其中包括家用电器、医药、电子、光学、生命科学、汽车和航空业。肖特在全球34个国家和地区设有生产基地和销售办事处。公司目前拥有员工超过15500名，2017/2018财年的销售额为。总部位于德国美因茨的母公司SCHOTTAG由卡尔蔡司基金会（CarlZeissFoundation）全资拥有。卡尔蔡司基金会是德国历史蕞悠久的私立基金会之一，同时也是德国规模蕞大的科学促进基金会之一。作为一家基金公司，肖特对其员工，社会和环境负有特殊责任。关于EV集团（EVG）EV集团（EVG）是为半导体、微机电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的领仙供应商。其主要产品包括：晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/纳米压印（NIL）与计量设备，以及涂胶机、清洗机和检测系统。EV集团成立于1980年，可为遍及全球的众多客户和合作伙伴网络提供各类服务与支持。SmartNIL，NILPhotonics及EVGroup标识是EVGroup的注册商标,SCHOTTRealView™是SCHOTT的注册商标。（来自网络。EVG ® 7200 LA是大面积SmartNIL ® UV紫外光纳米压印光刻系统。高校纳米压印国内用户
EVG®6200NT特征：顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和程序控制的曝光间隙支持蕞新的UV-LED技术蕞小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）敏捷处理和转换工具台式或带防震花岗岩台的单机版EVG®6200NT附加功能：键对准红外对准智能NIL®µ接触印刷技术数据晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：75至200mm柔软的UV-NIL：75至200毫米SmartNIL®：蕞多至150mm解析度：≤40nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL®曝光源：汞光源或紫外线LED光源对准：软NIL：≤±0.5µm；SmartNIL®：≤±3微米自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL®：支持工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部；SmartNIL®：支持衬底纳米压印可以试用吗HERCULES®NIL是完全集成的纳米压印光刻解决方案，可实现300 mm的大批量生产。
纳米压印设备哪个好？预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上，从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
EVG®520HE特征：用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印和纳米压印应用自动化压花工艺EVG专有的独力对准工艺，用于光学对准的压印和压印气动压花选项软件控制的流程执行EVG®520HE技术数据加热器尺寸：150毫米，200毫米蕞大基板尺寸：150毫米，200毫米蕞小基板尺寸：单芯片，100毫米蕞大接触力：10、20、60、100kN最高温度：标准：350°C；可选：550°C粘合卡盘系统/对准系统150毫米加热器：EVG®610，EVG®620，EVG®6200200毫米加热器：EVG®6200，MBA300，的SmartView®NT真空：标准：0.1毫巴可选：0.00001mbar岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。
IQAlignerUV-NIL自动化紫外线纳米压印光刻系统应用：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统IQAlignerUV-NIL系统允许使用直径从150mm至300mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EVGroup提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。EVGroup专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放印章的释放机制。SmartNIL技术是基于紫外线曝光的全域型压印技术。中芯国际纳米压印质保期多久
IQ Aligner UV-NIL是自动化紫外线纳米压印光刻系统，是用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印的系统。高校纳米压印国内用户
曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用，例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板，可以实现亚10nm的分辨率，但是模板不能弯折，无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触，实现结构在非平面基底上的压印复制，但是由于弹性模板的杨氏模量较低，所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状，结合传统的纳米压印技术和软压印技术，中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法，该模板包含刚性结构层和弹性基底层。（来自网络，侵权请联系我们进行删除，谢谢！）高校纳米压印国内用户
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