图至图中公开的结构不限于这种方法,而且可以作为于该方法的结构而单独存在。的截面图所示,在衬底上方形成互连层a。在一些实施例中,通过在衬底上方形成层间介电(ild)层来形成互连层a。在一些实施例中,ild层可以通过一个或多个附加介电层与衬底分隔开。图案化ild层以限定沟槽。在一些实施例中,可以通过在ild层上方形成图案化的掩模层(未示出)并且实施蚀刻工艺来去除ild层的未由图案化的掩模层覆盖的各部分来图案化ild层。在沟槽内形成导电材料,以及随后是平坦化工艺(例如。化学机械平坦化工艺)以形成互连层a。在各个实施例中,衬底可以是任何类型的半导体主体(例如。硅、sige、soi等),诸如半导体晶圆和/或晶圆上的一个或多个管芯,以及任何与其相关的其它类型的半导体和/或外延层。在一些实施例中,ild层可以包括一种或多种介电材料,诸如二氧化硅(sio)、sicoh、氟硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃(例如,硼磷硅酸盐玻璃)等。在一些实施例中,导电材料可以包括通过沉积工艺(例如,cvd、pvd、pe-cvd、ald等)形成的金属(例如,钨、铝等)。在各个实施例中,互连层a可以是互连线层、互连层、第三互连线层或更高金属互连线层。的截面图所示。担心买不到原装的集成电路?找深圳市美信美科技。深圳双极型集成电路芯片
本申请涉及一种集成电路封装结构,尤其是集成电路的小型化与高功率密度化的封装结构。背景技术:集成电路在满足摩尔定律的基础上尺寸越做越小。尺寸越小,技术进步越困难。而设备的智能化,小型化,功率密度的程度越来越高,为解决设备小型化,智能化,超高功率密度这些问题,不但需要提升各种功能的管芯的功能,效率,缩小其面积,体积;还需要在封装技术层面上完成小型化,集成化,高功率密度化等技术要求,并解决由此带来的集成电路的散热问题,生产工艺复杂,生产周期长,生产成本高等问题。现有很多集成电路封装结构,有沿用常规的封装方式,采用框架安装各种管芯,采用线材键合作电气联结,在功率较大时,常常采用较粗的键合线和较多的键合线。此类封装方式有比如ipm模组的dip封装,单颗mosfet的to220封装等,此类封装体积通常都比较大,不适宜小型化应用。由于需要多根键合线,键合工序周期长,成本高,从而导致总体性价比不高。而为了解决高功率密度的问题,qfn封装方式由于带有较大散热片常常在一些要求高功率密度的产品上得到广泛的应用;在qfn封装内部,键合线由金线,铜线,铝线转向具有大通流能力的铝片,铜片,并由此减少了接触电阻,降低了封装的寄生参数。无锡巨大规模集成电路IC1958年美国德克萨斯仪器公司发明全球首块集成电路,这标志着世界从此进入到了集成电路的时代。
在互连层的连续上表面正上方形成多个底电极通孔。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中。在多个底电极通孔正上方形成多个mtj器件。多个mtj器件包括工作mtj器件和一个或多个调节mtj器件。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中,在多个mtj器件正上方形成多个顶电极通孔。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中,在多个顶电极通孔上方形成具有多个互连结构的互连层。多个互连结构限定位线和一条或多条字线。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。步骤至在衬底上方形成存储单元。在一些实施例中,可以重复步骤至(如步骤所示)以在存储单元上方形成存储单元。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。虽然方法描述了包括具有调节访问装置(包括mtj器件)的存储单元(例如,mram单元)的方法存储器电路,但是应该理解,在其它实施例中,调节装置可以包括电阻器(例如,薄膜电阻器)。在这样的实施例中,工作mtj器件可以通过组操作(在步骤中)形成,而包括电阻器的调节装置可以通过组单独的操作(在步骤和步骤之间发生)形成。例如,在工作mtj的形成(在步骤中)之后,可以通过一个或多个沉积和蚀刻工艺形成电阻器。因此,在一些实施例中。涉及不具有驱动晶体管(即。
并且因此热耦联至热接口材料806。侧板808可以由铝制成。然而,可以使用其他材料来形成侧板808。能够移除的一个或多个弹性夹810可定位在侧板808周围,以将侧板808压靠在热接口材料806上,以确保合适的热耦联。图9示出了根据一个实施例的流程900。尽管流程的步骤以特定顺序示出,这些步骤的部分或全部可以以其他顺序执行、并行地执行或两者的组合。一些步骤可以被省略。参考图9,在902处,提供两个印刷电路装配件400。每个印刷电路装配件400包括:系统板402;平行地安装在系统板402上的多个印刷电路板插座404;和多个冷却管406,每个所述冷却管安装在系统板402上、平行且邻接于所述印刷电路板插座404中对应的一个印刷电路板插座404,所述冷却管406中的每个冷却管406具有在冷却管406与系统板402相对的一侧上粘附至冷却管406的热接口材料层408。在904处,流程900包括提供多个集成电路模块。例如,集成电路模块可以包括一个或多个双列直插式存储模块组件200。每个集成电路模块包括:印刷电路板202,所述印刷电路板202具有布置在印刷电路板插座404中的一个印刷电路板插座中的连接侧304;安装在印刷电路板202上的一个或多个集成电路204。集成电路它是微型电子器件或部件,在电路中用字母“IC”表示。
使得在所述印刷电路装配件中的每个印刷电路装配件上的散热器的顶表面与另一个印刷电路装配件上的热接口材料层接触,并且与所述热接口材料层热耦联。图5是移除了双列直插式存储模块组件的印刷电路装配件的图。图6是印刷电路装配件的图,包括已安装在印刷电路板插座中的双列直插式存储模块组件200并且包括已附接的分流管。图7a和图7b示出了根据一个实施例的、特征在于外部铰链的双列直插式存储模块组件。图8a和图8b示出了根据一个实施例的、特征在于内部铰链的双列直插式存储模块组件。图9示出了根据一个实施例的流程。附图是非详尽的,并且不限制本公开至所公开的精确形式。具体实施方式诸如双列直插式存储模块(dimm)的集成电路产生大量的热量,特别是在高密度配置中。现有许多技术对集成电路进行冷却,但是存在许多与这些现有技术相关的缺点。空气冷却是嘈杂的,并且因此当靠近办公室人员/在工作环境中布置时是不期望的。当需要维护双列直插式存储模块时,液体浸入式冷却是杂乱的。另一种方法使用将双列直插式存储模块封装在散热器中的双列直插式存储模块组件,所述散热器热耦联至循环制冷液体的冷却管。所公开的实施例以两个系统板为一对。到了20世纪中后期半导体制造技术进步,使得集成电路成为可能;徐州特大规模集成电路引脚
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在一些实施例中,调节访问装置可以包括与工作mtj器件并联连接的薄膜电阻器和薄膜电阻器。在各个实施例中,调节访问装置可以包括具有基本类似的尺寸或具有不同的尺寸的电阻器。存储器阵列通过多条位线bl至bl和多条字线wl至wl连接至控制电路。在一些实施例中,控制电路包括连接至多条位线bl至bl的位线解码器和连接至多条字线wl至wl的字线解码器。调节访问装置连接在字线wlx(x=或)和工作mtj器件之间,而工作mtj器件连接在调节访问装置和位线bly(y=或)之间。为了访问工作mtj器件。位线解码器被配置为基于从控制单元接收的地址saddr选择性地向一条或多条位线bl至bl提供信号(例如,电压)。而字线解码器被配置为基于从控制单元接收的地址saddr选择性地向一条或多条字线wl至wl提供信号(例如,电压)。调节访问装置被配置为调节电流(提供给相关的工作mtj器件的信号),并且由此选择性地对相关的工作mtj器件提供访问。例如,在写入操作期间,存储器阵列内的调节访问装置可以对选择的存储单元内的工作mtj器件提供大于或等于小切换电流(即,足以使存储单元的数据状态改变的电流)电流,而对未选择的存储单元内的工作mtj器件提供小于小切换电流的电流。深圳双极型集成电路芯片