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那高纯氟化氢有多纯呢？以前我们都听说过千足金的说法，也就是纯度为99.9%，含有0.1%的杂质，后来又有人提出万足金，就是99.99%，含有0.01%的杂质。而日本产的较高纯度的氢氟酸纯度为99.999%甚至更高，这个在目前较先进的芯片生产工艺中都可以放心使用。而中国目前能生产的较高纯度也比这个纯度低十倍左右，而这只是其中一个指标，此外还有控制粒径、颗粒个数等指标。如前所说，氟化氢的生产并不困难，只需要让萤石跟硫酸进行反应，就可以制得氟化氢。再用水溶解掉氟化氢，就变成了氢氟酸。这个生产过程技术含量并不高，工艺也不复杂。但生产出来的只是工业级的氢氟酸，要想应用到电子行业，必须做非常精密的提纯。难就难在了提纯上。氢氟酸是一种无色的、强酸性的化学物质。浙江40%氢氟酸购买

氢氟酸（Hydrofluoric Acid）是氟化氢气体的水溶液，清澈，无色、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。氢氟酸是一种弱酸，具有极强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以防治的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。市售通常浓度：溶质的质量分数40%，工业级；质量分数40%，电子级。为高度危害毒物。较浓时的密度1.18g/cm3。随着HF溶液质量分数的提高，HF对碳钢的腐蚀速率是先升高后降低 。正因如此，它必须储存在塑料（理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好）、蜡质制或铅制的容器中。氢氟酸没有还原性。如果要长期储存，不只需要一个密封容器，而且容器中应尽可能将空气排尽。深圳无水氢氟酸哪家好氢氟酸可以对人体和周围环境造成严重的危害。

电子级氢氟酸是集成电路行业中的关键辅助材料之一，用于晶圆表面清洗、芯片加工过程的清洗和腐蚀等。其纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。根据纯度和洁净度，可将其分为EL、UP、UPS、UPSS、UPSSS等5个级别，其中UPSS、UPSSS是目前纯度的两个级别。英文名 Hydrofluoric Acid,分子式HF,为无色透明液体 ,相对密度1.15～1 .18,沸点 112 . 2 ℃,在空气中发烟 ,有刺激性气味 ,剧毒。能与一般金属、 金属氧化物以及氢氧化物发生反应 ,生成各种盐类。腐蚀性极强 ,能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。易溶于水、醇 ,难溶于其他有机溶剂。高纯氢氟酸为强酸性清洗、 腐蚀剂 ,可与硝酸、冰醋酸、 双氧水及氢氧化铵等配置使用。

氟化氢是一种有毒气体，溶于水形成氢氟酸。氢氟酸是一种弱酸，具有特殊腐蚀性，所谓特殊腐蚀性，是指它能腐蚀其他强酸所不能腐蚀的玻璃、单晶硅等半导体材料。在半导体生产工艺中有重要应用。氢氟酸的生产并不困难，其主要原料是萤石，而我国萤石的探明储量与南非并列世界一位，按说是具有得天独厚优势的。但应用于半导体生产的氢氟酸可不是普通的氢氟酸，是超净高纯的电子级氢氟酸。普通工业级氢氟酸，洗个玻璃还行，用来洗半导体，基本上只能生产出废品来。因为普通工业级氢氟酸，含有大量杂质，这些杂质对芯片生产是致命的。在进行氢氟酸处理时，必须对废水和废液进行密闭和妥善处理。

利用氢氟酸液体溶液与表面材料进行化学反应，应用氢氟酸（HF） 与二氧化硅SiO2发生反应并使其溶解的原理，对面板表面进行咬蚀，将面板厚度变薄，达到工艺要求的玻璃基板的厚度。在太阳能电池片中的应用：以硝酸、氢氟酸强腐蚀性酸混合液作刻蚀剂进行对多晶太阳能电池片制绒的反应过程，反应方程式为：1.硅被HNO3氧化反应式：3Si+4HNO3→3SiO2+2H2O+4NO↑。2.用HF去除SiO2层反应式：SiO2+6HF→H2[SiF6]+2H2O。3.总的腐蚀过程，总化学反应方程式：3Si+4HNO3+18HF→3H2[SiF6]+8H2O+4NO↑。皮肤遭强酸强硷灼烧表现不一，像遇硫酸会黑掉、盐酸会红了肿了起泡、氢氧化钠会皮肤凹陷，氢氟酸较为可怕，皮肤初期没症状，只会感觉刺刺的，其实已侵蚀骨头，有“化骨水”之称，建议遭到强酸强硷灼伤，一时间立即大量冲水，并请旁人协助打119，协助送医。氢氟酸的运输和储存需要特殊的措施和设备。苏州氢氟酸定做

废氢氟酸必须依照法律和规定妥善处理。浙江40%氢氟酸购买

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