企业商机
集成电路基本参数
  • 品牌
  • 亚德诺,凌特,SCT芯洲
  • 型号
  • SCT2650STER/SCT2620MRER
  • 类型
  • 化合物半导体材料,元素半导体材料
  • 材质
集成电路企业商机

    v)施加至字线wl,对存储单元a,内的工作mtj器件实施读取操作。非零偏置电压v将使得读取电流ir通过存储单元a,内的工作mtj器件。通过工作mtj器件的读取电流ir具有取决于工作mtj器件的电阻状态的值。例如,工作mtj器件处于低电阻状态(例如,存储逻辑“”)时的读取电流ir将大于工作mtj器件处于高电阻状态(例如,存储逻辑“”)的读取电流ir。在一些实施例中,位线解码器可以包括多路复用器,多路复用器被配置为确定存储器阵列的期望输出。多路复用器被配置为将来自存储单元a,内的工作mtj器件的读取电流ir选择性地提供给感测放大器。感测放大器被配置为比较ir与由电流源产生的参考电流iref,以确定存储在存储单元a,内的工作mtj器件中的数据状态。图a示出了对应于图的存储器阵列的集成芯片的一些实施例的截面图。集成芯片包括布置在衬底上方的介电结构。介电结构围绕存储单元a,和存储单元b,,存储单元b,邻近于存储单元a,横向定位。介电结构还围绕多个导电互连层a至c。在一些实施例中,介电结构可以包括多个堆叠的ild层。在各个实施例中,多个堆叠的ild层可以包括氧化硅、氟掺杂的氧化硅、碳掺杂的氧化硅等的一种或多种。在各个实施例中。集成电路的分类方法依照电路属模拟,可以分为:模拟集成电路、数字集成电路和混合信号集成电路.北京通讯集成电路技术

    为了达到这个目标,在过去的几十年间,存储单元组件的尺寸已经不断缩小。mtj器件超越其它存储器类型的一个优势是mtj器件的mtj可以制成非常小的尺寸。然而,在mram单元中,驱动晶体管(即,存取晶体管)用于在读取和/或写入操作期间选择性地向相关的mtj器件提供电压和/或电流。因为mram单元通常对写入操作使用相对高的电压和/或电流,所以驱动晶体管的尺寸可能相对较大。虽然可以使mram单元的mtj具有小的尺寸,但是相对大尺寸的驱动晶体管限制了存储器阵列内的小型ram单元可以缩小的程度。在一些实施例中,涉及集成芯片,该集成芯片包括具有多个存储单元(例如,mram单元)的存储器阵列,存储单元不包括驱动晶体管(即,不使用驱动晶体管来对存储单元提供电压和/或电流)。而且,多个存储单元分别包括调节访问装置,该调节访问装置被配置为选择性地对存储器阵列内的工作mtj器件提供访问。调节访问装置具有连接至工作mtj器件的一个或多个调节mtj器件。一个或多个调节mtj器件被配置为通过控制(即。调节)提供给工作mtj器件的电流来选择性地对工作mtj器件提供访问。通过使用调节访问装置来选择性地对存储器阵列内的工作mtj器件提供访问,可以减小存储器阵列内的存储单元(例如。重庆计算机集成电路公司集成电路是20世纪50年代后期到60年代发展起来的一种新型半导体器件;

    mram单元),各存储单元具有被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。虽然关于方法描述了图至图,但是应该理解,图至图中公开的结构不限于这种方法,而且可以作为于该方法的结构而单独存在。的截面图所示,在衬底上方形成互连层a。在一些实施例中,通过在衬底上方形成层间介电(ild)层来形成互连层a。在一些实施例中,ild层可以通过一个或多个附加介电层与衬底分隔开。图案化ild层以限定沟槽。在一些实施例中,可以通过在ild层上方形成图案化的掩模层(未示出)并且实施蚀刻工艺来去除ild层的未由图案化的掩模层覆盖的各部分来图案化ild层。在沟槽内形成导电材料,以及随后是平坦化工艺(例如。化学机械平坦化工艺)以形成互连层a。在各个实施例中,衬底可以是任何类型的半导体主体(例如,硅、sige、soi等),诸如半导体晶圆和/或晶圆上的一个或多个管芯,以及任何与其相关的其它类型的半导体和/或外延层。在一些实施例中,ild层可以包括一种或多种介电材料,诸如二氧化硅(sio)、sicoh、氟硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃(例如,硼磷硅酸盐玻璃)等。在一些实施例中,导电材料可以包括通过沉积工艺(例如,cvd、pvd、pe-cvd、ald等)形成的金属(例如,钨、铝等)。

    下基板上的上层金属层、下层金属层以及上层金属层上联结pad、,下层金属层上的联结pad、、、6。上基板与下基板联结用的沉金、。深圳市美信美科技有限公司于年月日成立。公司经营范围包括:一般经营项目是:电子产品及其配件的技术开发与销售;国内贸易等。本公司主营推广销售AD(亚德诺),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等国际有名品牌集成电路。产品广泛应用于:汽车、通信、消费电子、工业控制、医疗器械、仪器仪表、安防监控等领域。下基板的上层金属层、下层金属层通孔沉金、,用于中间填充层的,上基板中间层、下基板中间层。图示出依据本申请一实施例的双芯片集成电路封装结构,包括上基板、元件、元件及下基板,上基板上的上层金属层、下层金属层6以及下层金属层6上的联结pad、、、,下基板上的上层金属层、下层金属层以及上层金属层上的pad、、、6,下层金属层上的联结pad、、、、、联结pad。上基板与下基板联结用的沉金、。下基板的上层金属层、下层金属层通孔沉金、6、、,用于中间填充层的,上基板中间层、下基板中间层。以上所述实施例用以说明本申请的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明。找不到好的集成电路供应?来找深圳美信美科技。

    深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司经营范围包括:一般经营项目是:电子产品及其配件的技术开发与销售;国内贸易等。本公司主营推广销售AD(亚德诺),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等国际品牌集成电路。产品广泛应用于:汽车、通信、消费电子、工业控制、医疗器械、仪器仪表、安防监控等领域。本公司一直秉承优势服务,诚信合作的原则,以现代化管理以及优势的渠道价格、良好的信誉与广大客户建立了长期友好的合作关系,为广大厂商和市场客户提供优势的产品服务。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司经营范围包括:一般经营项目是:电子产品及其配件的技术开发与销售;国内贸易等。本公司主营推广销售AD(亚德诺),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等国际品牌集成电路。产品广泛应用于:汽车、通信、消费电子、工业控制、医疗器械、仪器仪表、安防监控等领域。本公司一直秉承优势服务,诚信合作的原则,以现代化管理以及优势的渠道价格、良好的信誉与广大客户建立了长期友好的合作关系,为广大厂商和市场客户提供优势的产品服务。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。而根据处理信号的不同,可以分为模拟集成电路、数字集成电路、和兼具模拟与数字的混合信号集成电路。徐州计算机集成电路测试

随机存取存储器是常见类型的集成电路,所以密度高的设备是存储器,但即使是微处理器上也有存储器。北京通讯集成电路技术

    下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1示出依据本申请一实施例的单芯片集成电路封装结构;图2示出依据本申请另一实施例的双芯片集成电路封装结构。具体实现方式为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本申请保护的范围。下面结合本申请实施例的附图,对本实用新型实施例的技术方案描述如下。图1示出依据本申请一实施例的单芯片集成电路封装结构101,包括上基板1、元件3及下基板2,上基板1上的上层金属层4、下层金属层5以及下层金属层5上的联结pad6、7、8,下基板2上的上层金属层9、下层金属层10以及上层金属层9上联结pad11、12,下层金属层10上的联结pad13、14、15、16。上基板1与下基板2联结用的沉金17、18。北京通讯集成电路技术

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