一是镀层与基体附着力不佳,二是镀镍层脆性大,延展性小。若热处理不当产生难以***的污垢或镀前处理不彻底,污垢夹杂在基体与镀层之间,使镀层与基体结合力很差,后续装配加工时,易起皮脱落。当光亮剂配比不当或质量差、pH值太高、阴极电流密度太大及镀液温度过低时,都会造成氢离子在阴极还原后,便以原子氢的状态渗入基体金属及镀层中,使基体金属及镀层的韧性下降而产生”氢脆”现象。另外,当镀镍液中的金属杂质及分解产物过多时,也会使镀层产生“氢脆”现象。电镀镍耐腐蚀性差由于镀镍层的孔隙率高,只有当镀层厚度超过25微米时才基本上无孔。因此薄的镀镍层不能单独用来作防护性镀层,**好采用双层镍与多层镍体系。电镀镍挂绿腐蚀电镀后采用VCF一385防锈切削液对镀层进行封闭处理,当防锈切削液干燥后,在产品上便形成挂绿的不良现象。电镀镍内孔露铜由于光亮镍镀液的深镀能力不如**镀暗铜的好,电镀后亮镍镀层在产品内孔部位不能完全把铜镀层覆盖。浙江共感电镀有限公司致力于提供 电镀产品,有需要可以联系我司哦!江苏表面电镀有哪些产品

滚镀适用于小件,紧固件、垫圈、销子等。连续镀适用于成批生产的线材和带材。刷镀适用于局部镀或修复。电镀液有酸性的、碱性的和加有铬合剂的酸性及中性溶液,无论采用何种镀覆方式,与待镀制品和镀液接触的镀槽、吊挂具等应具有一定程度的通用性。电镀镀层分类编辑若按镀层的成分则可分为单一金属镀层、合金镀层和复合镀层三类。若按用途分类,可分为:①防护性镀层;②防护性装饰镀层;③装饰性镀层;④修复性镀层;⑤功能性镀层单金属电镀单金属电镀至今已有170多年历史,元素周期表上已有33种金属可从水溶液中电沉积制取。常用的有电镀锌、镍、铬、铜、锡、铁、钴、镉、铅、金、银等l0余种。在阴极上同时沉积出两种或两种以上的元素所形成的镀层为合金镀层。合金镀层具有单一金属镀层不具备的**结构和性能,如非晶态Ni—P合金,相图上没有的各蕊sn合金,以及具有特殊装饰外观,特别高的抗蚀性和**的焊接性、磁性的合金镀层等。复合镀复合镀是将固体微粒加入镀液中与金属或合金共沉积,形成一种金属基的表面复合材料的过程,以满足特殊的应用要求。根据镀层与基体金属之间的电化学性质分类,电镀层可分为阳极性镀层和阴极性镀层两大类。江苏表面电镀型号浙江共感电镀有限公司为您提供 电镀产品,有想法的不要错过哦!

具体方法可根据镀种和镀镀件选定﹕(一)弯曲试验﹔(二)锉刀试验﹔(三)划痕试验﹔(四)热震试验第三节电镀层厚度的测量电镀层厚度的测量方法有破坏检测法与非破坏检测法两大类。其中破坏检测法有点滴法﹑液流法﹑溶解法﹑电量法和金相显微法等多种﹔非破坏检测法有磁性法﹑涡流法β射线反向散射法和光切显微镜法等等。测量时除溶解法等是镀层的平均厚度外﹐其余多数是镀层的局部厚度。因此﹐测量时至少应在有代表性部位测量三个以上厚度﹐计算其平均值作为测量厚度结果。第四节孔隙率的测定镀层的孔隙是指镀层表面直至基体金属的细小孔道。孔隙大小影响镀层的防护能力。测定孔隙的方法有贴滤法﹑涂膏法﹑浸渍法等。1.贴滤纸法﹕将浸有测试溶液的润湿纸贴于经预处理的被测试闰上﹐滤纸上的试液渗入孔隙中与中间镀层或基体金属作用﹐生成具有物征颜色的斑点在滤纸上显示。然后以滤纸上有色斑色的多少来评定镀层孔隙率。2.涂膏法﹕将含有相应试液的膏状物涂覆于被测试样上﹐通过泥膏中的试液渗入镀层孔隙与基体金属或中间镀层作用﹐生成具有特征颜色的斑点﹐要据此斑点来评定镀层的孔隙率。
镀层厚度可达1mm以上修复磨损零件和加尺寸不足的零件﹔印刷工业中﹐镀在铅版﹑铜版﹑活字版上﹐提高耐磨性镀锡镍合金硬度介于镍与铬之间﹐具有容易千焊的特点用于印刷线路等高导电﹑易千焊镀层金﹑金合金镀层金导电性好﹐接触电小﹐镀金作焊接用得很***﹐但只能用10μm以下的箔金﹐否则﹐焊接时会生成金锡中间层﹐使联接点发脆和润滑性下降。为了克服纯金耐磨性差的缺点﹐通常用金合金代替纯金。但合金比纯金接触电阻大五倍。此外金合金的千焊和防护性不如纯金好在低负荷﹐纯金接角电阻约为钯的1/3﹑铑的1/6﹔高负荷时为钯﹑铑的1/10镀银层银导电率和反射系数很高﹐镀层软﹐耐磨差。在大气中易受硫化物作用变暗﹐接触电阻增加。在与塑料﹐陶瓷组装时﹐镀层会向绝缘层迁移﹐甚至造成短路。电气工业***导电镀层镀银后﹐需进行抗暗处理高导电﹑易千焊镀层镀锡层锡性质柔软﹐千焊性好。对硫化物也很稳定。存放时间较久时﹐千焊变难﹐镀后浸入热油中进行流平﹐可延长存放时间。***用于保护铜导线和导电零件﹐防止氧化或硫化。也用于需要焊接的零件锡镍合金镀层锡镍合金镀液的均镀能力特别好﹐镀层厚度可很大﹐耐磨﹑耐腐蚀性好。浙江共感电镀有限公司为您提供 电镀产品,有想法可以来我司咨询!

当年则因其成熟度不够也使得用户们吃足了苦头。直到1988年以后**铜才逐渐正式取代了先前的焦磷酸铜,而成为***的基本配方。电镀铜**铜十年后(1995)的电路板开始采孔径,在板厚不变或板厚增加下,常使得待镀之通孔出现4:l至10:l高纵横比的困难境界。为了增加深孔镀铜的分布力(ThrowingPower)起见,首先即调高槽液基本配方的酸铜比(拉高至10:l以上),并也另在添加剂配方上着手变化。而且还将固有垂直挂镀的设备中,更换其传统直流(DC)供电,转型为变化电流(广义的AC)式反脉冲电流(ReversePulse)的革新方式。要其反电流密度很大但间却很短的情况下,冀能将两端孔口附近较厚的镀铜层予以减薄,但又不致影响深孔中心铜层应有的厚度,于是各种脉冲供电方式也进入了镀铜的领域。电镀铜水平镀铜随后为了方便薄板的操作与深孔穿透以及自动化能力起见,板面一次铜(全板镀铜)的操作,又曾改变为水平自走方式的电镀铜。在其阴阳极距离大幅拉近而降低电阻下,可用之电流密度遂得以提高2-4倍,而使量产能力为之大增。此种新式密闭水平镀铜之阳极起先还沿用可溶的铜球,但为了减少量产中频繁拆机,一再补充铜球的麻烦起见。后来又改采非溶解性的钛网阳极。而且另在反脉冲电源的协助下。电镀产品,就选浙江共感电镀有限公司,有需求可以来电咨询!贵州陶瓷电镀作用
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微盲孔之孔径在3mi以下之浅小而多用于封装载板者,实填的问题还不算严重,某几种商业镀铜制程也还颇能让人满意。然而增二式手机板其BGA球脚垫内的二阶盲孔,不但口径大到6-8mil之间,且其漏斗形深度也接近3mil。加以**新亮相超难密距(-Pitch)的拉近与挤压垫面空间,使得垫径又被紧迫缩小到只剩下12-14mil左右,逼得盲孔表面的环宽竟只剩下3mil而已。如此局限又险恶地形之锡膏承焊,安得不令八频捏大把冷汗?是故填孔镀铜几乎已经成为势在必行的工艺了。电镀铜预布焊料之填孔***一点的读者也许还记得,七年前Pentium(586)的时代,其CPU是采“卷带自动结合(TAB)的封装方式。此大型晶片封装完工之多脚组件,下游还要进行板面的贴焊组装。该QFP四边外伸贴焊之I/O共得320脚,单边80只平行伸脚彼此之密集栉比,逼得承接的长方焊垫也随之并肩鳞次,密密麻麻,方寸之间逼得相邻脚垫之跨距(Pitch)拥挤到不足10mil!垫宽(Width)*5mil,垫距(SPacing)更在5mil以下的艰困境界。如此之密距多垫及狭面之高难度锡膏印刷,有谁能够保证不出差错?即使锡膏印刷得以过关,其后续的放置(Placement)踩脚与高温熔焊(Reflow)之二种更难工序。江苏表面电镀有哪些产品