以１８０度力方向迅速拉下胶纸，同一个位置进行３次．实验工具：刀片，３Ｍ胶纸，毛刷．测试结果：１００／１００不掉漆，刀口处平整．测试项目二：耐磨耗测试测试程式：采用ＮＯＲＭＡＮＲＣＡ耐磨耗仪以及**的纸带（规格：１１／１６inchside*6/8inchdiameter)，施加１７５g负重，带动纸带在样品的表面磨檫１５０次．测试工具：ＲＣＡ纸带机，毛刷或者棉条．测试结果：１５０次（ＭＩＸ）未发现涂层破穿．测试项目三：硬度测试测试程式：用１Ｈ三菱铅笔，将笔芯削成５mm的圆柱体，用４００目的砂纸磨平后，装在**的铅笔硬度测试仪上（负重１Ｋg,铅笔与水平的角度为４５度）推动铅笔向前滑动５mm长...

凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸发镀膜又可以分为下列几种：电阻蒸发源蒸镀法采用钽，钼，钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让气流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝，氧化铍等坩锅中进行间接加热蒸发，这就是电阻加热蒸发法。利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜质量要求不太高的大批量的生产中，迄今为止，在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的**高温度有限，加热器的寿命也较短。近年来，为了提高加热器的寿命，国内外已采用寿命较长的...

基材中如有挥发性杂质释放会使镀铝层发彩、变色、影响反射效果。图1(略)为PC塑料的DSC曲线，此图显示出PC基材在温度为90℃左右时有明显的热流变化，可以认为有物质释放，其玻璃化转变温度Tg约为140℃，该材料的使用温度应该低于这一温度。第二，提高基材表面平整度，确保获得镜面的镀膜效果。一般来说塑料表面本身具有，真空镀膜的厚度不超过μm，无法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的镜面效果，UV涂层厚度达到10-20μm，表面平整度在μm以下，可填平基材缺陷并得到理想的镀膜效果。适用于PC材料车灯反射罩的UV涂料必须具备以下基本特点:(1)流平状态好，漆膜丰满光亮，这样可以确保真空镀膜后有...

磁控溅射卷绕镀膜机磁控溅射的构成例（W35系列）对树脂基膜等基材以卷到卷方式采用磁控溅射方法形成透明导电膜（ITO，ZnO等）・光学膜（SiO2,SiOx,NbOx等）镀膜的磁控溅射卷绕镀膜机。磁控溅射法，采用各种阴极（DC,UBM,DMS，旋转磁石），进行触摸屏・FPD・太阳能电池・窗膜等所必须的透明导电膜（TCO）・光学膜・氧化膜・金属膜的镀膜。聚集了从面向R&D・实验性生产的小型装置到面向宽幅・大型卷绕镀膜机，对应柔性电子・能源领域的研究开发直到量产的需求。特征1.可搭载各种阴极1）UBMS（非平衡磁控溅射）根据非平衡磁场增大基材附近的等离子密度。膜表面的能量辅助效果使得薄膜特性...

常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为～。蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质（图1[蒸发镀膜设备示意图]）电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料；②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质；③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的...

用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子借助于靶表面上形成的正交电磁场，被束缚在靶表面特定区域，增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射。是制备低维度，小尺寸纳米材料器件的必备实验手段，广泛应用于集成电路，光子晶体，低维半导体等领域。主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu...

离子镀蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。一种离子镀系统如图4[离子镀系统示意图],将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体（如氩）以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和氩离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度**提高。离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并...

车灯真空镀膜UV漆的技术要求车灯真空镀膜UV漆的技术要求由于辐射固化涂料的绿色环保与高效率，使得该技术在世界范围内获得了重视和快速增长，其应用领域越来越广。UV涂层具有极好的表面光洁度，很适合作为底漆用于真空金属镀膜技术领域，在塑料基材上可获得十分光亮的金属外观。随着汽车工业的发展，许多金属替代工艺得到了应用，目前在汽车车灯反射罩应用领域，已经完全采用在PC、BMC等塑料表面通过真空镀铝膜来提高反射效果，用于这一领域的UV涂料要求具有良好的流平性，高耐温性(用于PC基材要求120℃以上，BMC基材高达180℃以上)。在设计PC车灯反射罩用UV底漆时，要注意提高涂层的交联密度来保证涂层有...

Ta靶、锗靶、Ge靶、银靶、Ag靶、钴靶、Co靶、金靶、Au靶、钆靶、Gd靶、镧靶、La靶、钇靶、Y靶、铈靶、Ce靶、铪靶、Hf靶、钼靶、Mo靶、铁镍靶、FeNi靶、V靶、W靶、不锈钢靶、镍铁靶、铁钴靶、镍铬靶、铜铟镓靶、铝硅靶NiCr靶等金属靶材。陶瓷靶材2.陶瓷靶材ITO靶、AZO靶，氧化镁靶、氧化铁靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、硫化镉靶，硫化钼靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽靶，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、氟化镁靶，硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶...

本实用新型涉及镀膜机技术领域，具体涉及应用于卷绕镀膜机的在线测量装置。背景技术：目前，对于卷绕镀膜机上不同厚度的膜材及镀层上的电阻值需要通过人工测量，无法实现在线即时测量，这种传统的测量方式费时费力，效率较低。技术实现要素：鉴于背景技术的不足，本实用新型是提供了应用于卷绕镀膜机的在线测量装置，解决的问题是现有技术中，采用人工测量的方式测量卷绕镀膜机上的膜材及镀层上的电阻值，测量方式费时费力，测量效率低。为解决以上技术问题，本实用新型提供了如下技术方案：应用于卷绕镀膜机的在线测量装置，包括真空室，在所述真空室的内部固定设置固定座，固定座可以贴合固定在真空室的内壁上，也可以间接固定在真空室...

种类繁多的塑料或其他高分子材料作为工程装饰性结构材料，大量应用于汽车、家电、日用包装、工艺装饰等工业领域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外观不够华丽、耐磨性低等缺陷，如在塑料表面蒸镀一层极薄的金属薄膜，即可赋予塑料程亮的金属外观，合适的金属源还可增加材料表面耐磨性能，拓宽了塑料的装饰性和应用范围。真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提...

目前，市场上的真空内镀膜机只有一个工作室，其需要经过物件安装、关闭钟罩、抽气、蒸发、真空处置、排气、打开钟罩、取下物件的系列过程，才能完成镀膜工作；而在这种真空内镀膜机处于工作状态时，工作人员必须坚守岗位，注意观察，把握好镀膜时间，并等待下一次操作，这样浪费了人力，工作效率不高。目的是提供工作效率高的一种真空镀膜机。一种真空镀膜机，本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控...

镀膜靶材是用物理或化学的方法在靶材表面镀上一层透明的电解质膜,或镀一层金属膜,目的是改变靶材表面的反射和透射特性.而镀膜的方法有真空镀膜和光学镀膜,有不少用户不知道这二者的区别。一、概念的区别1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法.例如,真空镀铝、真空镀铬等.2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程.在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求.常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜.二、原理的区别1、真空镀膜是真空...

用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子借助于靶表面上形成的正交电磁场，被束缚在靶表面特定区域，增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射。是制备低维度，小尺寸纳米材料器件的必备实验手段，广泛应用于集成电路，光子晶体，低维半导体等领域。主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu...

利用光学薄膜可提高硅光电池的效率和稳定性。一、结构**简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层。在这种情况下，可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质。当一束单色平面波入射到光学薄膜上时，在它的两个表面上发生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律给出，反射光和折射光的振幅大小则由菲涅耳公式确定（见光在分界面上的折射和反射）。二、特点光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割，膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的，可以是透明介质，也可以是光学薄膜吸收介质：可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的，实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多，...

遮光和隔热性能也非常好，可以作为生产***包装产品的材料。聚乙烯由于真空镀膜适应差，但通过改造后还是可以用于真空镀膜的，但只能生产低档的包装产品或隔热产品，聚丙烯比聚乙烯受热更稳定，而且非常轻，所以其利用价值比较高，不过聚丙烯与膜层的结合性比较差，所以必须表面处理后才能进行镀膜，膜层作装饰作为，使产品更美观。聚氯乙烯是一种不易腐蚀的物质，但受热不稳定，它所能承受的温度只有60℃以下，为了提高其耐热性会在其中加入稳定剂，真空镀膜机也要选择低温镀膜的设备。真空镀膜机是应用于各行各业的，而塑料的***运用，真空镀膜技术的不断发展注定会把触手伸到塑料行业，面对某些常用却不能直接进行真空镀膜的塑...

在离子源推进器实验中，人们发现有推进器材料从离子源飞出，这就开始了离子源在材料，特别是材料表面改性的应用。离子源的另一个重要应用是高能物理。具体就是离子加速器。简单地说就是用一台离子源产生某种材料的离子，这个离子就在磁性环路上加速，从而轰击一个靶，产生新的物质或揭示新的物理规律。真空镀膜中用到的离子源种类较多。主要有:高频离子源，弧放电离子源，kaufman离子源，射频离子源，霍尔离子源，冷阴极离子源，电子回旋离子源，阳极层离子源，感应耦合离子源可能还有很多其它类型离子源未被提到。离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以改善膜与基体的结合强度，...

在生活中我们经常会用到各类玻璃制品，例如玻璃窗、玻璃杯、玻璃移门等。玻璃制品兼顾美观与实用，既能够凭借晶莹剔透的外表惹人喜爱，又能够充分利用其坚硬耐用的物理性能。一些艺术玻璃甚至会使玻璃具有更多的图样，增强装饰效果。本篇文章中我们将介绍什么是真空镀膜，并说明有哪几款节能镀膜玻璃。一、什么是真空镀膜在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜.虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜.真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.真空镀膜技术初现于20世纪30年代,四五十年代开始出现工业应用,工业化大规模生产...

在生活中我们经常会用到各类玻璃制品，例如玻璃窗、玻璃杯、玻璃移门等。玻璃制品兼顾美观与实用，既能够凭借晶莹剔透的外表惹人喜爱，又能够充分利用其坚硬耐用的物理性能。一些艺术玻璃甚至会使玻璃具有更多的图样，增强装饰效果。本篇文章中我们将介绍什么是真空镀膜，并说明有哪几款节能镀膜玻璃。一、什么是真空镀膜在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜.虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜.真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.真空镀膜技术初现于20世纪30年代,四五十年代开始出现工业应用,工业化大规模生产...

氧化铋、Bi2O3，氧化镨、Pr6O11，氧化锑、Sb2O3，氧化钒、V2O5，氧化镍、NiO，氧化锌、ZnO，氧化铁、Fe2O3，氧化铬、Cr2O3，氧化铜、CuO等。高纯氟化物氟化镁、MgF2，氟化镱、YbF3，氟化钇、LaF3，氟化镝、DyF3，氟化钕、NdF3，氟化铒、ErF3，氟化钾、KF，氟化锶、SrF3，氟化钐、SmF3，氟化钠、NaF，氟化钡、BaF2，氟化铈、CeF3，氟化铅等。高纯金属类高纯铝,高纯铝丝，高纯铝粒，高纯铝片，高纯铝柱，高纯铜，高纯铜丝，高纯铜片，高纯铜粒，高纯铬，高纯铬粒，高纯铬粉，高纯铬块，铬条，高纯钴，高纯钴粒，高纯金，高纯金丝，高纯金片，高纯金...

高纯镍柱，高纯钽，高纯钽片，高纯钽丝，高纯钽粒，高纯镍铬丝，高纯镍铬粒，高纯镧,高纯镨,高纯钆,高纯铈,高纯铽,高纯钬,高纯钇,高纯镱,高纯铥,高纯铼,高纯铑,高纯钯,高纯铱等.混合料氧化锆氧化钛混合料，氧化锆氧化钽混合料，氧化钛氧化钽混合料，氧化锆氧化钇混合料，氧化钛氧化铌混合料，氧化锆氧化铝混合料，氧化镁氧化铝混合料，氧化铟氧化锡混合料，氧化锡氧化铟混合料，氟化铈氟化钙混合料等混合料其他化合物钛酸钡，BaTiO3，钛酸镨，PrTiO3，钛酸锶，SrTiO3，钛酸镧，LaTiO3，硫化锌，ZnS，冰晶石，Na3AlF6，硒化锌，ZnSe，硫化镉，硫化钼，硫化铜，二硅化钼。辅料钼片，钼...

在离子源推进器实验中，人们发现有推进器材料从离子源飞出，这就开始了离子源在材料，特别是材料表面改性的应用。离子源的另一个重要应用是高能物理。具体就是离子加速器。简单地说就是用一台离子源产生某种材料的离子，这个离子就在磁性环路上加速，从而轰击一个靶，产生新的物质或揭示新的物理规律。真空镀膜中用到的离子源种类较多。主要有:高频离子源，弧放电离子源，kaufman离子源，射频离子源，霍尔离子源，冷阴极离子源，电子回旋离子源，阳极层离子源，感应耦合离子源可能还有很多其它类型离子源未被提到。离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以改善膜与基体的结合强度，...

许多人在使用真空镀膜设备的时候，不重视真空镀膜设备的清洗，导致了真空镀膜设备出现很多问题，下面真空镀膜设备厂家分析清洁方案。1.油扩散泵真空系统是使用的真空系统，其获得真空度范围为1.3*10-3~1.3*10-5Pa。油扩散泵真空系统构成的各类真空镀膜设备，常见的故障是真空度抽不上去或真空度抽不到原来的极限压力水平。真空度抽不上去的原因需要仔细分析，可能是活动密封处松动、焊缝漏气、真空泵或真空阀门等元件损坏等原因所导致。此外，真空室内壁的油蒸汽污染，真空工艺过程各种污染物的污染也可能是主要原因。防止的方法是：定期清洗真空室。定期对油封机械真空泵和油金属扩散泵进行清理。2.真空镀膜器材由许多不...

附着性好，膜结构及形貌差，若用电子束加热必须用差压板；可用于镀耐腐蚀润滑机械制品。2）多阴极型。利用电阻或电子束加热使膜材气化；依靠热电子，阴极发射的电子及辉光放电使充入的真空惰性气体或反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，有时需要对基板加热可用于镀精密机械制品，电子器件装饰品。3）活性反应蒸镀法（ARE）。利用电子束加热使膜材气化；依靠正偏置探极和电子束间的低压等离子体辉光放电或二次电子使充入的氧气，氮气等反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，要对基板加热，蒸镀效率高，能获得氧化铝，氮化钛，碳化钛等薄膜；可用于镀机械制品，电子器件，装饰品。4）空心阴极离子镀（HCD）。利...

并且大墙板和小墙板之间设置有定距管，同时大墙板和小墙板上固定有放料座，所述放料座上设置有放卷，且放卷上设置有薄膜，并且薄膜通过放卷通过铝导辊与弯辊相连接，所述弯辊上的薄膜通过第二铝导辊与第二弯辊相连接，且第二铝导辊和第二弯辊之间的下方设置有蒸发源，所述第二弯辊上的薄膜与水冷辊相连接，且水冷辊上的薄膜通过第三铝导辊与张力辊相连接，并且薄膜通过张力辊与第四铝导辊相连接，所述第四铝导辊上的薄膜与摆架上的第五铝导辊相连接，且第五铝导辊上的薄膜与第三弯辊相连接，所述第三弯辊上的薄膜通过第六铝导辊与第七铝导辊相连接，且第七铝导辊上的薄膜与收卷相连接，并且收卷安装在收料座上，同时收料座安装在大墙板和...

对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。三、方法和材料的区别1、真空镀膜的方法材料：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约～，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离...

特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术，根据电子束蒸发源的形式不同，又可分为环形***，直***，e型***和空心阴极电子***等几种。环形***是由环形的阴极来发射电子束，经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单，但是功率和效率都不高，基本上只是一种实验室用的设备，目前在生产型的装置中已经不再使用。直***是一种轴对称的直线加速***，电子从灯丝阴极发射，聚成细束，经阳极加速后打在坩锅中使镀膜材料融化和蒸发。直***的功率从几百瓦至几百千瓦的都有，有的可用于真空蒸发，有的可用于真空冶炼。直***的缺点是蒸镀的材料会污染***体结构，给运...

利用光学薄膜可提高硅光电池的效率和稳定性。一、结构**简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层。在这种情况下，可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质。当一束单色平面波入射到光学薄膜上时，在它的两个表面上发生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律给出，反射光和折射光的振幅大小则由菲涅耳公式确定（见光在分界面上的折射和反射）。二、特点光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割，膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的，可以是透明介质，也可以是光学薄膜吸收介质：可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的，实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多，...

产品放置２４小时后拿出，在常温条件放置２４小时后观察外观并做附着力测试．测试工具：高低温试验箱测试结果：涂层表面无异常，附着力ＯＫ测试项目九：高温保存测试程式；在温度６６度，９０％ＲＨ的条件下，放置８８小时，在常温条件恢复２４小时，观察外观并做附着力测试．测试结果：涂层外观无异常，附着力ＯＫ测试项目十：冷热冲击测试程式：将产品放在温度冲击箱中，先在－２０度的低温环境下保存２４小时，在１分钟内将温度切换到７０度的高温环境并保存２４小时，接着将温度下调到－２０度低温，保存２４小时．***在１分钟内将温度切换到７０度的高温环境保存４８小时，时间共１２０小时．将产品常温环境放置２４小时观察涂层...

PVD是英文PhysicalVaporDeposition（物***相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD技术的发展PVD技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。**初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材...