上海弥正针对光伏产业多晶硅生产、硅片切割、电池片制造等全流程，推出包含超高纯氢气、氮气、氩气、硅烷等的气体套装解决方案，适配 N 型 TOPCon 与 HJT 高效电池技术需求。套装内所有气体均通过光伏行业**提纯工艺，其中超高纯氢气纯度达 6N 级，硅烷纯度达 5N 级，杂质含量严格遵循《光伏制造用特种气体发展白皮书》标准，确保不影响电...

标准气体气瓶的回收利用是降低成本与减少污染的重要途径，契合循环经济理念。上海弥正推出 “气瓶全生命周期管理服务”，对客户使用后的气瓶进行回收、检测、翻新与再利用：通过水压试验与气密性检测筛选合格气瓶，对内壁进行重新钝化处理，恢复至新瓶标准；建立气瓶追溯系统，记录每只气瓶的使用次数与维护情况，使用寿命延长至 10 年以上。该服务使客户气瓶采...

上海弥正超高纯六氟化钨（6N 级纯度），是半导体先进制程中钨金属层沉积的重心前驱体，以 “高纯度 + 低金属杂质” 助力芯片性能升级。采用化学合成与多级精馏提纯工艺，将杂质总量控制在 1ppm 以下，其中铜、铁、铝等金属杂质含量均≤0.1ppb，完全满足 14nm 及以下逻辑芯片、3D NAND 闪存制造的工艺要求。在化学气相沉积（CVD...

上海弥正严格遵循欧盟 REACH 法规（《化学品注册、评估、授权和限制法规》）要求，确保所有出口欧盟的超高纯气体产品完全合规，为客户进入欧盟市场扫清法规障碍。公司建立了完善的化学品安全信息管理体系，对每款出口产品进行多面的物质特性评估与注册，完成了超过 20 种超高纯气体的 REACH 注册，涵盖氟化物、硅烷等关键品类，并编制符合要求的 ...

上海弥正氢能燃料电池全产业链超高纯气体解决方案，覆盖燃料电池电堆、系统及整车制造全流程，以 “高纯度 + 低有害杂质” 保障燃料电池的性能与寿命。方案重心气体包括燃料电池车动力源 —— 超高纯氢气（纯度 99.999%），以及用于电堆生产的超高纯氮气、氩气。其中，超高纯氢气中一氧化碳、硫化物等有害杂质含量≤0.1ppb，可有效避免燃料电池...

上海弥正超高纯氧气（5N 级纯度），兼具医疗与电子制造双重适配性，以 “高纯度 + 低杂质” 满足多元场景需求。采用深度冷冻与吸附提纯工艺，将水分、二氧化碳、一氧化碳等杂质含量控制在 0.5ppb 以下，无异味、无有害污染物，符合医用气体 GB 8982-2024 标准与电子行业 SEMI 标准。在医疗领域，可用于重症患者呼吸疗愈、麻醉辅...

挥发性有机物（VOCs）是大气污染的重要来源，其检测依赖高灵敏度的标准气体进行仪器校准。上海弥正推出的 VOCs 多元标准气系列，涵盖苯、甲苯、二甲苯等 20 余种常见组分，可根据客户需求组合配比，浓度范围从 0.1ppm 至 50ppm。采用渗透法制备痕量组分，确保低浓度下的准确性，配合内壁硅烷化处理的铝制气瓶，减少 VOCs 吸附损失...

上海弥正凭借低温精馏、吸附分离、膜分离、催化脱氧等多工艺集成提纯技术，实现超高纯气体 5N-9N 级纯度的稳定量产，技术水平对标国际先进标准。针对不同气体特性定制专属提纯方案：惰性气体采用 “低温精馏 + 吸附” 组合工艺，有效去除微量杂质；活性气体通过 “催化净化 + 膜分离” 技术，精细控制有害杂质含量；特种气体则采用 “低温吸附 +...

不同应用场景对标准气体纯度要求差异明显，常规工业场景需≥99.9%，而半导体、医疗等领域则要求杂质含量低于 ppb 级。上海弥正针对需求开发的超高纯标准气体系列，通过深度精馏、精密吸附等多道提纯工艺，将氧气、水分、烃类等杂质总含量控制在 1ppm 以下，部分电子级产品杂质含量≤0.1ppb。例如用于半导体光刻工艺的氮中氨气混合气，不*保证...

焊接过程中，保护气体的组分比例直接影响焊缝强度与外观，二元或三元混合气已成为主流选择。上海弥正针对不同焊接材料开发特用混合气体：用于碳钢焊接的氩气 - 二氧化碳混合气，二氧化碳含量可在 15%-25% 之间调节，能有效减少飞溅，焊缝成形美观；用于铝合金焊接的氩气 - 氦气混合气，氦气比例根据焊接厚度调整，可提升电弧温度，确保厚板焊接致密性...

制药行业对生产环境的氧气、二氧化碳浓度有严格要求，需通过标准气体校准在线监测设备，确保符合 GMP 规范。上海弥正开发的制药级标准气系列，包括纯氮气、氧中二氧化碳混合气等，纯度≥99.999%，杂质含量≤0.1ppm。用于无菌车间的氧浓度校准气，氧气浓度准确至 0.1%，可实时监测车间厌氧环境；用于发酵工艺的二氧化碳标准气，浓度可控在 5...

上海弥正超高纯乙硼烷（5N 级纯度），专为 FinFET、GAA（全环绕栅极）等先进晶体管结构的超浅结掺杂工艺设计，以 “超高纯度 + 准确控制” 突破芯片制程瓶颈。采用低温合成与精密吸附提纯技术，将杂质含量控制在极低水平，其中磷、砷等杂质含量≤5ppt，水分含量≤10ppb，满足 5nm 及以下先进制程对超浅结掺杂的严苛要求。在超浅结掺...