黑龙江低速精密金相研磨机

二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点：高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格：：0.02um、0.05um二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点：高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格：：0.02um、0.05um自动金相真空镶嵌机实惠。黑龙江低速精密金相研磨机

金相磨抛机（单盘）PC-10产品特点：1、操作面板**安装，让操作、维护更方便。2、锥度磨盘系统，更换清理更容易。3、防溅水椭圆水槽设计可靠保护部件的使用寿命及保持机台的整洁。4、大口径的排水管道，解决易堵的问题。5、无极调速，更方便得到需求的转速。6、三档定速，能快速定位常用转速。7、水流量可调。

金相磨抛机（单盘）PC-10产品特点：1、操作面板**安装，让操作、维护更方便。2、锥度磨盘系统，更换清理更容易。3、防溅水椭圆水槽设计可靠保护部件的使用寿命及保持机台的整洁。4、大口径的排水管道，解决易堵的问题。5、无极调速，更方便得到需求的转速。6、三档定速，能快速定位常用转速。7、水流量可调。 河南低速精密金相高精度研磨抛光机自助金相切割机 生产厂家。

酸雾中和处理系统一．产品介绍ATC酸雾处理系统是**于实验室，尤其是实验室进行低倍样品腐蚀时，对腐蚀产生的酸雾进行强力抽排、中和处理，产生满足空气排放标准的系统。该系统耐腐蚀，美观，可定制以便和实验室其他设备和家具摆放整齐。该系统由排风柜和酸雾中和装置两部分组成，可和低倍酸蚀装置集成为一体。二．主要参数1、排风柜1）排风采用液晶面板、微机控制；2）采用低噪音，强力防酸风机；3）各部件由耐酸材料制成，长期使用不腐蚀；4）工作台面：专业耐酸碱PP台面，常规厚度8mm，也可加厚到16mm;5）台面支撑强度为150kg（厚度为8mm时），酸蚀槽和清洗池底部有支撑;6）柜体:采用厚8mm瓷白色PP制作，耐酸碱性能优异。内支撑架由CNC精确裁切加工，同色同质焊条熔焊修饰处理，表面无锐角。7）带PP水槽：尺寸：384*285*270mm8）尺寸(毫米)：1800（宽）X850(深)X2350(高)，可定制；9）低倍酸蚀装置和排风系统组成一体（见右图）；10）带加热水装置，以便及时利用热水冲洗样品；11）排放口直径：350-400mm；12）电压：需两种电压380V/220V;最大功率：4.0KW。2、酸雾中和装置低倍腐蚀或其他腐蚀产生的酸雾通过该装置时，酸雾由下而上，含碱性的水由上喷淋而下，

金相磨抛机（高级）PC-2产品特点：1、操作面板**安装，让操作、维护更方便。2、锥度磨盘系统，更换清理更容易。3、防溅水椭圆水槽设计可靠保护部件的使用寿命及保持机台的整洁。4、大口径的排水管道，解决易堵的问题。5、无极调速，更方便得到需求的转速。6、三档定速，能快速定位常用转速。7、水流量可调。金相磨抛机（双盘）PC-20产品特点：1、外壳采用新型环保工程塑料材料一体成型，表面光滑美观、免喷漆，表面划痕修复简单。2、锥度磨盘系统，更换清理更容易。3、大口径的排水管道，解决易堵问题。4、底盘转动平稳，噪音小，支持快速转换盘系统。5、无极调速和三档定速能无极调速和快速定位常用转速。可快速切换到预磨和抛光模式。6、水流量可调。双盘研磨抛光机 顺时针或逆时针可调。

产品特点：1、7寸触摸屏操作控制。2、电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀；3、可选择电压电流曲线实时显示；4、实现恒定电流和恒定电压工作方式；5、直流0~100V/0~6A，电流/电压值可定制；6、电压、电流有初调和微调切换功能，能准确稳定的设定电压电流值；7、电压电流调节、显示精度小数点后两位；8、电信号低纹波，稳定性高；9、电源过压、过热以及市电输入过欠压保护；10、可控制样品的抛光/腐蚀面积（样品罩开孔直径15mm，20mm，30mm）；11、控制抛光/腐蚀工作时间；12、搅拌装置保证了抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致；13、工作电压、电流可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究(选配项：RS485连接方式任选与计算机通讯)。金相研磨机磨抛一体。黑龙江低速精密金相研磨机

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氧化铝悬浮抛光液一、产品用途氧化铝悬浮研磨抛光液，磨料在分散剂中均匀、游离分布，适用于精密磨抛。不*适用于金相和岩相的研磨、抛光，还适用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、c0.3um,0.5um,1um,1.5um,2.5um,3.5um,7um,10um,14um,20um,28um,40um氧化铝悬浮抛光液一、产品用途氧化铝悬浮研磨抛光液，磨料在分散剂中均匀、游离分布，适用于精密磨抛。不*适用于金相和岩相的研磨、抛光，还适用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。二、产品特点高抛光速率、粒度可控、高平坦度三、规格：粒度：0.05um，0.3um,0.5um,1um,1.5um,2.5um,3.5um,7um,10um,14um,20um,28um,40um黑龙江低速精密金相研磨机