企业商机
甩干机基本参数
  • 品牌
  • 凡华
  • 型号
  • 齐全
  • 产地
  • 无锡
  • 可售卖地
  • 全国
甩干机企业商机

晶圆甩干机是专为半导体制造设计的专业干燥设备。基于离心力原理,当晶圆被放入甩干机并高速旋转时,表面液体在离心力作用下被甩出,实现快速干燥。该设备结构紧凑且功能强大,旋转平台具备高精度和高平整度,确保晶圆在旋转过程中保持稳定。驱动电机动力强劲,调速范围广,能满足不同工艺对转速的要求。控制系统智能化程度高,可实时监控甩干过程,并对参数进行调整。在半导体制造流程中,清洗后的晶圆经甩干机处理,去除残留液体,避免因液体残留导致的氧化、杂质沉积等问题,为后续光刻、蚀刻等工艺提供干燥、洁净的晶圆,保障半导体制造工艺的顺利进行。密封佳的晶圆甩干机,有效防止水分泄漏,维护生产环境的高洁净度。江苏硅片甩干机

江苏硅片甩干机,甩干机

在半导体制造流程里,晶圆甩干机至关重要。它利用离心力原理工作,当晶圆置于甩干机旋转平台,电机带动平台高速转动,离心力使晶圆表面液体向边缘移动并甩出,实现快速干燥。其结构主要有高精度旋转平台,确保晶圆平稳旋转;强劲驱动电机,提供稳定动力并精 zhun 调速;智能控制系统,便于操作人员设定甩干时间、转速等参数。在实际应用中,清洗后的晶圆残留液体若不及时去除,会影响后续光刻、蚀刻等工艺。晶圆甩干机高效去除液体,保障晶圆表面干燥洁净,为后续工艺顺利进行奠定基础,提升芯片良品率。安徽硅片甩干机生产厂家双工位甩干机广泛应用于纺织、印染行业的布料脱水。

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卧式甩干机基于离心力原理工作。当装有晶圆的转鼓开始高速旋转时,晶圆表面残留的液体(如清洗液、刻蚀液等)在离心力作用下被甩离晶圆表面。离心力的大小由转鼓转速和晶圆到旋转中心的距离决定,根据公式²(其中是离心力,是液体质量,是角速度,是旋转半径),通过精确控制转鼓转速,可以产生足够强大的离心力,使液体沿转鼓切线方向甩出。在甩干过程中,除了离心力的直接作用,设备内部的通风系统也发挥关键作用。清洁、干燥的空气被引入转鼓内部,在晶圆表面形成气流,加速液体的蒸发。同时,由于不同液体的挥发性不同,在离心力和气流的共同作用下,挥发性较强的成分会更快地挥发,使晶圆表面达到高度干燥状态。

甩干机的工作原理主要基于物理学中的离心力原理。当晶圆被置于甩干机的旋转轴上,并以高速旋转时,晶圆及其表面附着的水分、化学溶液等会受到向外的离心力作用。这个离心力的大小与旋转速度的平方成正比,与旋转半径成正比。因此,随着旋转速度的增加,离心力也会急剧增大。具体来说,晶圆甩干机的工作原理可以分为以下几个步骤:装载晶圆:将待处理的晶圆放入甩干机的夹具中,确保晶圆固定稳定。这一步骤至关重要,因为晶圆的稳定性和固定性直接影响到甩干效果。加速旋转:启动甩干机,晶圆开始高速旋转。通常,旋转速度可以达到数千转每分钟(RPM),甚至更高。旋转速度的选择取决于晶圆的尺寸、材料以及所需的干燥效果。甩干过程:在高速旋转下,晶圆表面的液体由于离心力的作用被甩离晶圆表面,飞向甩干机的内壁。同时,排水系统会将被甩离的水分和化学溶液等迅速排出设备外部。这一步骤是晶圆甩干机的Core  function 功能所在,通过离心力实现晶圆表面的快速干燥。减速停止:甩干过程完成后,甩干机逐渐减速直至停止。然后取出干燥的晶圆,进行后续的工艺流程。静音设计的双腔甩干机运行平稳,减少对生活环境的干扰。

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晶圆甩干机是提升半导体制造精度的重要干燥设备。利用离心力原理,当晶圆在甩干机内高速旋转时,表面液体在离心力作用下被甩出。该设备结构精良,旋转轴精度极高,保证了旋转的平稳性,减少对晶圆的振动影响。旋转盘与晶圆接触紧密且不会刮伤晶圆。驱动电机动力强劲且调速精 zhun ,能根据不同工艺要求调整转速。控制系统智能化程度高,可实现对甩干过程的精确控制。在半导体制造流程中,清洗后的晶圆经甩干机处理,去除残留液体,防止液体残留对后续光刻、蚀刻等工艺造成精度影响,如导致线条宽度偏差,从而提升半导体制造的精度。食品加工行业常用该设备处理蔬菜、肉类等食材脱水。离心甩干机供应商

无论是大规模集成电路生产还是芯片制造,晶圆甩干机都发挥着重要作用。江苏硅片甩干机

智能化时代,凡华半导体生产的晶圆甩干机紧跟时代步伐,采用智能操控系统,开启便捷生产新模式。操作人员只需通过触摸屏输入甩干参数,设备即可自动完成甩干操作,操作简单便捷。智能记忆功能可保存多种甩干方案,方便下次调用。远程监控功能,让您随时随地了解设备运行状态,及时处理异常情况。此外,设备还具备自动报警功能,当出现故障或参数异常时,及时提醒操作人员。选择 凡华半导体生产的晶圆甩干机,让您的生产更加智能化、高效化。江苏硅片甩干机

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