磨抛耗材,二氧化硅抛光液(VK-SP50W)使用范围:可用于微晶玻璃的表面抛光加工中;用于硅片的粗抛和精抛以及IC加工过程,适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工;用于晶圆的后道CMP清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多晶化模组、微电机系统、光导摄像管等的加工过程;普遍用于CMP化学机械抛光,如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、宝石、大理石等纳米级及亚纳米级抛光加工;本产品可以作为一种添加剂,也可应用于水性高耐候石材保护液、水性胶粘剂与高耐候外墙涂料添加剂等。磨抛耗材,抛光布能够很好地去除部分损伤层,从而保证在显微镜下观察到内部结构准确无误。金相悬浮液磨抛耗材操作简单

磨抛耗材,常见的金相磨抛耗材有以下几类:研磨类:金相砂纸:以精选的、粒度均匀的碳化硅等磨粒为磨料,采用静电植砂工艺制造,具有磨粒分布均匀、磨削锋利、经久耐用的特点,适用于各种黑色和有色金属的金相试样粗磨、精磨、超精磨1。金刚石研磨盘:如美国QMAXIS(可脉)的金刚石研磨盘,磨削率高,表面效果好,使用寿命长,可替代砂纸,能快速去掉试样的表面层和变形层,减少研磨步骤,缩短制样时间4。氧化铝研磨盘:氧化铝磨料硬度适中,价格相对较低,适用于一般金属材料的研磨,通过不同的粘结工艺制成研磨盘,可用于金相试样的粗磨和中磨阶段。金相悬浮液磨抛耗材操作简单磨抛耗材,粒度均匀的、碳化硅磨粒为磨料,采用静电植砂工艺制造 磨粒分布均匀、磨削锋利、经久耐用的特点。

磨抛耗材,抛光原理抛光时由抛光微粉与磨面间的相对机械作用而使磨面抛光,其主要作用有:抛光时应力求减少变形区,可采用粗抛和精抛两步抛光法,尽量减轻抛光压力或用抛光浸蚀交替法,一般交替进行三、四次即可消除或减少金属扰乱层,显示出金属的真实组织。对于抛光不良的中碳钢退火后的显微组织,除少数铁素体外,其余颇似“索氏体”,经反复抛光浸蚀后,假象消除,才能显示出真实组织。抛光微粉抛光微粉(抛光粉)是颗粒极细的磨料的,其粒度有W7,W5、W3.0,W2.0,W1.5,W1.0,W0.5等。
磨抛耗材,金相砂纸的基纸具有一定的强度和韧性。它能够承受研磨时的压力和摩擦力,防止砂纸在使用过程中破裂。同时,基纸还具有较好的柔韧性,能够适应不同形状的金相样品,如弯曲的金属丝或有弧度的金属片,在研磨这些样品时,砂纸可以贴合样品的形状进行研磨。平整度高高质量的金相砂纸自身平整度高,这对于研磨出平整的样品表面非常关键。在研磨过程中,平整的砂纸可以均匀地磨掉样品表面的不平整部分,避免出现局部过度研磨或研磨不足的情况,从而为后续的抛光和金相观察提供良好的基础。磨抛耗材,冷镶嵌树脂适用于不能受热受压的样品,快速稳定完成金相制样。

磨抛耗材,金相砂纸有多种粒度可供选择,例如从粗粒度(如 80 目)到细粒度(如 2000 目)不等。粗粒度砂纸(如 80 - 240 目)可以快速去除样品表面的大量余量,适用于对表面平整度要求不高的初步研磨阶段。而细粒度砂纸(如 1000 - 2000 目)则用于在粗磨之后进一步细化研磨,使样品表面更加光滑,为后续的抛光工序做准备。一般金相砂纸的磨料颗粒均匀分布在基纸上。基纸具有一定的强度和韧性,能够承受研磨过程中的压力和摩擦力,防止砂纸在使用过程中破裂。磨料通常采用碳化硅等硬度较高的材料,碳化硅硬度仅次于金刚石,能够有效地研磨各种金属材料,并且具有良好的耐磨性,在研磨过程中磨料颗粒不易快速磨损,从而保证了研磨效率和质量。磨抛耗材,冷镶嵌树脂操作简单,制样后样品能直接进行金相观察。宁波氧化铝砂纸磨抛耗材品牌好
磨抛耗材,型号 OCP2 样品夹轻便灵活,适应多种复杂形状样品的固定。金相悬浮液磨抛耗材操作简单
磨抛耗材,金刚砂又名石榴子石系属硅酸盐类矿物,经过水力精心筛选,机械加工,筛选分级等方法制成的研磨材料,主要用于研磨玻璃制品制品,工业除锈及水切割等;对硅片、光学镜头、精密仪器仪表、抛光玻壳、玻璃器皿、陶瓷石料、皮革、塑料、金属机件能提高光洁度;可喷砂切割,是制造砂轮、油石、砂布、砂纸的必须原料;可作为修筑高速公路路面、飞机跑道、耐磨橡胶、工业地坪.防滑油漆等尚佳的耐磨材料;可作化工、石油、制药、水处理过滤的介质和钻井泥浆加重剂;对电镀、核污染的防护具有良好的效果。本厂产品自锐性好,边角锋利;在不断粉碎中形成新的棱刃,介壳状断口硬度均匀,对所磨器具、物件不会造成划伤现象,而且化学成分稳定,耐酸碱,具有其他磨料和人工合成磨料不可替代的优势。并且本厂产品研磨时间短,效益高,但价格低廉,这些可以祢补寿命短而不足的。金相悬浮液磨抛耗材操作简单
金相磨抛耗材,磨抛目的和要求的表面光洁度表面质量要求较低(例如用于宏观组织观察):如果只是需要观察材料的宏观组织结构,磨抛要求相对较低。可以使用较粗的砂纸进行简单研磨,例如120-180目的砂纸,使表面相对平整即可。之后用普通的编织抛光布配合中等粒度的抛光液进行快速抛光,主要是去除明显的研磨痕迹,获得能够观察宏观特征的表面。表面质量要求高(用于微观结构分析,如电子显微镜观察):对于高倍显微镜下的微观结构观察,需要极高的表面光洁度。从粗磨开始就要严格控制砂纸的粒度,逐渐从粗到细(如从 240 目一直到 2000 目)。精磨后使用高质量的抛光布,如无绒、平整性好的合成材料抛光布。并且要采用粒度极细...