陕西低速精密金相研磨

金相自动磨抛机单盘PC-1000产品特点：1、7寸触摸屏操作控制。2、压力可通过触摸屏设定，精确力度控制。3、采用西门子变频器和日本SMC气动元件。4、通过编程实现连续制样，每个工序完成自动停机，方便更换抛光组织物，同时可以暂停查看制样效果，每部工序***计时，能精确的制样和节省制样时间。同时也可以通过手动操作参数制样，方便制样多样性。5、一次可制样1-6个。6、自动锁紧功能7、LED灯照明。8、锥度磨盘系统，更换清理更容易。9、大口径的排水管道，解决易堵的问题。10、水流量可调。金相制样切割机推荐。陕西低速精密金相研磨

晶间腐蚀仪OCT-4S产品特点：1、不锈钢操作台，耐腐蚀，方便维护清理。2、加热盘表面抗腐蚀处理，增加加热器寿命，操作安全。3、触摸屏操作，直观简单方便操作。4、用户可以自定义方法数据库，可储存100条。可将常用的参数储存。5、温度直接控制溶液温度，更精确。6、4工位单独控制工作，增加制样效率。7、温度超温保护，并且对温度传感器检测。8、有冷凝水传感器检测，无水停机报警。9、有漏电和短路保护。10、可选择漏液传感器检测，有漏液停机报警。11、可电脑远程控制操作。12、可连接循环冷凝水，不依赖外来水源，使冷凝水得到多次利用。13、可配通风柜操作使用，当有蒸汽泄漏时，漏液传感器检测到后停机并且自动打开通风柜，避免给操作员身体带来伤害。湖北真空金相显微镜真空冷镶嵌机冷却时间快。

冷镶嵌用模一、用途冷镶嵌用模配合冷镶嵌料使用，根据不同直径和不同形状，选择适用模具进行镶嵌。一次性用模此产品主要使用在PCB厂做金相切片分析时起承载切片的作用,特点是透明度高,美观实用,节省冷镶嵌料。大镶嵌模满足镶嵌大样品的需要，小镶嵌模节约冷镶嵌料，共有4种形状规格。二、规格参数1、FMM1冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ20内高：18mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；2、FMM2冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ25内高：18mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；3、FMM3冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ30内高：18mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；4、FMM4冷镶嵌用模：12个/盒直径：Φ40内高：21mm硅橡胶，配合冷镶嵌，可反复使用；

倒置金相显微镜OC-40BDOC-40BD倒置金相显微镜采用优良的无限远光学系统与模块化的功能设计理念，可以方便升级系统，实现偏光观察、暗场观察等功能。紧凑稳定的高刚性主体，充分体现了显微镜操作的防振要求。符合人机工程学要求的理想设计，使操作更方便舒适，空间更广阔。适用于金相组织及表面形态的显微观察，是金属学、矿物学、精密工程学研究的理想仪器。倒置金相显微镜OC-40BDOC-40BD倒置金相显微镜采用优良的无限远光学系统与模块化的功能设计理念，可以方便升级系统，实现偏光观察、暗场观察等功能。紧凑稳定的高刚性主体，充分体现了显微镜操作的防振要求。符合人机工程学要求的理想设计，使操作更方便舒适，空间更广阔。适用于金相组织及表面形态的显微观察，是金属学、矿物学、精密工程学研究的理想仪器。 金相打磨机 可与计算机连接通讯。

二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点：高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格：：0.02um、0.05um二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点：高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格：：0.02um、0.05um晶间腐蚀装置 对样品和镶嵌树脂抽真空。海南实验金相切割机

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抛光粉一、用途                                                                                                抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅等组份组成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。通常，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光，氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光。                                    二、规格参数                                                                                                   1、金刚石抛光微分：粒度：0.25um, 0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 6um, 7um, 10um, 14um, 20um, 28um, 40um，供用户自己选用载体，进行研磨抛光；                                                                    2、氧化铝研磨抛光粉：粒度：0.05um,0.3um,0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 5um, 6um, 7um, 9um, 10um, 14um, 15um, 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                              3、碳化硅研磨抛光粉：粒度：0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3.5um, 7um, 10um, 14um, , 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                                                                  4、氧化铬抛光粉：粒度：0.5um,1um，用于研磨抛光；                                                                                              陕西低速精密金相研磨