碳化硅的自扩散系数小，在不添加烧结助剂的情况下，很难烧结，即使在高温高压下也很难烧结出致密的组织。而采用金属元素的氧化物为烧结助剂能够降低烧结温度，促进烧结体组织致密化，从而提高碳化硅陶瓷的力学性能。***分散剂包括四甲基氢氧化铵、聚乙烯吡咯烷酮、丙烯酸铵、丙烯酸钠、聚乙烯醇及聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种。***分散剂能够使碳化硅微粉和稀土元素的氯化物在***溶剂中混合均匀，从而利于后续的喷雾及热处理过程。具体地，步骤s110包括：步骤s112：将金属元素的氯化物、***分散剂、***溶剂及碳化硅微粉混合，得到***浆料。具体地，金属元素的氯化物的加入量按金属元素的氧化物的质量为碳化硅微...

作为推荐，所述圆弧基准台7的半经设置在1mm的倍数。采用此技术方案，便于测量以及计算。作为推荐，所述抓数治具1的长度设置在40-60mm，宽度设置在30-50mm。采用此技术方案，尺寸小，便于使用，以及保存。作为推荐，所述**基准块2的宽度和第二基准块3的宽度一致，其宽度设置在8-12mm。采用此技术方案，有助于减少**基准块2和第二基准块3的变形。作为推荐，所述抓数治具1的表面粗糙度设置在。采用此技术方案，表面光滑便于使用，以提升半导体零件9的抓数精度。具体实施例在使用前，先将半导体零件的一侧贴附于**基准面，然后，移动半导体零件，将半导体零件的另一侧靠紧到第二基准面，如图2所示；在...

*需考虑二者侧面的平整度以及二者宽度的匹配程度，无需对二者的轴向长度进行过于精确的加工，从而降低了工艺成本。为简化驱动轴3的制造工艺，推荐地，如图5所示，驱动连接部310的侧面包括至少一个定位平面311，以使得驱动连接部310的横截面为非圆形。在本实用新型的实施例中，通过在驱动连接部310的侧面加工出至少一个定位平面311来形成非圆形的横截面，简化了驱动轴3的结构和制造工艺，降低了驱动轴3的制造成本。为提高驱动轴3和驱动衬套2上应力分布的均匀性，推荐地，如图5所示，驱动连接部310的侧面包括两个定位平面311，驱动连接部310的侧面还包括两个圆柱面312，两个定位平面311平行设置，两...

半导体与电子生产集成电路芯片需要高度专业化的设备，可在多重苛刻环境下工作，如：真空环境下的等离子，高温，与高度研磨液接触，暴露于多种高腐蚀性化学品，与石英和陶瓷等传统材料相比，三菱化学高新材料（MitsubishiChemicalAdvancedMaterialsEPP）已研发出多种材料，既满足了晶圆低污染加工的严格要求，又是低成本的解决方案。我们的材料被设计用于整个晶圆加工制程。您的优势准确复制任何地区可用的材料一般的材料选择、工程支持和测试能力机加工能力，支持仿真系统NPI应用发展材料组合一般，专设计用于湿制程工具CMP环材料的制造商，包括Techtron®PPS（CMP应用）我们会对生产...

对比例1对比例1的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似，区别在于：对比例1中不含有步骤(5)和步骤(6)。对比例2对比例2的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似，区别在于：步骤(5)为：将排胶后的***预制坯升温至300℃，加入第二碳源酚醛树脂，加热2h，然后抽真空1h，降温得到第二预制坯。对比例3对比例3的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似，区别在于：步骤(5)中，压力为8mpa。对比例4对比例4的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似，区别在于：步骤(1)为：将氧化钇溶解在水和酒精的混合溶液中，氧化钇与...

为地方财政收入做出积极的贡献。3、项目达产年投资利润率，投资利税率，全部投资回报率，全部投资回收期，固定资产投资回收期（含建设期），项目具有较强的盈利能力和抗风险能力。民营企业贴近市场、嗅觉敏锐、机制灵活，在推进企业技术创新能力建设方面起到重要作用。认定国家技术创新示范企业和培育工业设计企业，有助于企业技术创新能力进一步升级。同时，大量民营企业走在科技、产业、时尚的**前沿，能够综合运用科技成果和工学、美学、心理学、经济学等知识，对工业产品的功能、结构、形态及包装等进行整合优化创新，服务于工业设计，丰富产品品种、提升产品附加值，进而创造出新技术、新模式、新业态。经过多年的积累，我省制造...

2.汽车光电子市场。目前汽车防撞雷达已在很多***车上得到了实用，将来肯定会越来越普及。汽车防撞雷达一般工作在毫米波段，所以肯定离不开砷化镓甚至磷化铟，它的中频部分才会用到锗硅。由于全球汽车工业十分庞大，因此这是一个必定会并发的巨大市场。3.半导体照明技术的迅猛发展。基于半导体发光二极管（LED）的半导体光源具有体积小、发热量低、耗电量小、寿命长、反应速度快、环保、耐冲击不易破、废弃物可回收，没有污染，可平面封装、易开发成轻薄短小产品等优点，具有重大的经济技术价值和市场前景。特别是基于LED的半导体照明产品具有高效节能、绿色环保优点，在全球能源资源有限和保护环境可持续发展的双重背景下，...

半导体与电子生产集成电路芯片需要高度专业化的设备，可在多重苛刻环境下工作，如：真空环境下的等离子，高温，与高度研磨液接触，暴露于多种高腐蚀性化学品，与石英和陶瓷等传统材料相比，三菱化学高新材料（MitsubishiChemicalAdvancedMaterialsEPP）已研发出多种材料，既满足了晶圆低污染加工的严格要求，又是低成本的解决方案。我们的材料被设计用于整个晶圆加工制程。您的优势准确复制任何地区可用的材料一般的材料选择、工程支持和测试能力机加工能力，支持仿真系统NPI应用发展材料组合一般，专设计用于湿制程工具CMP环材料的制造商，包括Techtron®PPS（CMP应用）半导体行业就...

驱动衬套2包括***衬套部210和第二衬套部220，从而在驱动轴3与驱动衬套2连接时，驱动连接部310与***衬套部210中的驱动通孔211匹配；在驱动衬套2与工艺盘转轴1连接时，工艺盘转轴1的安装孔与第二衬套部220的侧面相配合。即，本实用新型的实施例中工艺盘转轴1与驱动衬套2之间的配合面以及驱动衬套2与驱动轴3之间的配合面是轴向错开的。如图10、图12所示，三者连接在一起后，工艺盘转轴1与驱动衬套2的***衬套部210之间存在空隙，驱动轴3与驱动衬套2的第二衬套部220之间存在空隙，从而在三者进行装配时，驱动通孔211过紧时***衬套部210可以向其外侧的缝隙膨胀，安装孔过紧时第二...

采用此技术方案，有助于减少**基准块和第二基准块的变形。作为推荐，所述抓数治具的表面粗糙度设置在。采用此技术方案，表面光滑便于使用，以提升半导体零件的抓数精度。本实用新型的有益效果是：设计新颖，结构简单、合理，能够通过设置的**基准面和第二基准面定位半导体零件的位置，并通过设置的圆弧基准台的切边抓取半导体零件的倒角以及崩口的尺寸，以剔除不良的半导体零件；且同一治具上设置有多个抓数治具，有助于批量检测。上述说明*是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明。本实用新型的具体实施方式由以下实...

再进行等静压成型的两步成型方式能够得到密度更大、更均匀的***预制坯。步骤s140：将***预制坯以℃/min～℃/min的速率升温至900℃，保温2h～4h，进行排胶。具体地，排胶过程在真空排胶炉中进行。通过上述排胶过程能够除去***预制坯中的粘结剂、分散剂等有机物质。步骤s150：将***预制坯与第二碳源混合加热，使第二碳源呈液态，然后加压至3mpa～7mpa，得到第二预制坯。具体地，第二碳源包括石墨、炭黑、石油焦、糠醛、聚碳硅烷、沥青、酚醛树脂及环氧树脂中的至少一种。在本实施方式中，第二碳源与***碳源可以相同，也可以不同。具体地，步骤s150包括：将***预制坯与第二碳源在28...

得到排胶后的***预制坯。(5)将排胶后的***预制坯升温至300℃，加入第二碳源酚醛树脂，加热2h，然后抽真空1h，再以氮气加压至5mpa，进行压力浸渗，让高含碳液体渗入预制坯的孔隙中，降温得到第二预制坯。(6)将第二预制坯放置于真空排胶炉中，以每分钟℃的速度升温至900℃，保温3h，排胶后，机加工得到排胶后的第二预制坯。(7)将排胶后的第二预制坯和硅粉按质量比为1∶2在石墨坩埚中混合，然后放置于真空高温烧结炉中进行反应烧结，烧结温度为1600℃，保温时间为3h，冷却后，得到碳化硅陶瓷。实施例3本实施例的碳化硅陶瓷的制备过程具体如下：(1)以氧化铈与碳化硅微粉的质量比为5∶100，得...

八0%的硅单晶、大部份锗单晶以及锑化铟单晶是用此法出产的，其中硅单晶的**大直径已经达三00毫米。在熔体中通入磁场的直拉法称为磁控拉晶法，用此法已经出产出高均匀性硅单晶。在坩埚熔体表面加入液体笼盖剂称液封直拉法，用此法拉制砷化镓、磷化镓、磷化铟等分解压较大的单晶。悬浮区熔法的熔体不与容器接触，用此法生长高纯硅单晶。水平区熔法用以出产锗单晶。水平定向结晶法主要用于砷化镓单晶，而垂直定向结晶法用于碲化镉、砷化镓。用各种法子出产的体单晶再经由晶体定向、滚磨、作参考面、切片、磨片、倒角、抛光、侵蚀、清洗、检测、封装等全体或者部份工序以提供相应的晶片。在单晶衬底上生长单晶薄膜称为外延。外延的法子...

PbS）很早就用于无线电检波，氧化亚铜（Cu2O）用作固体整流器，闪锌矿（ZnS）是熟知的固体发光材料，碳化硅（SiC）的整流检波作用也较早被利用。硒（Se）是**早发现并被利用的元素半导体，曾是固体整流器和光电池的重要材料。元素半导体锗（Ge）放大作用的发现开辟了半导体历史新的一页，从此电子设备开始实现晶体管化。中国的半导体研究和生产是从1957年***制备出高纯度（～）的锗开始的。采用元素半导体硅（Si）以后，不仅使晶体管的类型和品种增加、性能提高，而且迎来了大规模和超大规模集成电路的时代。以砷化镓（GaAs）为**的Ⅲ－Ⅴ族化合物的发现促进了微波器件和光电器件的迅速发展。半导体材...

水平定向结晶法主要用于制备砷化镓单晶，而垂直定向结晶法用于制备碲化镉、砷化镓。用各种方法生产的体单晶再经过晶体定向、滚磨、作参考面、切片、磨片、倒角、抛光、腐蚀、清洗、检测、封装等全部或部分工序以提供相应的晶片。在单晶衬底上生长单晶薄膜称为外延。外延的方法有气相、液相、固相、分子束外延等。工业生产使用的主要是化学气相外延，其次是液相外延。金属有机化合物气相外延和分子束外延则用于制备量子阱及超晶格等微结构。非晶、微晶、多晶薄膜多在玻璃、陶瓷、金属等衬底上用不同类型的化学气相沉积、磁控溅射等方法制成。1、元素半导体材料硅在当前的应用相当***，他不仅是半导体集成电路，半导体器件和硅太阳能电...

所述第二基准块与**基准块一体成型；所述**基准块的一侧设置有**基准面，所述第二基准块上设置有第二基准面，所述第二基准面垂直于**基准面，所述**基准面和第二基准面的连接处设置有与**基准块和第二基准块连接的圆弧避让槽；所述**基准块和第二基准块远离圆弧避让槽的一侧设置有圆弧基准台，所述圆弧基准台的圆心位于**基准面与第二基准面的连接处。采用此技术方案，设置的**基准面和第二基准面有助于半导体零件的贴合；设置的圆弧避让槽不*有助于抓数治具的加工，而且有助于半导体零件的贴合；设置的圆弧基准台有助于通过圆弧的切边抓数以计算或抓取半导体零件的尺寸以及导角的尺寸。作为推荐，所示抓数治具还设置...

采用此技术方案，有助于减少**基准块和第二基准块的变形。作为推荐，所述抓数治具的表面粗糙度设置在。采用此技术方案，表面光滑便于使用，以提升半导体零件的抓数精度。本实用新型的有益效果是：设计新颖，结构简单、合理，能够通过设置的**基准面和第二基准面定位半导体零件的位置，并通过设置的圆弧基准台的切边抓取半导体零件的倒角以及崩口的尺寸，以剔除不良的半导体零件；且同一治具上设置有多个抓数治具，有助于批量检测。上述说明*是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明。本实用新型的具体实施方式由以下实...

对比例1对比例1的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似，区别在于：对比例1中不含有步骤(5)和步骤(6)。对比例2对比例2的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似，区别在于：步骤(5)为：将排胶后的***预制坯升温至300℃，加入第二碳源酚醛树脂，加热2h，然后抽真空1h，降温得到第二预制坯。对比例3对比例3的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似，区别在于：步骤(5)中，压力为8mpa。对比例4对比例4的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似，区别在于：步骤(1)为：将氧化钇溶解在水和酒精的混合溶液中，氧化钇与...

本实用新型涉及治具领域，尤其涉及一种针对半导体零件的抓数治具。背景技术：半导体零件即半导体晶体，晶体是脆性的，加工过程中会在边缘形成碎石块似的崩碎。如有较大应力加载到晶体的解理方向上，会造成很大的崩碎面积，破坏中间已加工好的表面。因此，在加工端面前，应对半导体晶体进行端面边缘的倒角，使得在加工端面时，不容易产生破坏性的崩口。然而，在实际加工时，大部分的晶体多多少少的会发生不影响晶体性能的轻微崩口，以及极少部分会发生破坏性的崩口，为了防止破坏后的晶体被继续使用，因此，我们需要制作一个治具，用于检测晶体的崩口尺寸，将破坏严重的晶体剔除。技术实现要素：本实用新型的目的在于克服现有技术存在的以...

有些塑料本身已经有很好的耐磨性，加入各种耐磨添加剂之后，可以更加改善其耐磨性。这些添加剂像聚四氟乙烯，二硫化钼，石墨，硅利康油，玻纤，碳纤和芳香族聚酰胺纤维的添加剂制成的塑料复合材料具有自润性(selflubricating)，并可降低配合零件的压力，从而提高材料的耐磨性。下面就来看看可以提高材料耐磨性的材料。1、聚四氟乙烯（PTFE，铁氟龙）PTFE是所有耐加剂中有比较低的磨擦系数。在磨擦过程中磨出来的PTFE分子会在零件表面形成润滑的薄膜。PTFE在磨擦剪力下有很好的润滑性及耐磨性能，在高负荷应中，PTFE是比较好的耐磨添加剂。这些高负荷用包括液压式活塞环封、推力垫圈。**适当的PTFE含...

为实现传动筒4的平稳传动，可选地，如图1至图3所示，工艺盘组件还包括传动架9，传动架9的一端与传动筒4背离波浪管6的一端固定连接，传动架9的另一端用于与电机12的输出轴连接，传动架9用于带动传动筒4转动。本实用新型对传动架9的结构不做具体限定，例如，如图3所示，传动架9包括一对传动法兰91和用于连接两传动法兰91的法兰连接件92。推荐地，下方的传动法兰91通过联轴器与电机12的输出轴连接。为保证所述工艺盘组件运动的流畅性，推荐地，驱动轴3、传动筒4和工艺盘转轴1中至少一者的材料为奥氏体不锈钢。本实用新型的发明人在研究中发现，现有的半导体设备出现旋转卡顿的问题是因为运动件之间的润滑油脂液...

然后将碳化硅颗粒在真空条件、700℃下进行热处理4h，得到预处理颗粒。(2)将第二分散剂聚乙烯醇溶解在水中形成溶液，将***碳源石墨和预处理颗粒在该溶液中均匀分散，再以环氧树脂与酚醛树脂的混合物作为粘结剂加入其中，进行球磨，球磨过程中的转速为100转/分，球磨时间为5h，得到第三浆料，将第三浆料在喷雾造粒塔中喷雾，得到平均尺寸为60微米的造粒粉。(3)将造粒粉均匀填满模具，进行模压成型，成型压强为70mpa，保压时间为90s，脱模，然后置入真空包装袋中，抽真空，**后置于等静压机中等静压成型，成型压力为200mpa，保压时间为60s，得到***预制坯。(4)将***预制坯放置于真空排胶...

半导体材料是什么？半导体材料（semiconductormaterial）是一类具有半导体性能（导电能力介于导体与绝缘体之间，电阻率约在1mΩ·cm～1GΩ·cm范围内）、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。自然界的物质、材料按导电能力大小可分为导体、半导体和绝缘体三大类。半导体的电阻率在1mΩ·cm～1GΩ·cm范围（上限按谢嘉奎《电子线路》取值，还有取其1/10或10倍的；因角标不可用，暂用当前描述）。在一般情况下，半导体电导率随温度的升高而升高，这与金属导体恰好相反。凡具有上述两种特征的材料都可归入半导体材料的范围。反映半导体半导体材料内在基本性质的却是各种外界因素如光、热...

然后将碳化硅颗粒在真空条件、700℃下进行热处理4h，得到预处理颗粒。(2)将第二分散剂聚乙烯醇溶解在水中形成溶液，将***碳源石墨和预处理颗粒在该溶液中均匀分散，再以环氧树脂与酚醛树脂的混合物作为粘结剂加入其中，进行球磨，球磨过程中的转速为100转/分，球磨时间为5h，得到第三浆料，将第三浆料在喷雾造粒塔中喷雾，得到平均尺寸为60微米的造粒粉。(3)将造粒粉均匀填满模具，进行模压成型，成型压强为70mpa，保压时间为90s，脱模，然后置入真空包装袋中，抽真空，**后置于等静压机中等静压成型，成型压力为200mpa，保压时间为60s，得到***预制坯。(4)将***预制坯放置于真空排胶...

工艺盘组件还包括轴承座10，传动筒4的外凸台结构42设置在轴承座10内，且传动筒4的两端设置在轴承座10外；外凸台与轴承座10的内壁之间设置有前述的轴承，使得传动筒4能够绕轴线相对轴承座10旋转；为便于安装，如图3所示，轴承座10可以包括上法兰101和下法兰102，上法兰101和下法兰102上均形成有轴孔，传动筒4朝向工艺盘01的一端穿过上法兰101上的轴孔，传动筒4背离工艺盘01的一端穿过下法兰102上的轴孔。为保证定位传动筒4的轴向定位，避免传动筒4在转动时晃动，推荐地，上述滚针轴承为推力滚针轴承，且位于外凸台结构42背离工艺盘01一侧的推力滚针轴承与下法兰102之间还设置有碟形弹...

附图标记说明01：工艺盘1：工艺盘转轴2：驱动衬套210：***衬套部211：驱动通孔211a：避让槽220：第二衬套部221：轴通孔222：定位凸起3：驱动轴310：驱动连接部320：驱动轴体部311：定位平面312：圆柱面4：传动筒41：内凸台结构42：外凸台结构43：挡环槽5：密封衬套6：波浪管7：挡环8：调平件9：传动架91：传动法兰92：法兰连接件10：轴承座101：上法兰102：下法兰11：升降机构12：电机13：定位块具体实施方式以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式*用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。本...

驱动轴3通过非圆柱体的驱动连接部310与异形孔之间的配合将扭矩传递至驱动衬套2，从而能够在工艺盘组件进行变速运动时，避免驱动轴3与驱动衬套2之间发生相对滑动，保证了驱动衬套2与驱动轴3之间的对位精度，进而提高了工艺盘转轴1旋转角度的控制精度。为实现驱动衬套2与工艺盘转轴1的匹配，同时提高驱动衬套2与工艺盘转轴1之间的对位精度，推荐地，如图5至图12所示，驱动衬套2的外壁上形成有至少一个定位凸起222，对应的，安装孔的侧壁上形成有至少一个定位槽，定位凸起222一一对应地插入定位槽中。如图11、图12所示为本实用新型的实施例中驱动衬套2插入工艺盘转轴1的底端安装孔时，定位凸起222插入定位...

工艺盘转轴1用于驱动工艺盘01旋转，工艺盘组件还包括驱动轴3和驱动衬套2。如图5至图12所示，驱动轴3包括驱动连接部310和驱动轴体部320，驱动衬套2套设在驱动连接部310外部，工艺盘转轴1的底端形成有安装孔，驱动衬套2部分设置在该安装孔中，工艺盘转轴1通过驱动衬套2、驱动连接部310与驱动轴体部320连接。其中，驱动连接部310的横截面为非圆形，驱动衬套2的套孔与驱动连接部310相匹配，工艺盘转轴1的安装孔与驱动衬套2相匹配，驱动轴3旋转时，带动驱动衬套2及工艺盘转轴1旋转。需要说明的是，在本实用新型的实施例中，驱动连接部310匹配设置在驱动衬套2的套孔中、驱动衬套2匹配设置在工艺...

***浆料中的金属元素的氯化物在环氧丙烷的作用下沉淀。步骤s116：将第二浆料进行喷雾，然后在真空条件、700℃～900℃下进行加热处理，得到预处理颗粒。具体地，在闭式喷雾塔中将第二浆料进行喷雾。步骤s116中加热处理的时间为1h～4h。将第二浆料喷雾后再进行加热处理，使得稀土元素或锶元素的氯化物转化为氧化物且均匀分布在碳化硅表面。采用上述步骤能够使稀土元素或锶元素均匀沉降在碳化硅颗粒的表面，在后续处理过程中，稀土元素或锶元素会存在于晶界处，具有促进烧结、降低气孔率的作用，从而提高碳化硅陶瓷的抗弯强度等力学性能。而传统的碳化硅陶瓷的制备过程中，通常将金属元素的氧化物作为助烧剂直接与碳化...

所述工艺盘组件为前面所述的工艺盘组件，所述工艺盘组件的工艺盘设置在所述工艺腔中。在本实用新型提供的工艺盘组件以及半导体设备中，工艺盘转轴通过驱动衬套、驱动连接部与驱动轴体部连接，驱动连接部的横截面为非圆形，而驱动衬套的套孔与驱动连接部相匹配，工艺盘转轴的安装孔与驱动衬套相匹配。从而通过非圆柱体的驱动连接部与驱动衬套上的异形孔之间的配合将扭矩传递至驱动衬套，进而基于安装孔与驱动衬套的配合关系传递至工艺盘转轴，从而能够避免驱动轴与驱动衬套之间发生相对滑动，提高了工艺盘转轴旋转角度的控制精度，进而提高了工件的放置精度。附图说明附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与...