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南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司致力于研发创新的散热技术和热管理解决方案。高功率密度热源产品可根据客户需求设计出色的散热效能和优异的热管理能力。这些高功率密度热源产品不仅解决了微系统和微电子领域散热问题,也为相关行业的发展带来了新的契机和可能。微系统和微电子领域的各类散热技术开发和热管理开发将因此获得推动。同时,这些产品的使用还能够提升设备的性能和效能,为微系统和微电子行业的发展打开了更广阔的未来。研究院高功率密度热源产品不仅在解决设备散热问题方面具有重要意义,还通过持续创新和研发,推动了整个行业的发展。芯谷高频研究院在背面工艺方面,拥有键合机、抛光台、磨片机等,可以进行晶片的减薄、抛光以及划片工艺。云南异质异构集成芯片开发

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质集成工艺服务,如:1)晶圆键合:提供6英寸及以下超高真空键合、表面活化键合、聚合物键合、热压键合、共晶键合等多种类晶圆及非标准片键合服务;2)衬底减薄:提供Si、SiC、GaN、GaAs、InP、LiNbO3、石英等材料衬底减薄服务;3)表面平坦化:提供Si、SiC、GaN、GaAs、InP、LiNbO3、石英等材料表面亚纳米级精细抛光服务。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司的多种异质集成技术服务包括:超高真空键合、衬底减薄和表面平坦化等,都是基于先进的技术和设备,以满足客户的不同需求。江苏太赫兹器件及电路芯片测试南京中电芯谷高频器件产业技术研究院公共技术服务平台的光刻工艺技术服务,可以实现50nm级别的芯片制造。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台在背面工艺方面,拥有键合机、抛光台、磨片机等,可以进行晶片的减薄、抛光以及划片工艺。公司公共技术服务平台支持晶圆键合工艺,可以支持6英寸及以下晶圆的键合,并具备介质、热压、共晶、胶粘等键合能力,键合精度达到2um。键合工艺可以将不同的晶圆材料组合在一起,从而制造出具有更高性能的芯片。凭借研究院的技术实力和专业的服务团队,公共技术服务平台将为客户提供更加优良的技术服务,不断创新晶圆键合工艺,助力高科技产业的发展。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质异构集成技术服务,可进行以下先进集成材料制备和研发:1)单晶AlN、LiNbO3压电薄膜异质晶圆,用于SAW、BAW、XBAR等高性能射频滤波器;2)厚膜LiNbO3、薄膜LiNbO3异质晶圆,用于低损耗光学平台;3)AlGaAs-on-insulator,绝缘体上AlGaAs晶圆,用于光量子器件等新一代片上光源平台;4)Miro-Cavity-SOI,内嵌微腔的绝缘体上Si晶圆,用于环栅GAA,MEMS等器件平台;5)SionSiC/Diamond,解决传统Si衬底功率器件散热低的瓶颈;6)GaNonSiC,解决自支撑GaN衬底高性能器件散热低的瓶颈;7)支持特定衬底功能薄膜材料异质晶圆定制研发。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供InGaAs太赫兹零偏SBD技术开发服务。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台是一家专业提供先进芯片工艺技术服务、微组装及测试技术服务的机构。该平台汇聚了一支经验丰富、技术精湛的团队,致力于为客户提供技术支持和解决方案。在芯片工艺技术服务方面,平台具备先进的工艺设备,能够提供高质量的工艺服务,包括制程设计、工艺优化、工艺流程开发、单步或多步工艺代工等方面的支持,帮助客户实现芯片制造的各项工艺。此外,平台还拥有先进的微组装及测试设备,为客户提供器件及电路的测试、模块组装等服务。这些服务包括微组装技术、封装工艺、器件测试等方面的技术支持,以保证客户的产品性能。平台以客户需求为导向,注重与客户的密切合作,为客户提供一站式的技术服务和解决方案。秉承着技术创新和持续改进的理念,南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台将不断提升技术实力,丰富技术服务内容。芯谷高频研究院提供薄膜型SBD集成电路开发服务,适用于0.5THz以上、集成度要求高的太赫兹混频、倍频应用。山西异质异构集成器件及电路芯片工艺定制开发

芯谷高频公司拥有芯片研发与制造能力,能够高效地完成芯片流片,包括太赫兹、异质异构集成等领域芯片。云南异质异构集成芯片开发

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台可为客户提供全流程芯片制造工艺技术服务。平台拥有先进的设备和专业的团队,通过多道工艺环节,包括光刻、金属化、高温处理、键合等,提供技术支持,帮助客户实现芯片从设计到制造的全过程。该技术服务平台的优势在于,能够为客户提供高效、准确、定制化的服务。不论是在工艺的选择,还是在设备操作和技术咨询方面,平台都能够全力满足客户的需求。从技术咨询,到流片调试、产品测试,研究院将贴心地为客户提供技术服务。云南异质异构集成芯片开发

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