磨抛耗材,二氧化硅抛光液(VK-SP50W)使用范围:可用于微晶玻璃的表面抛光加工中;用于硅片的粗抛和精抛以及IC加工过程,适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工;用于晶圆的后道CMP清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多晶化模组、微电机系统、光导摄像管等的加工过程;普遍用于CMP化学机械抛光,如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、宝石、大理石等纳米级及亚纳米级抛光加工;本产品可以作为一种添加剂,也可应用于水性高耐候石材保护液、水性胶粘剂与高耐候外墙涂料的添加剂等。磨抛耗材,金相抛光润滑冷却液,增加润滑性能,提高样品的表面光洁度,可同时提高金相切割片的寿命。湖北金相悬浮液磨抛耗材性价比高

磨抛耗材,氧化铝抛光液适用范围:用于树脂镜片自由曲面的抛光、传统车房抛光、红外及光学软材400-500磨耗度以及蓝宝石窗口片,衬底片的抛光等产品特点:顆粒分散均匀,不团聚,悬浮性好;颗粒分布适中,抛光精度高;抛光速度快,表面质量高;环保性,低气味,低排放,无有机物挥发主要技术指标:状态乳白色悬浮液,静止久存放表层略有清液。应用领域:树脂镜片自由曲面的抛光,树脂镜片传统车房抛光,红外及光学软材400-500磨耗度,蓝宝石窗口片、衬底片的抛光。湖北金相悬浮液磨抛耗材性价比高磨抛耗材,金相抛光织物层精选了不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。

磨抛耗材,极软极硬金属的特点对于铜、铝、铅等金属及其合金,试样制备时易引起金属形变层,使金属扰乱层加厚。常采用手工取样,手工粗磨,使用新砂纸手工细磨,并在砂纸上滴以润滑剂。常用的润滑剂为5%的石蜡煤油,更换砂纸时在5%石蜡煤油中清洗。也可以用蜡盘代替手工细磨,但压力要轻。可分别采用粗抛与精抛,抛光浸蚀交替法消除金属扰乱层。对于硬质合金试样,因其硬度极高(高于氧化铝的硬度),常采用60目软质碳化硅砂轮粗磨;在铸铁盘上洒以200目碳化硼或金刚石粉细磨试样,并滴入机油润滑,约2~3min即可;然后在特制的塑料抛光盘上抛光2~3min,抛光时涂以金刚石研磨膏,亦可在金属抛光盘上蒙上尼龙布,再涂金刚石研磨膏进行抛光。
磨抛耗材,纳米二氧化硅成本相对较低,且具有良好的分散性、机械磨损性,高附着力、成膜性好、高渗透、高耐候性、高耐磨性等特点,是一种性能优良的CMP技术用的抛光材料.,因而常被用于金属、蓝宝石、单晶硅、微晶玻璃、光导摄像管等表面精密抛光。化学机械抛光(CMP)技术是目前各类显示屏、手机部件、蓝宝石、不锈钢、单晶硅片等领域使用普遍的表面超精密加工技术,研磨抛光材料是化学机械抛光过程中必不可少的一种耗材,常用的研抛材料有氧化饰、氧化硅、氧化铝和金刚石钻石)。磨抛材料,金相砂纸是应用于物理实验室金相分析时研磨所用的砂纸。

磨抛耗材,新抛光布须经处理才能使用,如帆布、金丝绒、毛呢等均需煮沸脱脂10-30min,而尼龙、涤纶等只需温水浸泡或用肥皂揉搓,使之柔软并除去杂质。抛光结束后要洗净晾干,或浸泡在蒸馏水中。抛光操作在抛光过程中应注意以下事项:在抛光时,试样和操作者双手及抛光用具必须洗净,以免将粗砂粒带入抛光盘。抛光微粉悬浮液的浓度一般为5~15%的抛光粉蒸馏水悬浮液,装在瓶中,使用时摇动,滴入抛光盘中心。抛光盘湿度是以提起试样,磨面上的水膜在2~3s内自行蒸发干者为宜。磨抛耗材,金相砂纸是采用上好的乳胶纸以静电植砂工艺制造出的。湖北金相悬浮液磨抛耗材性价比高
磨抛耗材,粒度均匀、磨削效果较好的碳化硅磨粒为主磨料。湖北金相悬浮液磨抛耗材性价比高
磨抛耗材,碳化硅耐水砂纸主要用于机床、汽车、船舶、仪器、家具、木材、塑料工艺品及机械零部件的打磨和抛光,尤其适用于精密仪器的研磨和抛光。乳胶纸碳化硅柔软性能优越,手感好,耐磨,可以干湿两用。主要用于:金属面和非金属的精细加工和抛光。氧化铝耐水砂纸采用优良的静电植砂工艺和特殊的植砂标准,本产品耐水性强,可以在水中长时间浸泡,它可以潮湿和干燥的环境下应用新研制粘合剂改善了砂纸的耐磨性柔软性,打磨效率高,光洁度好,使用寿命长。湖北金相悬浮液磨抛耗材性价比高
无锡欧驰检测技术有限公司专业从事中材料分析测试仪器与耗材的研发、设计、生产、销售和系统集成、技术支持、服务于一体的企业。作为一家专注于生产研发中金相样品制样设备的厂家,欧驰拥有一批技术过硬、从事行业多年经验丰富的专业设计人员和技术支持人员。公司主营产品:精密切割机、金相切割机、金相镶嵌机、金相磨抛机、低倍组织热酸蚀装置、电解抛光腐蚀仪、晶间腐蚀仪、通风柜、酸雾处理系统、金相制样耗材、金相显微镜、光谱仪、实验炉、硬度计。上述产品广泛应用于钢铁、汽车、航空航天、铁路、电子厂、新能源、高校等各行各业。公司自创办以来本着“以市场为导向,诚实守信、开拓创新”的经营方针,秉承专业、敬业、务实、创新的发展理念,以敏锐的创新思路、强大的技术实力为后盾坚持以客户为本,以信用为先的服务准则,以自身擅长的技术服务优势,用心解决客户迫切、实际的需求,以质量的产品、先进的技术,竭诚为广大客户提供质量精诚的质量服务。
金相磨抛耗材,磨抛目的和要求的表面光洁度表面质量要求较低(例如用于宏观组织观察):如果只是需要观察材料的宏观组织结构,磨抛要求相对较低。可以使用较粗的砂纸进行简单研磨,例如120-180目的砂纸,使表面相对平整即可。之后用普通的编织抛光布配合中等粒度的抛光液进行快速抛光,主要是去除明显的研磨痕迹,获得能够观察宏观特征的表面。表面质量要求高(用于微观结构分析,如电子显微镜观察):对于高倍显微镜下的微观结构观察,需要极高的表面光洁度。从粗磨开始就要严格控制砂纸的粒度,逐渐从粗到细(如从 240 目一直到 2000 目)。精磨后使用高质量的抛光布,如无绒、平整性好的合成材料抛光布。并且要采用粒度极细...