广东实验金相抛光研磨机

样品电刻笔一、用途电刻笔适用于金属及玻璃、瓷器、大理石等非金属等材料上的雕刻。二、使用方法：1、接通电源，右手握住电刻笔；2、像拿笔一样的姿势，稍微倾斜一个角度（45度角），并将手搁在台面上，手指按住微动开关即可刻写，松开即停止刻写。刻写时不要硬往下压，比平常书写速度稍慢。3、电刻笔上部有一旋钮可调整刻写深度，通过多次反复刻写掌握它的性能，以满足您所需刻写材料的字体大小及深度要求。4、电刻笔出厂时配有硬质合金刻头，它能满足玻璃、金属、陶瓷以及其它较硬材料的刻写，然而对于工业化的边续刻写则需用**的金刚石刻头。5、刻头磨损后，电刻笔拧开螺钉装卸旋钮，重新换上刻头。金相自动研磨机 数据可进行分析、存档、打印。广东实验金相抛光研磨机

冷镶嵌用模一、用途冷镶嵌用模配合冷镶嵌料使用，根据不同直径和不同形状，选择适用模具进行镶嵌。一次性用模此产品主要使用在PCB厂做金相切片分析时起承载切片的作用,特点是透明度高,美观实用,节省冷镶嵌料。大镶嵌模满足镶嵌大样品的需要，小镶嵌模节约冷镶嵌料，共有4种形状规格。二、规格参数1、FMM1冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ20内高：18mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；2、FMM2冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ25内高：18mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；3、FMM3冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ30内高：18mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；4、FMM4冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ40内高：21mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；江苏自动金相镶嵌粉晶间腐蚀仪 自动锁紧功能。

金相切割片一、用途金相切割片主要用于金相制样过程中样品切割，金相切割片脱胎于普通砂轮切割中的湿式砂轮切割片，在提升了切割精度和切割温度控制后形成了适合金相制样需求的金相切割片，也是以氧化铝树脂切割片，碳化硅树脂切割片和金刚石烧结切割片三个类型为主。所有切割片均采用**度树脂盒推荐磨料制作而成，切削锋利、不易破裂、切削热极小，样品热影响层浅，极大减少发热、不会对产生样品组织变化。二、参数1、LWA低软快刀：切削锋利，样品热影响层浅，和母体分割不会产生组织变化。

产品特点：1、电动液压系统精细控制压力，确保脆性试样。2、预热功能可以缩短制样加热时间。3、制样单元也控制系统隔离设计，方便清理维护。4、直观触摸屏的操作，参数设置方便，一键启动，同时可以看到制样温度与压力变化。5、***总制样剩余时间与进度条过程进度显示。6、支持中英文语言切换，屏幕显示亮度设置，3种提示音选择。7、强大用户自定义方法数据库，支持中英文输入，可存储25条方法数据，特殊需求可扩展。8、三种制样方法模式，适合不同材料试样。智能金相切割机 数据可以导出。

氧化铝悬浮抛光液一、产品用途氧化铝悬浮研磨抛光液，磨料在分散剂中均匀、游离分布，适用于精密磨抛。不仅适用于金相和岩相的研磨、抛光，还适用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、c0.3um,0.5um,1um,1.5um,2.5um,3.5um,7um,10um,14um,20um,28um,40um氧化铝悬浮抛光液一、产品用途氧化铝悬浮研磨抛光液，磨料在分散剂中均匀、游离分布，适用于精密磨抛。不仅适用于金相和岩相的研磨、抛光，还适用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。二、产品特点高抛光速率、粒度可控、高平坦度三、规格：粒度：0.05um，0.3um,0.5um,1um,1.5um,2.5um,3.5um,7um,10um,14um,20um,28um,40um金相切割片 LED灯照明。福建体视金相磨样机

金相真空镶嵌机 一次性同时制2个试样。广东实验金相抛光研磨机

抛光粉一、用途                                                                                                抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅等组份组成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。通常，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光，氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光。                                    二、规格参数                                                                                                   1、金刚石抛光微分：粒度：0.25um, 0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 6um, 7um, 10um, 14um, 20um, 28um, 40um，供用户自己选用载体，进行研磨抛光；                                                                    2、氧化铝研磨抛光粉：粒度：0.05um,0.3um,0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 5um, 6um, 7um, 9um, 10um, 14um, 15um, 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                              3、碳化硅研磨抛光粉：粒度：0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3.5um, 7um, 10um, 14um, , 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                                                                  4、氧化铬抛光粉：粒度：0.5um,1um，用于研磨抛光；                                                                                              广东实验金相抛光研磨机