硅片是一种易碎的晶体，同时在应用过程中，硅片越薄，芯片的质量越好，对通讯设备来说，处理的速度更快，更实用。然而这样一种易碎超薄的产品要保证减薄和研磨的过程中不碎，不塌边是一个非常难的问题。所以我们可以这样理解，半导体行业能否突飞猛进，主要靠硅片减薄和研磨技术的提升。硅片的减薄是指对硅片厚度的磨削，厚度越薄硅片质量越好。同时在研磨时硅片需要达到较高的精度，使得在使用过程中，硅片跟硅片的贴合度更高。就国内目前的现状而言，小尺寸的硅片，如2寸，4寸，6寸的硅片能做得不错，但是6寸以上的硅片难度便很大，主要是减薄和研磨该种硅片的设备国内还没有研发出来，还需要从国外进口，而进口的设备价格非常高，售后也得...

手工研磨一般采用一级平板，材质为高碳铸铁材料，平板一般为三个一组，一级平板的平面度允许偏差见表9-31。嵌砂（压砂）是将磨料的颗粒先嵌入到研磨平板表面上。嵌砂是一项很难掌握的技艺，是保证工作质量的关所在，可用手工方法进行，也可用机械方法进行，但机械方法很难保证嵌砂的质量，所以手工嵌砂方法至为常见。在嵌砂工作进行之前，必须进行‘赶砂’工作。赶砂工作是将研磨平板上已用过失去切削作用的磨料从研磨平板表面去除掉，为嵌砂进行准备工作。赶砂就是在一块研磨平板上用硬脂酸划上直径约为10mm的两个小圆圈，然后滴上8~10滴煤油并用手工涂匀，将两块平板合在一起，由一个人用双手按“∞”字形晃动上面的平板，使煤油均...

平面抛光机，顾名思义，就是把一些物体的表面的毛精糙部分，清理掉，以达到镜面效果。平面抛光机操作的重要是要设法得到大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。平面抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加抛光液或其它抛光助剂，使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面...

抛光是利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或者镜面光泽为目的，所以通常是作为精密加工再后面的一道工序。因为研磨和抛光的原理来说基本是一致，所以通常所有的加工设备也可以通用，故经常将研磨和抛光并提，称之为研磨抛光技术。研磨抛光可以通过单盘单面研磨抛光或者双面研磨抛光实现。双面流离磨料研磨中工件在上下盘之间，研磨时上下表面被同时加工。单面抛光在对单面有平坦度的要求，背面形状复杂不易夹持或单平面基准面及高平坦之镜面加工要求时，或薄易碎而没有变形的情形下特别适用。单面游离磨料研磨抛光加工因其适应面广，仍然是应用至...

抛光是利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或者镜面光泽为目的，所以通常是作为精密加工再后面的一道工序。因为研磨和抛光的原理来说基本是一致，所以通常所有的加工设备也可以通用，故经常将研磨和抛光并提，称之为研磨抛光技术。研磨抛光可以通过单盘单面研磨抛光或者双面研磨抛光实现。双面流离磨料研磨中工件在上下盘之间，研磨时上下表面被同时加工。单面抛光在对单面有平坦度的要求，背面形状复杂不易夹持或单平面基准面及高平坦之镜面加工要求时，或薄易碎而没有变形的情形下特别适用。单面游离磨料研磨抛光加工因其适应面广，仍然是应用至...

全自动精密研磨抛光机配套的研磨盘平面度是研磨的基准，是得到精密工件平面的保证。在研磨的过程中，研磨盘的平面度会下降，主要原因研磨盘的内外线速度不同，有比较有警醒自然就会浮躁起来，偏离了轨道迷茫了起来。磨损不一致造成。研磨盘需定期修整平面。产品角部的抛光膏是抛光和抛光过程中留下的，大部分被挤压成孔或狭缝。普通的清洗方法很难彻底清洗，铝材不能长时间浸泡在碱性溶液中。因此，可以接受以下三种移除方法:(1)在有机溶剂清洗前加入挖掘过程。挖掘中常用的工具是刀子或小尖钩。螺纹孔中的抛光膏可以用铁钩沿着螺纹拧入螺纹孔中，以松开并挤压挤压到这些部分中的固体抛光膏。(2)蘸有汽油的拭子用于在人孔中擦洗和干燥。(...

平面抛光机抛光的原理，抛光不克不及进步工件的尺寸精度或多少外形精度，而因此获得滑腻外面或镜面光芒为目标，偶然也用以打消光芒（消光）。平面抛光通常以抛光轮作为抛光对象。抛光轮一样平常用多层帆布、不织布纤维、毛毡或皮革叠制而成，双侧用金属圆板夹紧，其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等平均混杂而成的抛光剂。抛光时，高速扭转的抛光轮（圆周速率在20米/秒以上）压向工件，使磨料对工件外面发生滚压和微量切削，从而获得光明的加工外面，外面粗拙度一样平常可达Ra0.63～0.01微米；当采纳非油脂性的消光抛光剂时，可对光明外面消光以改良表面。温州市百诚研磨机械有限公司致力于提供研磨机，竭诚为您。广东硅片双面研磨机价格...

研磨盘转动通过变频电机及减速器来调速，体积小、效率高、运转平稳、噪声小。变速比为1:20，研磨盘转速至高为150r/min控制板上显示为电机转速。有运转时间调节功能，设定至长时间为100min，当设定了研磨机时间后，启动运转到设定时间，研磨机自动停止运行，研磨操作更为方便简单。加入调节功能完善，配好的研磨剂放入储罐后，通过电磁搅拌可防止研磨剂中磨料沉淀，储罐内采用气加压及电磁阀可控制研磨剂加人时间间隔，至长为100min，同时也可控制每次研磨剂的时间。控制板上显示“分/次”为加研磨剂时间间隔。温州市百诚研磨机械有限公司研磨机值得用户放心。杭州盲孔底双面研磨机检修研磨机机械抛光靠切削、材料表面塑...

抛光是利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或者镜面光泽为目的，所以通常是作为精密加工再后面的一道工序。因为研磨和抛光的原理来说基本是一致，所以通常所有的加工设备也可以通用，故经常将研磨和抛光并提，称之为研磨抛光技术。研磨抛光可以通过单盘单面研磨抛光或者双面研磨抛光实现。双面流离磨料研磨中工件在上下盘之间，研磨时上下表面被同时加工。单面抛光在对单面有平坦度的要求，背面形状复杂不易夹持或单平面基准面及高平坦之镜面加工要求时，或薄易碎而没有变形的情形下特别适用。单面游离磨料研磨抛光加工因其适应面广，仍然是应用至...

粗研磨的加工办法与预加工比较相似，大的不同主要是，它所选用3碳化硼的型号不同。这道工序中加工预留量一般是0.03至0.05mm作用佳。粗光的加办法一般是选用通过校正后的嵌好沙的研磨盘研具，敷涂上w1.5至w2.5的金刚石粉研磨膏并通过稀释，需要将洗净了的粗研过的工件放在辐板孔中，然后以恰当压力进行研磨加工、精细研磨。通过本工序的加工，工件的几何形状的精度和表面的光洁度取得提高，这也为进行半精研磨时，其加工办法与上一道工序相相似，所不同的是选用的金刚石粉研磨膏为W1，一般加工中预留量为1到1.5微米。平面研磨抛光加工中的精研磨的加工办法与第三道工序有所不同的是研具嵌砂粒度为W1~W1.5，所选用...

平面抛光机的抛光工艺是利用自由散粒磨料在工件被加工面及磨盘基面上相对运动，使工件表面变得非常高的平整度及光滑度，工件固定不需要强夹、真空、磁铁，只是自然地放置在磨盘上，基本上能适合加工任何金属和非金属材料的工件，镜面研磨机没有了强制性的装夹及一般磨床的刚性磨削，减少的了冲击及发热产生的次生变形，更用利于高精度和高光洁度的加工。即使一个没有经验的操作员也可以轻易使用镜面研磨机获得0.2um的平面度及Ra0.02um粗糙度。平面抛光机主要用于硅片、砷化镓片、陶瓷片、石英晶体、光电玻璃及其他硬脆材料的双面高精度研磨、抛光。通过控制器，产生高频电振动传输至换能器上。换能器再将输入的超音频电信号转换成机...

平面研磨机的工作原理行星式平面研磨运动是至常见的用于平面研磨机构中的方式，如图1所示。大多数情况下是研磨盘以设定的转速主动旋转，转速是已知的，工件由压头工装压向磨盘，压头限制了工件的移动，悬浮在磨盘的上表面，靠研磨切削力带动工件并随磨盘转动，从而得到所需表面质量的研磨产品。行星轮的自转是通过工件中心与磨盘中心之间的距离随时间周期性变化的。这种研磨方式，工件转速不等于研磨盘转速，其值随研磨盘转速的增大而基本成线性增大，但其与磨盘转速之比却随磨盘转速的增大而下降。温州市百诚研磨机械有限公司为您提供研磨机，有想法的可以来电咨询！台州晶片双面研磨机维修价格研磨机工件研磨加工作业后研磨盘的平面度和平行度...

目前国内外生产的研磨机基本上都是中大型的。对于小型便携式高速研磨机的研究有限。而目前便携式的研磨机只有专门维修阀门的维修机具。目前国内外的高速研磨机的发展方向主要是进一步提高研磨加工质量和加工效率，提高研磨机的自动化程度，以减轻操作者的劳动强度。而对维修设备现场使用的便携式研磨机还没有人进行研究和开发。要想获得高质量的抛光效果，至重要的是要具备有高质量的油石、砂纸和钻石研磨膏等抛光工具和辅助品。而抛光程序的选择取决于前期加工后的表面状况，如机械加工、电火花加工，磨加工等等。机械抛光的一般过程是粗抛经铣、电火花、磨等工艺后的表面可以选择转速在35000—40000rpm的旋转表面抛光机或超声波研...

研究表明，在表面的转换和发射声音和振动之间有很强的相关性。基于声音和振动，熟练的操作，可以检测出砂轮是锋利或磨钝了。操作者的技术依赖于人提取特征频率的能力。在研磨时，声音的频率范围从5000到10000Hz并反映了切割型材。根据已有经验，在其整个生命周期中，新研磨盘具有更高的频率。研磨盘上的颗粒，填充在孔中的金属屑，以及与金属片之间的距离，使研磨盘间距变大，从而导致较大的晶片和较高的表面粗糙度。因此，在特征频率范围内根据研磨盘上的磨粒尺寸将频率降低到5000到6000Hz之间。总之，当前进程状态的信息来源有两个：振动信号和判断。我们一直在探索振动信号的特性和的性能等级评估时间的关系，来研究自动...

抛光机对工件的抛光效果1、可以提高加工产品的光泽度根据它的名字，我们可以大致了解它的主要功能，即使产品表面更光滑。我们知道许多产品在初次生产时表面通常有许多毛刺，这些毛刺被人为地视为不洁净。然而，有了这种自动机器，产品可以在很短的时间内被处理得光滑细腻，使它们看起来非常有光泽。2、耗时短，处理能力高过去，人们通常使用手工或传统的抛光机来处理抛光问题，所以需要很长时间，并且生产能力不高。然而，在这台自动机器出现后，一切都变了。它可以自动检查原产品的不光滑和毛边区域，然后建议处理问题并刮掉毛边，使产品光亮如新。3.节省人力、物理和财政资源抛光机可以不花很多钱就买到，但是它的价值不可忽视。它可以代替...

超声波抛光将工件放入磨料悬浮液并一起置于超声波场，依靠超声波振荡作用，使磨料工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小，不会引起工件变形，但工装制作安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。溶液腐蚀、电解基础上，再施加超声波振动搅拌溶液，使工件表面溶解产物脱离，表面附近腐蚀或电解质均匀；超声波液体空化作用还能够抑制腐蚀过程，利于表面光亮化流体抛光依靠高速流动液体及其携带磨粒冲刷工件表面达到抛光目。常用方法有：磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨由液压驱动，使携带磨粒液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用较低压力过性好特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制成，磨料可采用...

双面研磨机与单面研磨机主要区别就是双面研磨机是对工作两个面同时一起研磨，而单面研磨机只对工件的其中一个面进行研磨，双面研磨机总体的效率要高一些，但一些工件双面研磨机研磨不了，而且也有一些工件只需要研磨一面，所以只需要单面研磨机就可以了研磨机采用无级调速系统控制,可轻易调整出适合研磨各种部件的研磨速度。采用电—气比例阀闭环反馈。研磨机压力控制,可单独调控压力装置。上盘设置缓降功能,有效的防止薄脆工件的破碎。通过一个时间继电器和一个研磨计数器,可按加工要求准确设置和控制研磨时间和研磨圈数。工作时可调整压力模式,达到研磨设定的时间或圈速时就会自动停机报警提示,实现半自动化操作。研磨机变速控制方法,研...

粗抛时将大批钢球、石灰和磨料放在歪斜的罐状滚筒中，滚筒迁移转变时，使钢球与磨料等在筒内随机地转动碰撞以到达去除外面凸锋而减小外面粗拙度的目标，可去除0.01毫米阁下的余量。半精抛。半精抛重要应用砂纸和火油。砂纸的号数依次为：#400~#600~#800~#1000~#1200~#1500。实际上#1500砂纸只用适于淬硬的模具钢（52HRC以上），而不适用于预硬钢，由于如许能够会招致预硬钢件外面烧伤。精抛时在木桶中装入钢球和毛皮碎块，持续迁移转变数小时可获得耀目光明的外面。周详线纹尺的抛光是将加工外面浸在抛光液中停止的，抛光液由粒度为W5～W0.5的氧化铬微粉和乳化液混杂而成。抛光轮采纳材质匀...

机械抛光靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后凸部而得到平滑面抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具。化学抛光让材料化学介质表面微观凸出部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法主要优点不需复杂设备，可以抛光形状复杂工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光重要问题抛光液配制。电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步：①宏观整平溶解产物向电解液扩散，材料表面几何粗糙下降②微光平整阳极极化，表面光亮度提高研磨机，就选温州市...

双面研磨机与单面研磨机主要区别就是双面研磨机是对工作两个面同时一起研磨，而单面研磨机只对工件的其中一个面进行研磨，双面研磨机总体的效率要高一些，但一些工件双面研磨机研磨不了，而且也有一些工件只需要研磨一面，所以只需要单面研磨机就可以了研磨机采用无级调速系统控制,可轻易调整出适合研磨各种部件的研磨速度。采用电—气比例阀闭环反馈。研磨机压力控制,可单独调控压力装置。上盘设置缓降功能,有效的防止薄脆工件的破碎。通过一个时间继电器和一个研磨计数器,可按加工要求准确设置和控制研磨时间和研磨圈数。工作时可调整压力模式,达到研磨设定的时间或圈速时就会自动停机报警提示,实现半自动化操作。研磨机变速控制方法,研...

被研磨表面的面形精度的好坏，直接决定着产品的品质，对装配和使用影响极大，而研磨工艺中平面度的不可控，直接影响到量产质量，对产能来说，是致命硬伤。通过实际的生产经验和测量跟踪结果显示（如表2），工件的平面度变化直接受到研磨盘平面度变化影响，是决定工件表面精度的重要因素。因为研磨盘经过一段时间研磨后，由于磨损强度不均匀会导致磨盘不平整，就造成同批次的产品，在研磨后平面度的质量参数不一致。据Preston方程，磨具的磨损量与接触区压强、工件和磨具的相对运动速度以及加工时间有关研磨机，就选温州市百诚研磨机械有限公司，欢迎客户来电！金属平面研磨机维修价格研磨机平面抛光机只要用于平面抛光设备，就不同于圆管...

抛光和研磨是同一种机械运动，基本工作原理大致一样。抛光则分为精抛，粗抛，研磨分为精磨，粗磨。不过对于表面光洁度而言，抛光的表面质量比研磨确实要更高一些。工件表面的平面度，平行度，粗糙度都是根据客户精度要求生产制作，具体的要看工件表面本身的质量，以及客户要求达到的质量。研磨机的主要类型有圆盘式研磨机、转轴式研磨机和各种研磨机。研磨盘平面度是研磨的基准，是得到精密工件平面的保证。在研磨的过程中，研磨盘的平面度会下降，主要原因研磨盘的内外线速度不同，磨损不一致造成。修整的方法有两种:1是采用基准平面电镀金刚石修整轮来修面，由于电镀金刚石修整轮基本不磨损，可得到较高的平面度。2是通过修整机构修面后，也...

机械抛光靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后凸部而得到平滑面抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具。化学抛光让材料化学介质表面微观凸出部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法主要优点不需复杂设备，可以抛光形状复杂工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光重要问题抛光液配制。电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步：①宏观整平溶解产物向电解液扩散，材料表面几何粗糙下降②微光平整阳极极化，表面光亮度提高温州市百诚研磨机械...

影响模具抛光质量因素：由于机械抛光主要还靠人工完成，所以抛光技术目前还影响抛光质量主要原因。模具材料、抛光前表面状况、热处理工艺等有关。品质高钢材获得良好抛光质量前提条件，如果钢材表面硬度不均或特性上有差异，往往会产生抛光困难。钢材各种夹杂物气孔都不利于抛光。1、不同硬度对抛光工艺影响硬度增高使研磨困难增大，但抛光后粗糙度减小。由于硬度增高，要达到较低粗糙度所需抛光时间相应增长。同时硬度增高，抛光过度可能性相应减少。2、工件表面状况对抛光工艺影响钢材切削机械加工破碎过程，表层会因热量、内应力或其他因素而损坏，切削参数不当会影响抛光效果。电火花加工后表面比普通机械加工或热处理后表面更难研磨，电火...

需要对研磨盘进行相应的修整，让磨盘表面保持在较平整的水平进行研磨加工。而盘面平面度变化无法通过人的肉眼观察，需要操作者定期通过平面度仪，对盘面的平面度进行一个比较测量，来评价掌握磨盘表面的质量好坏。而当盘面平面度变化到一定程度时，就必须对磨盘进行修盘，否则，研磨出的产品平面度数值就会如图3那样不可控。修盘时，磨盘的直径越大，盘面修平的困难度就越大。所以，磨盘的大小选择，应在保证产能的情况下，尽可能小，从而方便修盘。修盘可通过调整设备机构挡架，来调节挡环的重心位置，对磨盘修盘。通过修盘经验的总结，平面度仪测量出的盘面为凸时，将挡环重心靠近磨盘回转中心，内移修盘；当盘面为凹时，将挡环重心远离磨盘回...

正确处理平面研磨机进行研磨的运动轨迹是提高研磨质量的重要条件。在平面研磨中，一般要求：①工件相对研具的运动，要尽量保证工件上各点的研磨行程长度相近；②工件运动轨迹均匀地遍及整个研具表面，以利于研具均匀磨损；③运动轨迹的曲率变化要小，以保证工件运动平稳；④工件上任一点的运动轨迹尽量避免过早出现周期性重复。为了减少切削热，研磨一般在低压低速条件下进行。粗研的压力不超过0.3兆帕，精研压力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般为20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。互相配合的工件常采用配研方法。配研前，两工件先需要经过单件研磨，然后在两工件配合表面间加入研磨液，两工件互为研具，通...

抛光机抛光材料介绍抛光机由底座、抛光板、抛光布、抛光盖和盖子等基本部件组成。电机固定在底座上，用于固定抛光盘的锥套通过螺钉与电机轴连接。抛光织物通过套圈固定在抛光盘上。通过底座上的开关打开电机并启动后，可以用手施加压力在旋转的抛光盘上抛光样品。抛光过程中加入的抛光液可以通过固定在底座上的塑料板中的排水管流入抛光机旁边的方板中。抛光盖和罩可以防止机器不使用时灰尘和其他杂物落到抛光织物上，影响使用效果。抛光材料用于抛光抛光玻璃、金属、皮革、半导体、塑料、宝石、玉石、不锈钢等。例如，玻璃抛光使用氧化铁红、二氧化锡、氧化铝、氧化铈、碳酸钡、白垩、陶土、硅藻土等的粉末混合物，它们与水等混合形成悬浮液以供...

手工研磨一般采用一级平板，材质为高碳铸铁材料，平板一般为三个一组，一级平板的平面度允许偏差见表9-31。嵌砂（压砂）是将磨料的颗粒先嵌入到研磨平板表面上。嵌砂是一项很难掌握的技艺，是保证工作质量的关所在，可用手工方法进行，也可用机械方法进行，但机械方法很难保证嵌砂的质量，所以手工嵌砂方法至为常见。在嵌砂工作进行之前，必须进行‘赶砂’工作。赶砂工作是将研磨平板上已用过失去切削作用的磨料从研磨平板表面去除掉，为嵌砂进行准备工作。赶砂就是在一块研磨平板上用硬脂酸划上直径约为10mm的两个小圆圈，然后滴上8~10滴煤油并用手工涂匀，将两块平板合在一起，由一个人用双手按“∞”字形晃动上面的平板，使煤油均...

研究表明，在表面的转换和发射声音和振动之间有很强的相关性。基于声音和振动，熟练的操作，可以检测出砂轮是锋利或磨钝了。操作者的技术依赖于人提取特征频率的能力。在研磨时，声音的频率范围从5000到10000Hz并反映了切割型材。根据已有经验，在其整个生命周期中，新研磨盘具有更高的频率。研磨盘上的颗粒，填充在孔中的金属屑，以及与金属片之间的距离，使研磨盘间距变大，从而导致较大的晶片和较高的表面粗糙度。因此，在特征频率范围内根据研磨盘上的磨粒尺寸将频率降低到5000到6000Hz之间。总之，当前进程状态的信息来源有两个：振动信号和判断。我们一直在探索振动信号的特性和的性能等级评估时间的关系，来研究自动...

近钝化的砂轮所进行的磨削。而在使用刚玉砂轮以及研磨液的条件下进行，说明缓慢进给的磨削低温并不是磨削液高压的作用，而是缓进给研磨液加工本身所具有的现象。在平面研磨机加工温度很低的情况下所产生的突发烧伤现象，常被认为是热流密度不会超过研磨液加工的热流密度的时候，工件表面稳定的低温，但这只是工件表面低温的一个平衡点温度，是会导致工件出现突发烧伤的。磨削的深度与加工的速度在增加的时候，磨削的状态会变得恶劣，会导致在加工工件在单位时间内通过切削的磨粒数的增加，作用在磨粒上的力度会减少，会随着砂轮的速度的增加而出现下降。温州市百诚研磨机械有限公司为您提供 研磨机，有需求可以来电咨询！台州精密研磨机保养研磨...