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晶间腐蚀，国内外相关标准：GB/T4334.(1~5)-2000不锈钢晶间腐蚀敏感性试验方法标准(根据不同材料敏感性选择相应标准)GB/T15260-1994《镍合金晶间腐蚀敏感性试验方法标准》GB/T21433-2008《不锈钢压力容器晶间腐蚀敏感性检验》CB/T3949-2001《船用不锈钢焊接接头晶间腐蚀试验方法》ASTMG28-02(2008)StandardTestMethodsforDetectingSusceptibilitytoIntergranularCorrosioninWrought,NickelRich,ChromiumBearingAlloys(中文名称:《锻造高镍铬轴承合金晶间腐蚀敏感性的检查用标准试验方法》GB/T7998-2005《铝合金晶间腐蚀测定方法》HG/T3173-2002《尿素级很低碳铬镍钥奥氏体不锈钢晶间腐蚀倾向试验》晶间腐蚀，会破坏晶粒间的结合，大幅降低金属的机械强度。嘉兴电解腐蚀厂家批发

电解抛光腐蚀原理，关于电解抛光原理的争论很多，被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时，靠近试样阳极表面的电解液，在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜，这种薄膜在工件的凸起处较薄，凹处较厚，此薄膜具有很高的电阻，因凸起处薄膜薄而电阻小，电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大，电流密度低而溶解慢，由于溶解速度的不同，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被平整，然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜，而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线，根据它可以决定合适的电解抛光规范。湖南金相电解腐蚀操作简单电解抛光腐蚀，电源过压、过热以及市电输入过欠压保护。

电解抛光腐蚀，该电源是高稳定度的稳压稳流自动转换的高精度稳压电源。输出电压能够从零到标称值内任意选择,  而且在稳压状态时限流保护点也可任意设定。在稳流状态时，稳流输出电流在额定范围内连续可调。输出电压、输出电流指示为3位半LED数码显示。电源是由整流及滤波电路,辅助电源及基准电压电路，电压电流取样检测电路，比较放大电路，单片机控制电路以及调整电路等组成。当输出电压由于电源电压或负载电流变化引起变动时，则变动的信号经电压取样电路与基准电压相比较，其所得误差信号经比较放大后，由单片机控制系统控制调整电路使输出电压高速调整为给定值。从而达到高稳定输出的目的。

晶间腐蚀常用的试验方法：硫酸-硫酸铁法适用于检验镍基合金、不锈钢因碳化物析出引起的晶间腐蚀。奥氏体不锈钢在此溶液中的腐蚀电位处于钝化区。试验结果采用腐蚀率和固溶试样腐蚀率比较来评定；草酸浸蚀法主要用作检验奥氏体不锈钢晶间腐蚀的筛选试验。电解浸蚀时腐蚀电位处于过钝化区。浸蚀后用金相显微镜观察浸蚀组织分类评定；盐酸法适用于检验某些高钼镍基合金的晶间腐蚀。试验结果以腐蚀率评定；氯化钠-过氧化氢法适用于检验含铜铝合金的晶间腐蚀。试488验结果采用金相显微镜测量晶间腐蚀深度评定；氯化钠-盐酸法适用于检验铝镁合金的晶间腐蚀。试验结果的评定同上；电化学动电位再活化法(EPR法)。在特定溶液中将试样钝化后再活化，测定动电位扫描极化曲线，以再活化电量评定晶间腐蚀敏感性。此法具有快速的特点。电解抛光腐蚀，工作电压、电流可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究。

晶间腐蚀试验 (intergranular corrosion test)，在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法，目的是为了了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液，然后利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的明显的差异加速显示晶间腐蚀，不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。各标准对试验细节均有详细规定。低倍组织热酸蚀腐蚀酸蚀槽采用特殊材料制作，耐酸耐高温。湖南金相电解腐蚀操作简单

低倍加热腐蚀根据《GB/T226-91钢的低倍组织及缺陷酸蚀检验法)对钢材进行低倍组织热酸蚀。嘉兴电解腐蚀厂家批发

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