金相转换盘磨抛耗材

磨抛耗材，抛光原理抛光时由抛光微粉与磨面间的相对机械作用而使磨面抛光，其主要作用有：抛光时应力求减少变形区，可采用粗抛和精抛两步抛光法，尽量减轻抛光压力或用抛光浸蚀交替法，一般交替进行三、四次即可消除或减少金属扰乱层，显示出金属的真实组织。对于抛光不良的中碳钢退火后的显微组织，除少数铁素体外，其余颇似“索氏体”，经反复抛光浸蚀后，假象消除，才能显示出真实组织。抛光微粉抛光微粉（抛光粉）是颗粒极细的磨料，其粒度有W7，W5、W3.0，W2.0，W1.5，W1.0，W0.5等。磨抛材料，金刚石悬浮研磨抛光液中含一定剂量的冷却润滑组分。金相转换盘磨抛耗材

磨抛耗材，氧化镁：为白色粉末，硬度较低，但颗粒细，在使用中破碎后仍持尖锐外形，故磨削作用强，适用于较软的有色金属及其合金的抛光和精抛。亦用于抛光检验非金属夹杂物和石墨的试样。由于氧化镁极易吸水变成氢氧化镁，当空气中有二氧化碳时，能形成碳酸镁。碳酸镁颗粒粗而硬度低，无抛光作用。故在使用中比较好将氧化镁微粉直接洒在抛光布上，再滴上蒸馏水调成糊状抛光。若用15％悬浮液时，须用蒸馏水调制，不能存放，抛光结束后应立即刷洗抛光盘，并把抛光布浸入2％盐酸水溶液中2-3h，使残留氧化镁和已结块的碳酸镁与盐酸作用形成可溶于水的氧化镁，使抛光布回复柔软，利于继续使用。昆山金刚石悬浮抛光液磨抛耗材价格多少磨抛材料，单晶金刚石悬浮液可以提高磨削速率。

磨抛耗材，二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。普遍用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。此外也可应用在如不锈钢、铝合金、铜合金等金属材料的精细抛光。尤其是在制备包含陶瓷的金相试样时更是不可或缺。二氧化硅胶体粒子呈球状，粒度均匀，分散性好，不会对抛光面产生物理损伤，抛光速率快，可有效去除划痕，降低抛光后的表面粗糙度。使用二氧化硅抛光后的表面洁净无污、颜色鲜亮分明。 

磨抛耗材，抛光时试样磨面应平稳轻压于抛光盘中心附近，沿径向缓慢往复移动，并逆抛光盘旋转方向轻微转动，以防磨面产生曳尾。一般抛光时间在2~5min内即可消除磨痕，得到光亮无痕的镜面，否则应重新细磨。压力过大，时间过长，只能加厚金属扰乱层，使硬质相出现浮雕。抛光结束后立即冲洗试样，用酒精擦拭，热风吹干，置于100x金相显微镜下观察，此时能看到非金属夹杂物或石黑，而且不能有曳尾现象，无划痕。对于不需要金相摄影的试样，允许个别细微划痕残存。磨抛耗材，金刚石喷雾抛光剂用微米来表示，粒度约小，越适合精抛，粒度约大，越适合粗抛。

磨抛耗材，粗磨细磨粗磨，去除切割造成的损伤整平试样，形成合适的形状，快速接近目标细磨，去除粗磨的划痕和变形层，减薄变形层以利于下一步的抛光每道研磨砂纸的粒度*从尽可能细的颗粒开始研磨*每步递减1/2磨粒尺寸*SiC P180＞P400＞P800＞P1200 ＞P2000 ＞P2500 ＞P4000手动研磨一般试样300rpm为宜，过快试样易脱手飞出；在磨制试样前应将试样磨制面的边缘进行圆弧倒角，以避免磨制面的直边刮削砂纸；不可太用力，否则就会偏离平衡。轻轻拿，慢慢放，稳稳找平；快到欲观察面时应不时观察磨面以防过磨；在两相邻的研磨中，旋转样品90°，研磨时间为磨掉前道的磨痕的时间的1~3倍；磨抛材料，二氧化硅抛光液，高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度。金刚石喷雾研磨抛光剂磨抛耗材厂家

磨抛耗材，金刚石喷雾抛光剂，是由金刚石微粉组成的，根据研磨的精细的程度，金刚石的粒度有大有小。金相转换盘磨抛耗材

磨抛耗材，氧化铝抛光粉，特点如下：具有活性，无毒无味，不溶于水和难溶于酸碱。粒度均匀、化学性能稳定，经特殊工艺加工处理，具有良好的研磨抛光性能，以满足各种材料抛光用途的需求。产品粒度比较均匀，具备硬度高，磨削力强，抛光效果快，效率高，光度亮等特点。粒度分布范围窄，研磨效率高，抛光效果好，研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料，表面光洁度优于白刚玉的抛光效果，切削能力强、出光快、能抛出均匀而明亮的光泽。金相转换盘磨抛耗材

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