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空心阴极霍尔离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 空心阴极霍尔离子源
空心阴极霍尔离子源企业商机

【真空镀膜机详细资料】系统概述真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。常用于对半导体、光伏、电子、精密光学等行业的纳米级表面处理。系统原理通过电子枪发射高压电子轰击坩埚中的待镀靶材,使其在高真空下蒸发并沉积在被镀基片上以获得镀膜。系统配置*自动化控制器:e-ControlPLC,是控制系统的硬件平台。人机界面硬件:TPC1503工业级15寸触摸式平板电脑,稳定可靠。人机界面软件:NETSCADA组态软件开发平台,提供真空镀膜机的控制和监视。真空镀膜机日常怎么维护?北京空心阴极霍尔离子源制造生产厂家

【真空镀膜机冲洗工艺之反应气体冲洗】这种方法特别适用于da型超高不锈钢真空系统的内部洗(去除碳氢化合物污染)。通常对于某些da型超高真空系统的真空室和真空元件,为了获得原子态的清洁表面,消除其表面污染的标准方法是化学清洗,真空炉焙烧、辉光放电清洗及原能烘烤真空系统等方法。以上的清洗和除气方法常用于真空系统安装前及装配期间。在真空系统安装后(或系统运行后),由于真空系统内的各种零部件已经被固定,这时对它们进行除气处理就很困难,一旦系统受到(偶然)污染(主要是da原子数的分子如碳氢化合物的污染),通常要拆卸后重新处理再安装.而用反应气体工艺,可以进行原位在线除气处理.有效地除去不锈钢真空室内的碳氢化合物的污染.其清洗机理:在系统中引述氧化性气体(O2、N0)和还原性气体(H2、NH3)对金属表面进行化学反应清洗,消除污染,以便获得原子态的清洁金属表面。表面氧化/还原的速率取决于污染的情况及金属表面的材质,表面反应速率的da小通过调整反应气体的压力和温度来控制。对于每一种基材而言,精确的参数要通过实验来确定.对于不同的结晶取向,这些参数是不同的。北京空心阴极霍尔离子源制造生产厂家空心阴极霍尔离子源具有易于操作、维护成本低等优点。

【真空镀膜机真空检漏方法普及之荧光检漏法】荧光检漏法首先需要将荧光材料溶于如丙tong等一些浸润性能好、易于挥发的有机溶剂中,使之成为饱和溶液;然后将被检的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面,这一过程中,为了提升效果、缩短浸泡时间,可以在抽真空或者加压条件下对其进行浸泡。如果存在漏孔,荧光剂溶液会因毛细作用渗入到其中;qing除表面多余的溶液,待有机溶剂挥发后,荧光材料便会在漏孔中残留下来;此时再用紫外线灯光照射,漏孔位置就会观察到明显的荧光点。在进行紫外光源照射时,对于一些存在盲孔、表面不平的器件,可能也会存在残留荧光材料,因此玻璃真空器件好在背面进行照射观察;为了提高对比度也可以采用滤光放da镜,过滤掉紫外线以外的其他光线,来获得更佳的观察效果;而在荧光材料的选择时要注意其发光颜色和被检真空部件的颜色要有明显的反差。荧光检漏法不仅用于真空系统检漏中,而且也被用于铸件、模压金属件以及焊接件的裂纹检查等。

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为:基材、底漆、真空膜层、面漆,因靶材理化特性直接决定膜层的特性,根据膜层的导电与否,可分为导电真空镀膜(VM)和不导电真空镀膜(NCVM)两种。VM:一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理,其表面效果与水电镀相媲美,靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM:具有金属质感、透明,但不导电,一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理,其表面效果为水电镀不可取代,靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上,抽的速度会显然变慢,当操作不当应拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作。首先启动维持泵,关好da门,数分钟后,观察扩散泵部分真空度是否达到标准,否则要进行检漏。检查联接处的密封圈是否正常。红外真空镀膜机制造商。

【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源,在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除。清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系。即取决于单位表面积上的离子数和离子能量,从而取决于有效电功率。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(典型的如Ar气),可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。该方法中,惰性气体被离化并轰击真空室内壁、真空室内的其它结构件及被镀基片,它可以使某些真空系统免除被高温烘烤。如果在充入的气体中加入氧气,对某些碳氢化合物可以获得更好的清洗效果。因为氧气可以使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气体而容易被真空系统排除。不锈钢高真空和超高真空容器表面上杂质的主要成分是碳和碳氢化合物。真空镀膜机的生产厂家。广西AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源源头实力厂家

空心阴极霍尔离子源具有较高的离子产额和较低的气体消耗率。北京空心阴极霍尔离子源制造生产厂家

【真空镀膜之水转印】水转印是利用水压将转印纸上的彩色纹样印刷在三维产品表面的一种方式。随着人们对产品包装与表面装饰要求的提高,水转印的用途越来越广fan。适用材料:所有的硬材料都适合水转印,适合喷涂的材料也一定适用于水转印。常见的为注塑件和金属件。工艺成本:无模具费用,但需要利用夹具将多件产品同时进行水转印,时间成本一般每周期不会超过10分钟。环境影响:和产品喷涂比较而言,水转印更充分的应用了印刷涂料,减少了废料泄漏和材料浪费的可能。北京空心阴极霍尔离子源制造生产厂家

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