2-氟-3-丙氧基苯基硼酸 CAS：871126-09-9

化学科研试剂中，滴定分析用的标准试剂乃是化学计量测定的标准，它不仅是化学分析，仪器分析的标准，而且也是决定基准物质的标准值所必不可少的基本试剂。标准溶液是具有一定准确浓度的溶液，其浓度准确度为0.1﹪，用于滴定分析测定物质的含量。标准溶液的浓度是用工作基准试剂标定的。标准溶液的配制、标定按国家标准GB601-88之规定进行。此类试剂相当于IUPAC的E级。有机元素分析标准试剂用作有机物元素测定时的标准物。相当于IUPAC的E级。这类试剂的元素含量的规格是将其计算值加减0.3﹪，例如蔗糖中碳含量的规格为42.1±0.3﹪。杂质标准溶液是指在单位体积内含有准确数量的元素离子或分子的溶液，它用作微量杂质测定的标准。化学科研试剂中的强腐蚀类试剂对人体皮肤、黏膜、眼、呼吸道和物品等有极强腐蚀性。2-氟-3-丙氧基苯基硼酸 CAS：871126-09-9

化学科研试剂中的磨抛光高纯试剂是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉（三氧化二铝）和磨液（水和油剂），能研磨表面达到微米级加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小（纳米），纯度高，金属杂质一般要求2.0×10-4—5×10-5﹪，至于则是一类电子化学材料，是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性，有时人称他为第四态。液晶种类繁多，用途较广，前景较大的要属TN(低档)、STN（中髙档）、TFT（髙档）型。TN、STN及TFT三种型号所组成的单体液晶，主要包括芳香酯类、联苯类、苯基环已烷类、铁电类以及含氟液晶品等五种，它们是当今及今后使用及发展的主要对象。这类化学科研试剂要求含量高（≥99﹪），水分含量低（≤10-6），金属杂质含量少（≤10-6）。8-氯-1,4-二氢-1,7-萘啶-4-酮 CAS：1018812-91-3化学科研试剂中的剧毒类试剂应锁在专门的试剂柜中，建立双人登记签字领用制度。

化学科研试剂目前主要用于实验室中，而实验室中一般只贮存固体试剂和液体试剂，气体物质都是需用时临时制备。在取用和使用任何化学试剂时，首先要做到“三不”，即不用手拿，不直接闻气味，不尝味道。此外还应注意试剂瓶塞或瓶盖打开后要倒放桌上，取用试剂后立即还原塞紧。否则会污染试剂，使之变质而不能使用，甚至可能引起意外事故。化学科研试剂在取用时，对于粉末状试剂或粒状试剂一般用药匙取用。药匙有动物角匙、也有塑料药匙，且有大小之分。用量较多且容器口径又大者，可选大号药匙；用量较少或容器口径又小者，可选用小号药匙，并尽量送入容器底部。

闪点在-4摄氏度以下的化学科研试剂有石油醚、氯乙烷、溴乙烷、C4H10O、汽油、二硫化碳、缩醛、CH3COCH3、苯、乙酸乙酯、乙酸甲酯等。闪点在25摄氏度以下的有C4H8O、甲苯、甲醇、乙醇、异丙醇、二甲苯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、三聚甲醛、吡啶等。这类试剂要求单独存放于阴凉通风处，理想存放温度为-4～4摄氏度。闪点在25摄氏度以下的试剂，存放较高室温不得超过30摄氏度，特别要注意远离火源。化学科研试剂中的剧毒类试剂专指由消化道侵人极少量即能引起中毒致死的试剂。生物试验半致死量在50mg/kg以下者称为剧毒物品，如K3[Fe(CN)6]、NaCN及其他剧毒Cl化物，As2O3及其他剧毒砷化物，HgCl2及其他极毒汞盐，硫酸二甲酯，某些生物碱和毒昔等。这类试剂要置于阴凉干燥处，与酸类试剂隔离。应锁在专门的试剂柜中，建立双人登记签字领用制度。建立使用、消耗、废物处理等制度。皮肤有伤口时，禁止操作这类物质。化学科研试剂的还原指由低价态试剂变为高价态试剂的反应。

化学科研试剂中的燃爆类试剂遇水反应十分猛烈，并且能发生燃烧炸裂，主要包括的有钾、钠、锂、钙、氢化锂铝、电石等。钾和钠应保存在煤油中。试剂本身就是很危险的或极易炸裂的有硝酸纤维、苦味酸、C7H5N3O6、三硝基苯、叠氮或重氮化合物、雷酸盐等，要轻拿轻放。与空气接触能发生强烈的氧化作用而引起燃烧的物质如黄磷，应保存在水中，切割时也应在水中进行。引火点低，受热、冲击、摩擦或与氧化剂接触能急剧燃烧甚至炸裂的物质，有硫化磷、赤磷、镁粉、锌粉、铝粉、萘、樟脑。此类试剂要求存放室内温度不超过30摄氏度，与易燃物、氧化剂均须隔离存放。料架用砖和水泥砌成，有槽，槽内铺消防砂。试剂置于砂中，加盖，万一出事不致扩大事态。化学科研试剂中的含水晶体的试剂失去结晶水变为粉末物质的现象叫风化。1-(2-羟乙基)吡咯 CAS：6719-02-4

闪点在25摄氏度以下的化学科研试剂，存放较高室温不得超过30摄氏度，特别要注意远离火源。2-氟-3-丙氧基苯基硼酸 CAS：871126-09-9

对化学科研试剂中的高纯试剂或高纯元素纯度或杂质含量的检验，一般常用原子吸收光谱、原子发射光谱、色谱、质谱比色化学分析等方法进行测定。普通高纯试剂则是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等，常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等，金属单质的氧化物、用来配制标准溶液和作为标准物质，该类试剂常要求含量在4N-6N之间。超净高纯试剂是集成电路（IC）制造工艺中的专门化学品，用于硅片清洗、光刻、腐蚀工序中。光刻工艺是一种表面加工技术，在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀，采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层，称为抗蚀剂，在化学科研试剂中也比较常见。2-氟-3-丙氧基苯基硼酸 CAS：871126-09-9