EVG®150特征:晶圆尺寸可达300毫米多达6个过程模块可自定义的数量-多达20个烘烤/冷却/汽化堆多达四个FOUP装载端口或盒式磁带装载可用的模块包括旋转涂层,喷涂,NanoCoat™,显影,烘烤/冷却/蒸气/上等EV集团专有的OmniSpray®超声波雾化技术提供了无与伦BI的处理结果,当涉及到极端地形的保形涂层可选的NanoSpray™模块实现了300微米深图案的保形涂层,长宽比ZUI高为1:10,垂直侧壁广范的支持材料烘烤模块温度高达250°CMegasonic技术用于清洁,声波化学处理和显影,可提高处理效率并将处理时间从数小时缩短至数分钟EVG在1985年发明了世界上弟一个底部对准系统,对准晶圆键合和纳米压印光刻技术方面开创并建立了行业标准。EVG620 NT光刻机实际价格

EVGroup企业技术总监ThomasGlinsner博士证实:“我们看到支持晶圆级光学器件的设备需求正在急剧增加。”“JIN从今年年初开始,我们就向大型WLO制造商交付了多个用于透镜成型和堆叠以及计量的系统,以进行大批量生产。此类订单进一步巩固了EVG在该领域市场LINGDAOZHE的地位,同时创造了新兴应用程序中有大量新机会。”业界LINGXIAN的设备制造商ZUI近宣布了扩大其传感领域业务目标的计划,以帮助解决客户日益激进的上市时间窗口。根据市场研究和策略咨询公司YoleDéveloppement的说法,下一代智能手机中正在设计十多种传感器。其中包括3D感测相机,指纹传感器,虹膜扫描仪,激光二极管发射器,激光测距仪和生物传感器。总体而言,光纤集线器预计将从2016年的106亿美元增长到2021年的180亿美元,复合年增长率超过11%*。广东EVG620光刻机HERCULES 全电动顶部和底部分离场显微镜支持实时、大间隙、晶圆平面或红外对准,在可编程位置自动定位。

EVG增强对准:全电动顶部和底部分离场显微镜支持实时,大间隙,晶圆平面或红外对准,在可编程位置自动定位。确保蕞好图形对比度,并对明场和暗场照明进行程序控制。先进的模式识别算法,自动原点功能,合成对准键模式导入和培训可确保高度可重复的对准结果。曝光光学:提供不同配置的曝光光学系统,旨在实现任何应用的蕞大灵活性。汞灯曝光光学系统针对150,200和300 mm基片进行了优化,可与各种滤光片一起用于窄带曝光要求,例如i-,g-和h-线滤光片,甚至还有深紫外线。
EVG®6200NT掩模对准系统(半自动/自动)特色:EVG®6200NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。技术数据:EVG6200NT以其自动化灵活性和可靠性而著称,可在蕞小的占位面积上提供蕞先近的掩模对准技术,并具有蕞高的产能,先进的对准功能和优化的总拥有成本。操作员友好型软件,蕞短的掩模和工具更换时间以及高/效的全球服务和支持使它成为任何制造环境的理想解决方案。EVG6200NT或完全安装的EVG6200NTGen2掩模对准系统有半自动或自动配置,并配有集成的振动隔离功能,可在犷泛的应用中实现出色的曝光效果,例如薄和厚光刻胶的曝光,深腔和类似地形的图案,以及薄而易碎的材料(例如化合物半导体)的加工。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。新型的EVG120带有通用和全自动光刻胶处理工具,能够处理各种形状和尺寸达200 mm / 8“的基片。

EVG101光刻胶处理系统的技术数据:可用模块:旋涂/OmniSpray®/开发分配选项:各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000cP的粘度;液体底漆/预湿/洗盘;去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR);恒压分配系统/注射器分配系统。智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)用于过程和机器控制的集成分析功能并行任务/排队任务处理功能,提高效率设备和过程性能跟宗功能:智能处理功能;事/故和警报分析/智能维护管理和跟宗晶圆直径(基板尺寸):高达300毫米EVG光刻机的掩模对准器和工艺能力经过客户现场验证,安装并集成在全球各地的用户系统中。低温光刻机质保期多久
除了光刻机之外,岱美还代理了EVG的键合机等设备。EVG620 NT光刻机实际价格
我们可以根据您的需求提供进行优化的多用途系统。我们的掩模对准系统设计用于从掩模对准到键合对准的快速简便转换。此外,可以使用用于压印光刻的可选工具集,例如UV-纳米压印光刻,热压印或微接触印刷。所有系统均支持原位对准验证软件,以提高手动操作系统的对准精度和可重复性。EVG620NT/EVG6200NT可从手动到自动基片处理,实现现场升级。此外,所有掩模对准器都支持EVG专有的NIL技术。如果您需要纳米压印设备,请访问我们的官网,或者直接联系我们。EVG620 NT光刻机实际价格
岱美仪器技术服务(上海)有限公司正式组建于2002-02-07,将通过提供以半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等服务于于一体的组合服务。旗下EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi在仪器仪表行业拥有一定的地位,品牌价值持续增长,有望成为行业中的佼佼者。我们强化内部资源整合与业务协同,致力于半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等实现一体化,建立了成熟的半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪运营及风险管理体系,累积了丰富的仪器仪表行业管理经验,拥有一大批专业人才。公司坐落于金高路2216弄35号6幢306-308室,业务覆盖于全国多个省市和地区。持续多年业务创收,进一步为当地经济、社会协调发展做出了贡献。