三甲基氯硅烷-三甲基氯硅烷（trimethylchlorosilane）为无色透明液体，有刺激臭味，在空气中暴露，易和潮气反应产生氯化氢。硅-卤键化合物。在工业上，已形成规模生产能力，一般采用氯甲烷和硅粉在催化剂作用下直接合成，经分馏得到纯品。中文名：三甲基氯硅烷英文名：trimethylchlorosilane化学式：C3H9ClSi分子量：108.64熔点：-40℃沸点：57.3℃密度：0.857g/cm3外观：无色溶液闪点：-18℃性状无色透明液体。有挥发性，在潮湿空气中易水解而成游离盐酸。溶于苯、和过氯乙烯。易燃，有毒，有腐蚀性储存密封阴凉干燥保存。用途聚硅酮液中间体。甲基硅油封头剂。抗水剂。安全措施贮于低温通风处，远离火种、热源。与氧化剂、酸碱类等分储分运。灭火：二氧化碳、干粉、干砂。禁用水和泡沫。生意社:本周氢氟酸市场价格走势上涨。三沙泰赫化工氢氟酸行情
氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（主要成分：二氧化硅），生成气态的四氟化硅反应方程式如下：SiO2(s)+4HF(aq)===SiF4(g)↑+2H2O(l)生成的SiF4可以继续和过量的HF作用，生成氟硅酸：SiF4(g)+2HF(aq)===H2[SiF6](aq)，氟硅酸是一种二元强酸。正因如此，它必须储存在塑料（理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好）、蜡质制或铅制的容器中。氢氟酸没有还原性。如果要长期储存，不仅需要一个密封容器，而且容器中应尽可能将空气排尽。与硅和硅化合物反应生成气态的四氟化硅（能腐蚀玻璃），但对塑料、石蜡、铅、金、铂不起腐蚀作用。能与水和乙醇混溶。市售氢氟酸溶质质量分数40%，相当于。。剧毒，小致死量(大鼠，腹腔)25mg/kg。有腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤能形成较难愈合的溃疡。 南京试剂级氢氟酸批发广州 批发零售35%,50%,55%氢氟酸氢氟酸。
氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，清澈，无色、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。熔点-83.3℃，沸点19.54，闪点112.2℃，密度1.15g/cm³。易溶于水、乙醇，微溶于。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离，所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。具有极强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。
氢氟酸、氟化氢铵用途？用作玻璃蚀刻剂、消毒剂、防腐剂、金属铍的溶剂、硅素钢板的表面处理剂，还用于制造陶瓷和镁合金。可用作化学试剂、玻璃蚀刻剂(常与氢氟酸并用)、发酵工业消毒剂和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂，以及硅钢板的表面处理剂。还用于制造陶瓷、镁合金，锅炉给水系统和蒸汽发生系统的清洗脱垢，以及油田砂石的酸化处理。也用作烷基化、异构化催化剂组分。用于油田酸化处理，制造镁及镁合金。用作玻璃的消光，起霜、蚀刻剂，用作木材防护剂、铝的增光剂，纺织工业用作除锈剂，还可用于电镀、电子工业、以作为分析试剂等。用作分析试剂和细菌抑制剂。能腐蚀玻璃，对皮肤有腐蚀性。可用作化学试剂、玻璃蚀刻剂(参与氢氟酸并用)、发酵工业消毒剂和防腐剂、由氧化铍制金属铍的溶剂以及硅钢板的表面处理剂，还用于制造陶瓷、镁合金，锅炉给水系统和蒸气发生系统的清洗脱垢，以及油田砂石的酸处理，也用作烷基化、异构化催化剂组分。用于炼铍、制电焊条、铸钢、木材防腐剂等。能用作三价铁离子的隐蔽试剂。 本周氢氟酸市场价格走势小幅上涨(4.1-4.8)。
氢氟酸【运输安全】（1）运输车辆应有危险货物运输标志、安装具有行驶记录功能的卫星定位装置。未经公安机关批准，运输车辆不得进入危险化学品运输车辆限制通行的区域。（2）用其他包装容器运输时，容器须用耐腐蚀材料的盖密封。运输车辆应符合符合消防安全要求，配备相应的消防器材。运输车辆进入厂区，保持安全车速。（3）氢氟酸搬运人员必须注意防护，按规定穿戴必要的防护用品；搬运时，管理人员必须到现场监卸监装；夜晚或光线不足时、雨天不宜搬运。若遇特殊情况必须搬运时，必须得到部门负责人的同意，还应有遮雨等相关措施；严禁在搬运时吸烟。禁止在居民区和人口稠密区停留。应急处置原则氢氟酸为氟化工重要的中间体，下游涵盖制冷剂、氟橡胶、氟树脂、氟化铝、含氟精细化学品等。辽宁工业用氢氟酸现货
氢氟酸具有极强的腐蚀性,甚至能强烈地腐蚀金属、玻璃等物体。三沙泰赫化工氢氟酸行情
半导体晶片的氢氟酸和盐酸蒸汽处理：初始阶段首先引入完全含水的载气。这使得晶片表面在很短的时间内经历高梯度的水分增加。一段时间。紧接着是无水氟化氢气体，它不能与水蒸气达到任何有效的均匀或平衡状态，因为水蒸气的预先引入和氟化氢的快速终止引入产生了在晶片表面上从一点到另一点变化的高度反应性组合。所得的高反应性但不均匀的蚀刻气体能够具有高蚀刻速率。不幸的是，使用这种工艺的结果被证明是高度可变的，同一器件上的不均匀蚀刻是一个常见的问题，并且从一个器件到下一个器件也是不均匀的。对这种处理系统的接受初是热烈的，但由于蚀刻速率不均匀问题的严重性，几乎被芯片制造商放弃。不均匀性问题nlso是由被处理材料的基质中存在的水量的变化引起的，在这种类型的处理过程中发生的高速反应过程中，这可能对芯片表面上反应物的有效局部浓度有非常的影响。 三沙泰赫化工氢氟酸行情
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