氢氟酸不溶或微溶的氟化钙和氟化镁，量大的话直接堵塞血管，直接或间接影响***系统和心血管系统的功能，导致低血钙，低血镁综合征，氟离子还可以和血红蛋白结合形成氟血红素，抑制琥珀酸脱氢酶，致氧合作用下降，影响细胞呼吸功能。此外，氢氟酸可致接触部位明显灼伤，使组织蛋白脱水和溶解，可迅速穿透角质层，渗入深部组织，溶解细胞膜，引起组织液化，重者可深达骨膜和骨质，使骨骼成为氟化钙，形成愈合缓慢的溃疡。吸入高浓度蒸汽或者经皮吸收可引起化性肺炎肺水肿。[3]氢氟酸理化性质编辑氢氟酸物理性质市售通常浓度：溶质的质量分数40%，工业级；质量分数40%，电子级。为高度危害毒物。**浓时的密度3随着HF溶液质量分数的提高，HF对碳钢的腐蚀速率是先升高后降低[4]。氢氟酸-商品批发价格！绍兴半导体电子级氢氟酸供应商
氢氟酸在铝和铀的提纯中起着重要作用，也用来蚀刻玻璃，如雕刻图案、标注刻度和文字，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。其他用途所占比例如下：化学衍生物，18％（有机和无机氟化合物，具有高度的属性，例如，织物或纤维处理剂，三氟化硼，六氟化硫和氟盐）；铝制造，6％；不锈钢酸洗，5％；石油烷基化催化剂，4％；生产铀化学试剂，3％；其他用途，4％。氟化氢也可以制备其他具有工业价值的无机氟化合物，包括冰晶石，六氟铝酸钠，氟化铝。无机氟化合物包括氟化钠和也可以用于生产氢氟酸。其他用途包括玻璃蚀刻或加工（石英提纯），除莠剂，除去金属表面氧化物和稀有金属提纯（采矿和钻井作业），半导体和电子行业，荧光灯泡和清洗液。海南过氧化氢氢氟酸出口高纯度氢氟酸在半导体制造中主要的用途，就是湿式蚀刻。
氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，清澈，无色、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。熔点℃，沸点℃，密度³。易溶于水、乙醇，微溶于**。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，且水溶液中氟化氢分子间存在氢键，使得氢氟酸在水中不能完全电离，所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。具有极强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以***的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。文名氢氟酸英文名Hydrofluoricacid[2]别称氟氢酸、氟化氢、氟化氢溶液化学式HF分子量[1]CAS登录号7664-39-3[1]EINECS登录号231-634-8熔点℃水溶性易溶于水密度g/mL。
公路运输时要按规定路线行驶，勿在居民区和人口稠密区停留。氢氟酸参考信息编辑①500mL，分析纯②含量40%杂质比较高含量灼烧残渣（以硫酸盐计）：小于或等于0.002%氯化物：0.001%硫酸盐或亚硫酸盐（以SO42-计）：小于等于0.002%磷酸盐（PO43-)：小于等于0.0002%氟硅酸盐（以SiF62-计)：小于等于0.04%铁（Fe）：小于等于0.0001%重金属（以Pb计）：小于等于0.0005%氢氟酸相关事件编辑2012年9月27日化学品制造商“胡贝全球”位于龟尾市东部的化工厂发生，致死5名工人，大约8吨氢氟酸泄漏。大约3200人在吸入毒气后因出现不同程度的中毒症状接受***。氢氟酸,氢氟酸分析纯,找泰赫氢氟酸,提供质量氢氟酸厂家!
处理：皮肤接触后立即用大量流水作长时间彻底冲洗，尽快地稀释和冲去氢氟酸。这是的措施，的关键。氢氟酸灼伤后的中和方法不少，总的原则是使用一些可溶性钙、镁盐类制剂，使其与氟离子结合形成不溶性氟化钙或氟化镁，从而使氟离子灭活。现场应用石灰水浸泡或湿敷易于推广。氨水与氢氟酸作用形成具有腐蚀性的二氟化胺，故不宜作为中和剂。氢氟酸灼伤液(5%氯化钙20ml、2%利多卡因20ml、5mg)浸泡或湿敷。以冰硫酸镁饱和液作浸泡。钙离子直流电透入。利用直流电的作用，使足够量的钙离子直接导入需要的部位，提高局部用药效果。在灼伤的第1～3天，每天1～2次，每次20～30分钟。重病例每次时间可酌情延长。氢氟酸溅入眼内，立即分开眼睑，用大量清水连续冲洗15分钟左右。滴入2～3滴局部麻醉眼药，可减轻疼痛。同时送眼科诊治。无水氢氟酸无水氢氟酸具有介电常数高，低黏度和宽的液态范围等特点因而是一种很好的溶剂.本身会发生自偶电离.无水氢氟酸是一种酸性很强的溶剂其酸度与无水硫酸相当.能给予无水氢氟酸质子的物质很少，在水中很多呈酸性的化合物在无水氢氟酸中呈碱性或者是两性。 广州泰赫化工,广东地区氢氟酸,工业盐酸 !质优价廉,量大从优!量大从优。阳江工业用氢氟酸存储
氢氟酸，它是人们刻蚀玻璃的好帮手。绍兴半导体电子级氢氟酸供应商
氢氟酸应用领域编辑由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，可以雕刻图案、标注刻度和文字；半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和正丁烯的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。[3]氢氟酸和熔融氢氧化钠都能用于微丝表面玻璃包覆层的去除，室温下氢氟酸去除厚度为10μm的玻璃包覆层的时间大约为150s，熔融氢氧化钠大约需要10s；绍兴半导体电子级氢氟酸供应商
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