常州半导体清洗剂优势

考虑到低托高元件的普遍使用，如BTC、LGA和细间距QFP（元件底部和PCB表面之间几乎没有间隙），在这三种测试中，SIR测试是可靠的测试。如果元件下方截留有任何助焊剂残留物，SIR值将不会满足500MΩ（10的8次方）的要求。大多数PCB在适当清洗后，无论使用何种助焊剂，其清洁度都会高达10的12次方或更高。PCB应该有两个SIR梳形电路(用于关键应用产品的生产板)。其中一个梳形电路包含具有比较低托高的元件，而另一个梳形电路则没有元件。由于该位置没有助焊剂，SIR值会很高。因此可以将其视为一个基准条件。 清洗剂的主要成分分析。常州半导体清洗剂优势

 有的可能会因为液体渗入后无法干燥造成功能失效，比如说簧片开关、弹簧顶针连接器(pogo pin)。

 或是清洗后反而把脏东西带到零件内部使之作动不顺或接触不良，比如说蜂鸣器、喇叭、微动开关…等零件。

有些可能因为无法承受震荡清洗而出现不良，比如说钮扣电池。

这些对水洗制程有疑虑的电子零件一般都必须安排在水洗之后才能进行焊接，以避免清洗时造成长久的损坏，这就增加了生产的制程环节，而且生产的制程越多道就越容易有良损，无形中对生产制程造成了浪费，而且水洗后的焊接通常是手焊，对焊接质量也较难管控。所以，还是那句话「能不水洗就不要水洗」。

清洗效果通过洁净度指标来评估

洁净度等级标准

按中华人民共和国电子行业标准SJ20896-2003有关规定，根据电子产品可靠性及工作性能要求，将电子产品洁净度分为三个等级。

在实际工作中，根除污染实际上几乎是不可能的，一个折中的办法就是确定产品的污染可以和不可以接受的程度。如在PCB和PCBA行业，按照IPC-J-STD-001标准助焊剂残留三级标准规定＜40ug/cm2，离子污染物含量三级标准规定≤1.5（Nacl)ug/cm2，萃取电阻率＞2×106Ω.cm。另外随着PCBA的微型化，几乎可以肯定这个含量还是太高了达不到产品真正的性能需求，现在常用的离子污染物要求大约≤0.2（Nacl)ug/cm2。

    污染物在环境中存在的形式主要为离子型和非离子型。离子型污染源主要来自如蚀刻、镀膜、掺杂、氧化和阻焊层等制程污染，以及元器件封装材料、助焊剂、设备油污、人员指印及环境灰尘等接触污染，表现为各种有机或无机酸及盐。因此，在加工制造过程中，需要严格进行极性离子污染物的控制。离子污染物分子具有偏心的电子分布，容易吸潮，在空气中二氧化碳作用下产生正、负离子，导致产品腐蚀，引起表面绝缘电阻下降，在有电场存在的条件下还会发生电迁移，产生枝状结晶，导致漏电和短路。极性污染物的低表面能还可使其穿透阻焊层，在产品表层下生长枝晶。还有部分极性污染物也可能是非离子的，在偏置电压、高温或其他应力存在时，各种负电性分子就自行排成行形成电流。 溶剂清洗剂的优缺点。

颗粒物污染水基清洗技术

工业生产清洗剂是环境保护趋紧的获益领域，伴随着环境保护规定愈来愈高，之前被普遍应用的清洗剂产品由于健康危害、环保排放等方面的缺陷，正在被清洗效果好、自动化程度高、循环使用时间长、中性无害、满足排放标准的新型水基型清洗剂所取代。特别是在清洗工艺占了整个制造工艺绝大部分的现代精密制造领域，对产品的清洗工艺有着十分苛严的要求。如在PCB、半导体元器件、汽车零件的PVD镀前处理清洗工序上，工件经清洗后，表面不得有颗粒物、油污、油脂、水锈和水渍等残留物。清洗后的工件严禁用裸手触摸，工件应及时镀膜或存放在洁净的干燥器、真空室内，且存放不得超过24小时。 去胶清洗剂好不好用？镇江芯片清洗剂价格

哪些属于半导体封装清洗剂？常州半导体清洗剂优势

到了后摩尔时代，制造技术对于环境气氛的要求越来越严，会污染特种电子气体和电子化学品的溶剂型清洗技术快速淘汰，与自然环境更亲和的水基型清洗技术成为了行业主流。

在所有电子电路产品生产制程的品质管控过程中，比较怕就是离子污染改变产品的电性能，造成产品的总体性能下降及产品可靠性不达标，导致返工作业增加或产品直接报废。如芯片和电池生产过程中，由于离子污染造成的漏电、短路、容值飘移等致命缺陷。因此针对离子污染物的水基型清洗技术，是所有清洗作业的必不可少的环节之一。 常州半导体清洗剂优势

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