒸镀室中；②单室结构必须配置较da的排气系统才能保障蒸镀时的工作压力，而双室结构中的蒸镀室气体量较小，可配小型抽气机组，使设备成本降低，并节约能源；③卷绕室与蒸镀室分别抽气，可缩短抽气时间。卷绕式真空镀膜机在结构上除了有一般镀膜机所有的结构外，必须有一个为了实现连续镀膜而设置的卷绕机构。由于被镀基体是纸或塑料，放气量较da，因此，在真空室的结构上又有单室和多室之分。射频离子源可用于环保领域，如废水处理、空气净化等。广西大直径射频离子源批发价格

国产真空镀膜机厂商推荐。重庆离子束辅助沉积射频离子源批发价格

    达到修正面形误差的目的，其加工精度达到纳米级。射频(rf)离子源采用磁感应产生等离子体，因此是无极放电，放电室内钨灯丝作为阴极，钨灯丝可在反应气体中长时间工作，**降低了对离子束带来的污染。由于射频感应产生的等离子体中只有单电荷离子而几乎没有双电荷离子，因此使屏栅溅射引起的污染尤为小，同时也增加了离子束的均匀性。rf射频离子源采用特殊的三栅离子光学系统，既提高了拔出效率，又保证了结构的热稳定性及防污染的可靠性。离子源工作时，气体通过石英放电室，通过，离化气体产生等离子体。带电粒子经由静电场加速，控制离子束电压，增大放电室功率，提高放电等离子体浓度，在经过离子三栅光学系统的聚焦加速形成一定能量的离子束。现有技术中的射频离子源离子束束径是通过位于离子源内部的三级栅网设计的位置及形状进行调节的，调节时需要反复更换栅网以实现束径调节，调节效率低，同时，现有的栅网均为曲面栅网，如图1所示，从而使得加工制造较为困难，并且很难保证曲面弧度及孔径的加工精度，加工成本高。技术实现要素：鉴于上述问题，本发明的目的在于提供一种束径调节方便的射频离子源离子束束径约束器。重庆离子束辅助沉积射频离子源批发价格