南宁电子级氢氟酸用途

氢氟酸：HydrofluoricAcid;CAS：7664-39-3分子式：HF分子量：20.2；俗名：氟酸、白骨酸、化骨水、洗钻水、除锈剂、酸洗等；特征：具有刺激气味及剧毒性，属于中等强度偏弱的酸，与金属氧化物、氢氧化钠和碳酸盐反应生成金属氟盐，具有溶解硅和硅酸盐的性质，与三氧化硫或氯磺酸生成氟磺酸，与卤代芳烃、醇、烯、烃类反应生成含氟有机物，溶于水生成腐蚀性很强的酸；用途：氢氟酸主要用于半导体行业和玻璃蚀刻剂，因为硅的化学性质不活泼,常温下不与水、空气、酸反应，与强碱反应。氢氟酸概念股盘中急速拉升,中欣氟材大涨8%。南宁电子级氢氟酸用途

氢氟酸市售通常浓度：溶质的质量分数40%，工业级；质量分数40%，电子级。为高度危害毒物。浓时的密度1.18g/cm3随着HF溶液质量分数的提高，HF对碳钢的腐蚀速率是先升高后降低。浓度低时因形成氢键具有弱酸性，但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别。液态氟化氢是酸性很强的酸，酸度与无水硫酸相当，但较氟磺酸弱。腐蚀性强，对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。化学试剂-氢氟酸用HF溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离。广州电子级氢氟酸价格苯甲酰基异硫氰酸酯厂家_在线下单_当日发货。

    氢氟酸：联合蚀刻和清洗半导体硅片等的方法和装置，推荐使用氢氟酸(HF)、氢氯酸（盐酸）和水溶液，生成高频蒸气、盐酸蒸气和水蒸气的平衡蒸气混合物作为均匀处体。处体不使用载气，载气会使蒸汽不均匀，从而降低蚀刻速率。蒸汽推荐由液体源产生，该液体源设置在容纳晶片的反应室内。晶片比较好被定向，使被处理的表面朝下。晶片有利地位于处理蒸汽的液体源上方或附近。晶片以每分钟20-1000转的旋转速度旋转，以提供均匀处体在晶片表面上的均匀分散，并促进从液体源到处体和处理表面的循环和转移。蒸汽的液体源可以有利地设置在紧邻晶片处理表面下方的槽中，或者设置在邻近晶片的环形槽中。这些工艺提供了良好均匀性和优异颗粒计数性能的高速蚀刻。

氢氟酸侵入途径：可经皮肤吸收，氢氟酸酸雾经呼吸道吸入。毒理学简介：对皮肤有强烈刺激性和腐蚀性。氢氟酸中的氢离子对人体组织有脱水和腐蚀作用，而氟是活泼的非金属元素之一。皮肤与氢氟酸接触后，氟离子不断解离而渗透到深层组织，溶解细胞膜，造成表皮、真皮、皮下组织乃至肌层液化坏死。氟离子还可干扰烯醇化酶的活性使皮肤细胞摄氧能力受到抑制。估计人摄入1.5g氢氟酸可致立即死亡。吸入高浓度的氢氟酸酸雾，引起和出血性肺水肿。氢氟酸也可经皮肤吸收而引起严重中毒。氢氟酸（Hydrofluoric Acid）是氟化氢气体的水溶液，清澈，无色、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。

氢氟酸制备方法氯甲烷与硅粉在氯化亚铜催化下一步直接合成，生成甲基氯硅烷混合物，经精馏提纯可得三甲基氯硅烷及其他单体。实验室制备可将四甲基硅烷与乙酰氯在三氯化铝存在下反应。注意事项1、本品应存放在干燥、阴凉处，室温下存放，避免与酸、碱、醇、水等接触，贮存温度-40℃～40℃。2、本品运输时避免雨淋、日晒，按危险品贮存和运输。贮存期：6个月健康危害侵入途径：吸入、食入、经皮吸收。健康危害：对呼吸道和眼睛、皮肤粘膜有强烈刺激作用。吸入后可因喉、支气管的痉挛、水肿，化学性肺炎、肺炎、肺水肿而致死。接触工人往往有眼痛、流泪、咳嗽、、恶心、呕吐、喘息、易激动、皮肤发痒等。氢氟酸目前全国产能约270万吨，其中有效产能在200万吨左右。佛山泰赫化工氢氟酸现货

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