【离子镀的历史】: 真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步,我国也有将近30多年的离子镀研究进程。 【离子镀的原理】: 蒸发物质的分子被电子撞击后沉积在固体表面称为离子镀。蒸发源接阳极,工件接阴极,当通以三至五千伏高压直流电以后,蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于 真空罩内充有惰性氩气,在放电电场作用下部分氩气被电离,从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引,猛烈地轰击工件表 面,致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出,从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后,接通蒸发源交流电源,蒸发料粒子熔化蒸发,进入辉光放电区并 被电离。带正电荷的蒸发料离子,在阴极吸引下,随同氩离子一同冲向工件,当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘 附于工件表面的镀层。 【离子镀的优缺点】: 优点:膜层附着力好,膜层致密,具有绕度性能,能在形状复杂的零件表面镀膜。 缺点:离子镀的应用范围不广;膜与基体间存在较宽的过渡界面。会有气体分子吸附。 真空镀膜设备怎么保养?辽宁真空镀膜设备机械
【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之灰点脏】: 现象:镜片膜层表面或内部有一些电子(不是膜料点),有些可擦除,有些不能擦除。并且会有点状脱膜产生。 原因: 1. 真空室脏 2. 镜圈或碟片脏 3. 镜片上伞时就有灰尘点,上伞时没有检查挑选。 4. 镀制完成后的环境污染是膜外灰点的主要成因,特别是当镜片热的时候,更容易吸附灰尘,而且难以擦除。 改善思路:杜绝灰尘源 1. 工作环境改造成洁净车间,严格按洁净车间规范实施。 2. 尽可能做好环境卫生。尽量利用洁净工作台。 3. 真空室周期打扫,保持清洁。 广东真空镀膜设备质量真空镀膜设备机组介绍。
【真空镀膜真空的基本概念】: 真空的划分: 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 极高真空 <10E&12Torr 流导(导通量):表示真空管道通过气体的能力,单位为升/秒(L/S)。一般情况下,管道越短,直径越大,表面越光滑,越直的管道流导也越大。 流量:单位时间内流过任意截面的气体量,单位为Torr·L/s或Pa·L/s。 抽气速率:在一定的压强和温度下,单位时间内由泵进气口处抽走的气体称为抽气速率,简称抽速。单位一般为L/S或m3/hr或CFM。 极限真空:真空容器经充分抽气后,稳定在某一真空度,此真空度称为极限真空。
【溅射镀膜定义】: 定义:所谓溅射,就是这充满腔室的工艺气体在高电压的作用下,形成气体等离子体(辉光放电),其中的阳离子在电场力作用下高速向靶材冲击,阳离子和靶材进行能量交换,使靶材原子获得足够的能量从靶材表面逸出(其中逸出的还可能包含靶材离子)。这一整个的动力学过程,就叫做溅射。入射离子轰击靶面时,将其部分能量传输给表层晶格原子,引起靶材中原子的运动。有的原子获得能量后从晶格处移位,并克服了表面势垒直接发生溅射;有的不能脱离晶格的束缚,只能在原位做振动并波及周围原子,结果使靶的温度升高;而有的原子获得足够大的能量后产生一次反冲,将其临近的原子碰撞移位,反冲继续下去产生高次反冲,这一过程称为级联碰撞。级联碰撞的结果是部分原子达到表面,克服势垒逸出,这就形成了级联溅射,这就是溅射机理。当级联碰撞范围内反冲原子密度不高时,动态反冲原子彼此间的碰撞可以忽略,这就是线性级联碰撞。真空镀膜设备真空度多少?
【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之划痕(膜伤)】: 划痕是指膜面内外有道子,膜内的称划痕,膜外的称膜伤。这也是镀膜品质改善中的一个顽症,虽然很清楚产生的原因和改善方法,但难以。 产生原因: 膜内划痕: 1. 前工程外观不良残留。 2. 各操作过程中的作业过水造成镜片划痕 3. 镜片摆放太密,搬运过程中造成互相磕碰 4. 镜片的摆放器具、包装材料造成镜片表面擦伤 5. 超声波清洗造成的伤痕 膜外伤痕(膜伤): 1. 镜片的摆放器具、包装材料造成的膜伤。 2. 镀后超声波清洗造成的膜伤。 3. 各作业过程作业过失造成的膜伤。 改善对策: 1. 强化作业员作业规范 2. 订立作业过失清单,监督作业员避免作业过失 3. 改善镜片摆放间隔 4. 改善镜片搬运方法 5. 改善摆放器具、包装材料 6. 改善超声波清洗工艺参数 7. 加强前工程检验和镀前检查真空镀膜设备公司排名。湖北蒸发真空镀膜设备
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在真空镀膜设备中需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程形成薄膜。真空镀膜机对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。辽宁真空镀膜设备机械