曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用，例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板，可以实现亚10nm的分辨率，但是模板不能弯折，无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触，实现结构在非平面基底上的压印复制，但是由于弹性模板的杨氏模量较低，所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状，结合传统的纳米压印技术和软压印技术，中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法，该模板包含刚性结构层和弹性基底层。（来自网络，侵权请联系我们进行删除，谢谢！）EVG®7200LA是大面积SmartNIL®UV紫外光纳米压印光刻系统。UV纳米压印推荐型号
IQAlignerUV-NIL特征：用于光学元件的微成型应用用于全场纳米压印应用三个独力控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿三个独力控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺EVG专有的全自动浮雕功能抵抗分配站集成粘合对准和紫外线粘合功能IQAlignerUV-NIL技术数据：晶圆直径（基板尺寸）：150至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型曝光源：汞光源对准：≤±0.5微米自动分离：支持的前处理：涂层：水坑点胶（可选）迷你环境和气候控制：可选的工作印章制作：支持的图像传感器纳米压印国内用户EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场领仙的晶圆键合技术。
曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用，例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板，可以实现亚10nm的分辨率，但是模板不能弯折，无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触，实现结构在非平面基底上的压印复制，但是由于弹性模板的杨氏模量较低，所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状，结合传统的纳米压印技术和软压印技术，中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法，该模板包含刚性结构层和弹性基底层。
为了优化工艺链，HERCULESNIL中包括多次使用的软印章的制造，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能，该工具可以升级为具有ISO3*功能的微型环境，以确保蕞低的缺陷率和蕞高质量的原版复制。通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULESNIL增强了EVG在权面积NIL设备解决方案中的领导地位。*根据ISO14644HERCULES®NIL特征：批量生产蕞小40nm*或更小的结构联合预处理（清洁/涂层/烘烤/寒意）和SmartNIL®体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度全自动压印和受控的低力分离，可蕞大程度地重复使用工作印章包括工作印章制造能力高功率光源，固化时间蕞快优化的模块化平台可实现高吞吐量*分辨率取决于过程和模板EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构来进行直接图案化。
纳米压印微影技术可望优先导入LCD面板领域原本计划应用在半导体生产制程的纳米压印微影技术(Nano-ImpLithography；NIL)，现将率先应用在液晶显示器(LCD)制程中。NIL为次世代图样形成技术。据ETNews报导，南韩显示器面板企业LCD制程研发小组，未确认NIL设备实际图样形成能力，直接参访海外NIL设备厂。该制程研发小组透露，若引进相关设备，将可提升面板性能。并已展开具体供货协商。NIL是以刻印图样的压印机，像盖章般在玻璃基板上形成图样的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以压印机接触施加压力，印出面板图样。之后再经过蚀刻制程形成图样。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光图样，不需再另外贴附偏光薄膜。虽然在面板制程中需增加NIL、蚀刻制程，但省落偏光膜贴附制程，可维持同样的生产成本。偏光膜会吸收部分光线降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光图样，将不会发生降低亮度的情况。通常面板分辨率越高，因配线较多，较难确保开口率(ApertureRatio)。EVG开拓了这种非常规光刻技术，拥有多年技术，掌握了NIL，并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量化生产。图像传感器纳米压印国内用户
SmartNIL的主要技术是可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印结果。UV纳米压印推荐型号
EVG®610紫外线纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从碎片到ZUI大150毫米。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间瑾为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。UV纳米压印推荐型号
