介电结构围绕存储单元a,。存储单元a,包括工作mtj器件和具有调节mtj器件和调节mtj器件的调节访问装置。介电结构还围绕多个导电互连层a至f。多个导电互连层a至f包括互连层a,互连层a在存储单元a,的工作mtj器件、调节mtj器件和调节mtj器件正下方延伸为连续结构。互连层a通过互连层b和多个通孔a连接至存储单元a,的工作mtj器件、调节mtj器件和调节mtj器件。第三互连层c具有离散的互连结构。离散的互连结构限定连接至图的存储器阵列的列内的相应存储单元的两条字线wl至wl以及连接至图的存储器阵列的行内的相应存储单元的位线bl。在一些实施例中,存储单元a,的工作mtj器件、调节mtj器件和调节mtj器件可以通过多个通孔b连接至第三互连层c。在一些实施例中,一个或多个附加存储单元可以布置在存储单元a,上方。在这样的实施例中,第四互连层d在存储单元b,的工作mtj器件、调节mtj器件和调节mtj器件正下方延伸为连续结构。第四互连层d通过第五互连层e和第三多个通孔c连接至存储单元b,的工作mtj器件、调节mtj器件和调节mtj器件。第六互连层f限定连接至图的存储器阵列的列内的相应存储单元的两条字线wl至wl以及连接至图的存储器阵列的行内的相应存储单元的位线bl。在一些实施例中。深圳市美信美科技有限公司,只做原装进口集成电路。佛山射频集成电路
可以对磁固定膜、介电阻挡层和磁自由膜实施一个或多个图案化工艺以限定多个mtj器件、和。在其它实施例中,可以在不同时间形成多个mtj器件、和。的截面图所示,在多个mtj器件、和上方形成多个顶电极通孔。多个顶电极通孔由ild层围绕。在一些实施例中。可以在多个mtj器件、和上方沉积ild层,并且然后选择性地图案化ild层以限定顶电极通孔开口。然后通过沉积工艺在顶电极通孔开口内形成多个顶电极通孔。在各个实施例中,ild层可以包括一种或多种介电材料,诸如二氧化硅(sio)、sicoh、氟硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃(例如,硼磷硅酸盐玻璃)等。在各个实施例中,多个顶电极通孔可以包括导电材料,诸如钛、氮化钛、钽等。在多个mtj器件、和上方的第三ild层内形成互连层b。在一些实施例中,互连层b包括限定存储单元a,的位线bl和一条或多条字线wl至wl的多个互连结构。在一些实施例中,第三ild层可以包括通过一个或多个沉积工艺(例如,pvd、cvd、pe-cvd等)形成的电介质(例如,氧化物、低k电介质或k电介质)。可以通过选择性地蚀刻第三ild层以在第三ild层内形成开口来形成互连层b。然后在开口内沉积导电材料(例如,铜和/或铝),以及随后的平坦化工艺(例如。广州小规模集成电路测试深圳有哪家集成电路现货商?深圳美信美科技有限公司。
的实施例总体涉及半导体领域,更具体地,涉及集成电路及其形成方法。背景技术:许多现代电子器件包含配置为存储数据的电子存储器。电子存储器可以是易失性存储器或非易失性存储器。易失性存储器在上电时存储数据,而非易失性存储器能够在断开电源时存储数据。磁阻式随机存取存储器(mram)是用于下一代非易失性存储器技术的一种有前景的候选。技术实现要素:根据的一个方面,提供了一种集成芯片,包括:工作磁隧道结(mtj)器件,连接至位线,其中,所述工作磁隧道结器件被配置为存储数据状态;以及调节访问装置,连接在所述工作磁隧道结器件和字线之间,其中,所述调节访问装置包括被配置为控制提供给所述工作磁隧道结器件的电流的一个或多个调节磁隧道结器件。根据的另一个方面,提供了一种集成电路,包括:互连层,布置在衬底上方的介电结构内,其中,所述互连层通过所述介电结构与所述衬底分隔开;以及工作mtj器件,布置在所述互连层正上方并且被配置为存储数据状态,其中,所述工作mtj器件通过包括多个互连层且不延伸穿过所述衬底的连续导电路径电连接在位线和字线之间。根据的又一个方面,提供了一种形成集成电路的方法。包括:在衬底上方形成互连层。
由于需要多根键合线,键合工序周期长,成本高,从而导致总体性价比不高。而为了解决高功率密度的问题,qfn封装方式由于带有较大散热片常常在一些要求高功率密度的产品上得到广泛的应用;在qfn封装内部,键合线由金线,铜线,铝线转向具有大通流能力的铝片,铜片,并由此减少了接触电阻,降低了封装的寄生参数。深圳市美信美科技有限公司于年月日成立。公司经营范围包括:一般经营项目是:电子产品及其配件的技术开发与销售;国内贸易等。本公司主营推广销售AD(亚德诺),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等国际有名品牌集成电路。产品广泛应用于:汽车、通信、消费电子、工业控制、医疗器械、仪器仪表、安防监控等领域。这是一种在小型化和高功率密度产品上比较成功的封装结构。同样的,bga封装也具有更小的体积、更好的散热性能和电性能以及更短的电气联结路线从而在多引脚的cpu以及内存芯片上得到广泛应用。本申请在此基础上,提出了一种封装结构,该方法结合qfn和bga封装的优点,满足大电流联结,小封装尺寸,多层结构的联结结构,生产工艺简单,性价比高,具有较高的经济性。技术实现要素:依据本申请一方面本集成电路封装结构包括上基板。下基板,中间填充层。我国的集成电路产业起步较晚,因此发展集成电路显得越来越重要。
这是一种在小型化和高功率密度产品上比较成功的封装结构。同样的,bga封装也具有更小的体积、更好的散热性能和电性能以及更短的电气联结路线从而在多引脚的cpu以及内存芯片上得到广泛应用。本申请在此基础上,提出了一种封装结构,该方法结合qfn和bga封装的优点,满足大电流联结,小封装尺寸,多层结构的联结结构,生产工艺简单,性价比高,具有较高的经济性。技术实现要素:依据本申请一方面本集成电路封装结构包括上基板,下基板,中间填充层,中间填充层中可能还包含其他的中间基板层,元件被上下基板夹在中间填充层之中,与上下基板直接联结或者与中间填充层中的其他中间基板层直接联结。上基板,下基板,元件,中间基板通过焊接的方法电气联结和物理联结。依据本申请另一方面通过本集成电路封装方法封装的集成电路有明显的分层结构,上下两层基板层,中间的元件层,中间基板层,元件层或者中间基板层还被中间的填充层所包裹,填充层使用填充材料加强元件以及上下层的基板的固定,保证元件热的导出,电的绝缘,以及整个集成电路的结构的稳定性。上下两层的基板是分层的,中间基板层也是分层的。设计好的金属层通过联结pad完成集成电路的互联,满足大电流互联要求。集成电路具有规模生产能力,可靠性等特点。珠海数字集成电路价格
集成电路作为全球信息产业的基础与关键,被誉为“现代工业的粮食”。佛山射频集成电路
下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1示出依据本申请一实施例的单芯片集成电路封装结构;图2示出依据本申请另一实施例的双芯片集成电路封装结构。具体实现方式为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本申请保护的范围。下面结合本申请实施例的附图,对本实用新型实施例的技术方案描述如下。图1示出依据本申请一实施例的单芯片集成电路封装结构101,包括上基板1、元件3及下基板2,上基板1上的上层金属层4、下层金属层5以及下层金属层5上的联结pad6、7、8,下基板2上的上层金属层9、下层金属层10以及上层金属层9上联结pad11、12,下层金属层10上的联结pad13、14、15、16。上基板1与下基板2联结用的沉金17、18。佛山射频集成电路