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真空镀膜设备基本参数
  • 品牌
  • 国泰真空
  • 型号
  • ZZS
  • 类型
  • 真空镀膜
  • 加工定制
  • 电源
  • 380
  • 厂家
  • 成都国泰真空设备有限公司
  • 产地
  • 成都
真空镀膜设备企业商机

【光谱分光不良的补救(补色)之停电】: 分光不良分为二种情况:一是全部膜系镀制完成后,经测试分光不良,此类不良主要按六节所述方法处理,一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断(包括发现错误中断)造成的分光不良,一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确,补救成功率比较高。 中断的原因形式之停电: 对于停电这种情况,比较好处理,只要确认前面镀的没错,程序没有用错,就可以继续原来的程序,要注意的是:如果某一层镀了一部分继续镀下去时,交接处要减少一些膜厚(根据膜料、蒸发速率决定减少多少,一般时0.2~1nm左右),如果该层剩下的膜厚不足15~20秒蒸镀时,要考虑降低蒸发速率或干脆不读,通过后续层调整膜厚解决。广东真空镀膜机厂家。湖北真空镀膜设备功能

【光谱分光不良的补救(补色)之机器故障和人为中断】: 分光不良分为二种情况:一是全部膜系镀制完成后,经测试分光不良,此类不良主要按六节所述方法处理,一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断(包括发现错误中断)造成的分光不良,一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确,补救成功率比较高。 中断的原因形式之机器故障和人为中断: 模拟:根据已经实镀的镜片(测试比较片)实测分光数据输入计算机膜系设计程序的优化目标值,再根据已经掌握的膜系信息输入,采用倒推法逐层优化,模拟出实际镀制的膜系数据。 *测试比较片是指随镜片一起镀制(在伞片上、与镜片同折射率),用于测试镀后分光曲线的平片。 优化:再锁定通过模拟得到的膜系数据,通过后续层膜厚优化找到实现目标的Zui佳方案。 试镀:根据新优化的后续膜层数据,试镀若干镜片或测试片,确认补色膜系的可行性。 补色镀:对试镀情况确认后实施补色镀。补色镀前,确认基片是否洁净,防止产生其他不良。江西量子真空镀膜设备真空镀膜设备操作培训。

【光谱分光不良的补救(补色)之其他情况】:分光不良分为二种情况:一是全部膜系镀制完成后,经测试分光不良,此类不良主要按六节所述方法处理,一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断(包括发现错误中断)造成的分光不良,一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确,补救成功率比较高。中断的原因形式之其他情况:对于用错程序,错误操作(预熔未关闭挡板等)人为中断需要补救的;以及反光膜、滤光膜镀后需要补救的情况处理方案:模拟:将实测分光数据输入计算机膜系设计程序的优化目标值。通过计算机模拟(一般是Zui后一层的膜厚确认),找到与实现测试值结果相应的膜系数据。

    【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜外自雾】:现象:镀膜完成后,表面有一些淡淡的白雾,用丙tong或混合液擦拭,会有越擦越严重的现象。用氧化铈粉擦拭,可以擦掉或减轻。可能成因有:1.膜结构问题,外层膜的柱状结构松散,外层膜太粗糙2.蒸发角过大,膜结构粗糙3.温差:镜片出罩时内外温差过大4.潮气:镜片出罩后摆放环境的潮气5.真空室内POLYCOLD解冻时水汽过重6.蒸镀中充氧不完全,膜结构不均匀。7.膜与膜之间的应力改善思路:膜外白雾成因很多但各有特征,尽量对症下药。主要思路,一是把膜做的致密光滑些不容易吸附,二是改善环境减少吸附的对象。改善对策:1.改善膜系,外层加二氧化硅,使膜表面光滑,不易吸附。2.降低出罩时的镜片温度3.改善充氧(加大),改善膜结构4.适当降低蒸发速率,改善柱状结构5.离子辅助镀膜,改善膜结构6.加上Polycold解冻时的小充气阀7.从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发角8.改善基片表面粗糙度9.注意Polycold解冻时的真空度。 真空镀膜机故障维修技巧有哪些?

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之破边、炸裂】: 一般的镀膜会对基片加热,由于基片是装架在金属圈、碟内,由于镜圈或碟片与镜片(基片)的热膨胀系数不一致,冷却过程中会造成镜片的破便或炸裂。 有些大镜片,由于出罩时的温度较高,与室温的温差较大,镜片的热应力作用造成镜片炸裂或破边。有些零件边缘倒边的形状容易造成卡圈而破边。 改善对策: 1. 夹具(镜圈、碟片)的设计,在尺寸配合上要合理,充分考虑制造误差带来的影响。 2. 注意镜圈、碟片的变形,已经变形的夹具不能使用。 3. 选用合适的夹具才来哦(非导磁材料、不生锈、耐高温不变性),不锈钢较为理想(热变形系数小),就是加工难度大,价格贵。 4. 对于大镜片应降低出罩时的温度,减少温差,防止炸裂。 5. 如果时镜圈,可以考虑在镜圈上开槽,作为缓冲。真空镀膜机为什么会越来越慢?安徽卷绕真空镀膜设备

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【离子镀的历史】:真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步,我国也有将近30多年的离子镀研究进程。【离子镀的原理】:蒸发物质的分子被电子撞击后沉积在固体表面称为离子镀。蒸发源接阳极,工件接阴极,当通以三至五千伏高压直流电以后,蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性氩气,在放电电场作用下部分氩气被电离,从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引,猛烈地轰击工件表面,致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出,从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后,接通蒸发源交流电源,蒸发料粒子熔化蒸发,进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子,在阴极吸引下,随同氩离子一同冲向工件,当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。湖北真空镀膜设备功能

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