江西平面真空镀膜设备

【真空镀膜之真空的概念】：“真空”是指在给定空间内低于一个大气压力的气体状态，也就是该空间内气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。不同的真空状态，就意味着该空间具有不同的分子密度。在标准状态（STP：即0℃，101325Pa，也就是1标准大气压，760Torr）下，气体的分子密度为2.68E24/m3，而在真空度为1.33E&4Pa（1E&6Torr）时，气体的分子密度只有3.24E16/m3。完全没有气体的空间状态为Jue对真空。Jue对真空实际上是不存在的。真空镀膜机真空四个阶段。江西平面真空镀膜设备

【真空镀膜设备之真空的获得】：真空泵：真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空的器件或设备。通俗来讲，真空泵是用各种方法在某一封闭空间中改善、产生和维持真空的装置。按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分为两种类型，即气体捕集泵和气体传输泵。其广fan用于冶金、化工、食品、电子镀膜等行业。A、粗真空泵（RoughVacuumPump）：一般用于抽粗真空，有油泵和干泵。从结构上可分几种：旋转叶片泵：油泵，极限真空可达10&3Torr，抽速1~650CFM隔膜泵：干泵，极限真空1Torr左右，抽速<10CFM往复式活塞泵：干泵，极限真空10&2Torr，抽速6~32CFM涡旋式真空泵：干泵，极限真空10&2Torr，抽速12~25CFM螺旋泵：干泵，极限真空10&3Torr，抽速30~318CFM广东塘下镇真空镀膜设备公司真空镀膜设备机组介绍。

【真空镀膜机概述】： 真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子抢加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。 真空镀膜机构造的五大系统：排气系统、控制系统、蒸镀系统、监控系统、辅助系统。 真空镀膜三要素：真空度、抽气时间、温度；任何镀膜工艺都需要为这三个要素设定目标值；因此，只有当三个条件同时满足时，自动化程序才会自动运行。 真空镀膜机需要做定期定期保养，目的在于：让镀膜机能长时间地正常运转；降低故障时间，避免影响产能，减少损失；提高机器精度，稳定品质；加快抽气速度，提升机器利用率等。

【真空镀膜设备使用步骤】1电控柜的操作1)开水泵、气源2)开总电源3)开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。4)开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。5)观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。2DEF-6B电子枪电源柜的操作1)打开总电源2)同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。3)开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。3关机顺序1)关高真空表头、关分子泵。2)待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。3)到50以下时，再关维持泵。真空镀膜设备培训资料。

【真空镀膜改善外层膜表面硬度】： 减反膜一般外层选用MgF2,该层剖面是较为松散的柱状结构，表面硬度不高，容易擦拭出道子。改善外层表面硬度的方法包括： 1. 在膜系设计允许的条件下，膜外层加10nm左右的二氧化硅膜层，二氧化硅的表面光滑度优于氟化镁（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化镁）。镀膜后离子轰击几分钟，牢固度效果会更好。（但表面会变粗） 2. 镜片取出真空室后，放置在较为干燥洁净的地方，防止镜片快速吸潮，表面硬度降低。真空镀膜设备哪个牌子的好？浙江磁控溅射真空镀膜设备厂家

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【离子镀膜法之射频离子镀】： 射频离子镀(RFIP):利用电阻或电子束加热使膜材气化；依靠射频等离子体放电使充入的真空Ar及其它惰性气体、反应气体氧气、氮气、乙炔等离化。这种方法的特点是：基板温升小，不纯气体少，成膜好，适合镀化合物膜，但匹配较困难。可应用于镀光学器件、半导体器件、装饰品、汽车零件等。射频离子镀膜设备对周遭环境没有不利影响，符合现代绿色制造的工业发展方向。目前，该类型设备已经guang泛用在硬质合金立铣刀、可转位铣刀、焊接工具、阶梯钻、钻头、铰刀、油孔钻、车刀、异型刀具、丝锥等工具的镀膜处理上。 此外，离子镀法还包括有低压等离子体离子镀，感应离子加热镀，集团离子束镀和多弧离子镀等多种方法。江西平面真空镀膜设备