企业商机
射频离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 射频离子源
射频离子源企业商机

【不同类型镀膜机应用范围介绍】不同类型镀膜机的适用范围介绍1.磁控溅射镀膜设备:应用于信息存储领域,如磁信息存储、磁光信息存储等2.磁控溅射镀膜机:应用于防护涂层,如飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等3.磁控溅射镀Al膜生产线:应用于太阳能利用领域,如太阳能集热管、太阳能电池等4.AZO透明导电膜磁控溅射镀膜生产线:应用于信息显示领域,如液晶屏、等离子屏等5.触摸屏连续式镀膜生产线:应用于触摸屏领域,如手机、电脑、MP4等数码产品屏幕等。6.磁控中频多弧离子镀膜设备:应用于硬质涂层,如切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等。7.PECVD磁控生产线:应用于集成电路制造,如薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等。8.蒸发式真空镀膜设备:应用于在装饰饰品上,如手机壳、表壳、眼镜架、五金、小饰品等镀膜。9.低辐射玻璃镀膜生产线:应用于建筑玻璃方面,如阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。10.抗反射导电膜连续磁控溅射生产线:应用于电子产品领域,如液晶显示器、液晶电视、MP4、车载显示、手机显示、数码相机和掌上电脑等。真空镀膜机机组是怎样的?云南光学薄膜射频离子源专业生产

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为:基材、底漆、真空膜层、面漆,因靶材理化特性直接决定膜层的特性,根据膜层的导电与否,可分为导电真空镀膜(VM)和不导电真空镀膜(NCVM)两种。VM:一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理,其表面效果与水电镀相媲美,靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM:具有金属质感、透明,但不导电,一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理,其表面效果为水电镀不可取代,靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上,抽的速度会显然变慢,当操作不当应拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作。首先启动维持泵,关好da门,数分钟后,观察扩散泵部分真空度是否达到标准,否则要进行检漏。检查联接处的密封圈是否正常。重庆光学镀膜射频离子源源头实力厂家锦成国泰真空镀膜机怎么样?

【真空镀膜之离子束溅射镀膜】离子束溅射沉积法在离子源内由惰性气体(通常为氩)产生具有较高能量的离子轰击靶材料,把靶材料沉积到基片上的方法。离子束溅射沉积法的一da优点是基片相对于离子源和靶是du立的,它的温度可以单独控制。基片通常接地位,它和靶与高频电路无关,不会象阴极溅射镀膜那样受到高能电子的轰击,因而温度较低。所以只要配置一台较好的恒温循环器(如HX1050型,控温范围为-10℃~50℃,精度≤0。5℃),实现对样品台的单独控温,就可以根据不同样品的要求以及薄膜生长不同阶段的温度需要进行适当调节。根据现有离子束溅射设备的构造,设计、加工了专门的金属样品架,放上样品后盖上金属压片,用螺丝紧密地固定在镀膜腔体的样品台上,可使样品和控温的样品台有良好的热接触。并在样品架中放置了一个测温铂电阻,用螺丝把金属压片连同其下的铂电阻一起固定压紧,再用导线引出与高精度的万用表相连,以监测薄膜生长过程中的样品温度。

【真空镀膜设备捡漏需注意】真空镀膜设备检漏是保证真空镀膜设备真空度的一项检查措施,简称检漏,真空度的高低是直接影响到镀膜效果的,所以检漏是必不可少的。一、要确认漏气到底的虚漏还是实漏。因为工件材料加热后都会在不同程度上产生气体,有可能误以为是从外部流进的气体,这就是虚漏,要排除这种情况。二、测试好真空室的气体密封性能。确保气密性能符合要求。三、检查漏孔的da小,形状、位置,漏气的速度,制备出可解决方案并实施。四、确定检测仪器的小可检漏率和检漏灵敏性,以da范围的检测出漏气情况,避免一些漏孔被忽略,提高检漏的准确性。五、把握检漏仪器的反应时间和消除时间。把时间掌握好,保证检漏仪器工作到位,时间少了,检漏效果肯定差,时间长了,浪费检漏气体和人工电费。六、还要避免漏孔堵塞。有时由于操作失误,检漏过程中,一些灰尘或液体等把漏孔堵塞了,以为在该位置没有漏孔,但当这些堵塞物由于内外压强差异提高或其他原因使漏孔不堵了,那漏气还是存在的。为真空镀膜设备做好检漏工作是很重要的,造成真空度下降的原因多种多样,我们要一一的解决这些原因,稳定镀膜的效果。真空镀膜机的升级改造。

【真空镀膜设备设计原则及常用技术指标】真空设备设计原则:(1)先功能,后结构。先给出指标参数、生产要求、功能;(2)先核xin后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距;(3)先局部,后整体。再由整体,定局部。(4)先设计,后校核。由粗到细。镀膜机常用技术指标:镀膜方法:CVD,PVD(蒸发、溅射、离子镀、复合镀);被镀工件的形状、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生产方式:连续、半连续、周期式。生产周期。生产量。生产速率。技术参数;设备极限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作气氛;漏率、抽空时间、恢复真空时间。工作(烘烤)温度;(热处理炉、冻干机)膜厚不均匀程度;功率;高电压。真空镀膜机真空度多少?山西真空镀膜射频离子源

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【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为:基材、底漆、真空膜层、面漆,因靶材理化特性直接决定膜层的特性,根据膜层的导电与否,可分为导电真空镀膜(VM)和不导电真空镀膜(NCVM)两种。VM:一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理,其表面效果与水电镀相媲美,靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM:具有金属质感、透明,但不导电,一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理,其表面效果为水电镀不可取代,靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上,抽的速度会显然变慢,当操作不当应拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。云南光学薄膜射频离子源专业生产

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