水基清洗剂的清洗原理水基清洗剂是与水相溶,可以加水稀释使用的清洗剂,清洗原理是借助其表面活性剂、乳化剂、渗透剂中成分含有的润湿、乳化、分散、渗透、溶解等特性来对工件表面进行强力清洗。没有底部端子器件的PCBA和半导体电子元器件,可以采用喷淋式水基清洗剂或清洗设备清洗;有底部端子器件的PCBA,则宜采用具有浸泡、超声波震动、空气搅拌和涌流(射流)技术的水基清洗设备来清洗。乳化水基清洗技术,是利用清洗剂中的有机溶剂,润湿、膨胀污染残余物,并借助清洗剂中的表面活性剂的渗透作用,以及清洗剂的冲刷(击)作用,使成片的污染物如助焊剂等残余膜产生许多小裂缝;再借助清洗剂(机)持续不断的上述冲刷(击)、膨松、渗透效应,使成片状的助焊剂残余膜上的裂纹越来赿多,并越来越来深。当裂纹抵达产品表面后,清洗剂进一步的冲刷(击)、膨松、渗透作用,就会沿小片状污染残余膜的底部发展,比较终将污染物剥离下来。 苏州生产IGBT清洗剂的厂家。天津银网清洗剂优缺点
污染物在环境中存在的形式主要为离子型和非离子型。离子型污染源主要来自如蚀刻、镀膜、掺杂、氧化和阻焊层等制程污染,以及元器件封装材料、助焊剂、设备油污、人员指印及环境灰尘等接触污染,表现为各种有机或无机酸及盐。因此,在加工制造过程中,需要严格进行极性离子污染物的控制。离子污染物分子具有偏心的电子分布,容易吸潮,在空气中二氧化碳作用下产生正、负离子,导致产品腐蚀,引起表面绝缘电阻下降,在有电场存在的条件下还会发生电迁移,产生枝状结晶,导致漏电和短路。极性污染物的低表面能还可使其穿透阻焊层,在产品表层下生长枝晶。还有部分极性污染物也可能是非离子的,在偏置电压、高温或其他应力存在时,各种负电性分子就自行排成行形成电流。 河南半导体封装清洗剂操作流程溶剂清洗剂的优缺点。
助焊剂(flux)的成份简介
助焊剂的内容基本包含下列四种主要成份:
树脂松香(Resin):40~50%。
松香带有黏性,可以在被焊金属的表面形成保护层以隔绝空气,减少加热过程中与氧气的接触,降低氧化率。
活性剂(activator):2~5%。
主要作用起到清洁并去除金属表面的氧化层,并且降低焊锡的表面张力,帮助焊锡。
溶剂(solvent):30%。
溶剂可以帮助溶解并混合助焊剂中的不同化学物质,并且让助焊剂可以均匀的混合于锡粉当中。溶剂具有挥发性,所以不建议让锡膏长期暴露于空气中,以避免溶剂挥发,锡膏变干,影响焊接。
触变剂(rheology modifier):5%。
用于调节锡膏的黏度达到膏状的目的,增强锡膏的可印刷性,让锡膏印刷于电路板后仍能保持原有的形状不至于坍塌。
生产工艺流程过程中使用的系列清洗剂:
由于生产工艺流程的千差万别。清洗的要求和清洗的对象也各不相同,因此在选用适合的产品上大有文章可做,一般情况下在选用产品时下列几种因素必须考虑:
是应该选用水基型清洗剂还是溶剂类型清洗剂:
如果清洗的对象要求挥发快,且具有防锈的要求即可考虑选用溶剂的清洗剂,该类产品的除油脱脂能力都较强。要求清洗费用较低,清洗的挥发也没有要求,且对防锈不敏感,则可选用水基类型的清洗剂。
晶圆专业清洗剂介绍。
考虑到低托高元件的普遍使用,如BTC、LGA和细间距QFP(元件底部和PCB表面之间几乎没有间隙),在这三种测试中,SIR测试是可靠的测试。如果元件下方截留有任何助焊剂残留物,SIR值将不会满足500MΩ(10的8次方)的要求。大多数PCB在适当清洗后,无论使用何种助焊剂,其清洁度都会高达10的12次方或更高。PCB应该有两个SIR梳形电路(用于关键应用产品的生产板)。其中一个梳形电路包含具有比较低托高的元件,而另一个梳形电路则没有元件。由于该位置没有助焊剂,SIR值会很高。因此可以将其视为一个基准条件。 晶圆清洗剂成分分析。河南半导体封装清洗剂操作流程
使用清洗剂需要注意什么?天津银网清洗剂优缺点
清洁程度要求电子制造商面临着对生产可靠的硬件所需的清洁等级程度难以抉择。“多干净才算足够干净”这个问题给越来越窄的导线和线路带来更多的挑战。在工业中某一领域可接受的洁净度(如一个玩具进行了SMT波峰焊后),对于另外的领域或许就是不可接受(例如倒装芯片封装)。很多的工艺**们可能对清洁度并不十分了解,挑战仍然存在于与残留相关的某个或者某些长期可靠性方面的问题,或者是决定残留对硬件的功能性影响有多大。需要考虑的有如下几方面的因素:⑴终端使用环境(航天、医疗、、汽车、信息科技等)⑵产品的设计/服役周期(90天、3年、20年、50年、保质期+1天)⑶涉及的技术(高频、高阻抗、电源)⑷失效现象与标准所定义的终端产品1、2、3级相对应的产品(例如:移动电话、心率调整器)。 天津银网清洗剂优缺点
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