而化学机械抛光(Chemical mechanical polishing,CMP)是集成电路芯片的一个关键制程,国内抛光所用关键材料CMP抛光垫,几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%,170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%,6-80nm)、氧化铈(6Vol%,200-240nm)或氧化铝颗粒,它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%),容易聚集。随着贮存时间延长,它的粒度可能增大从而导致损害的产生。驰光机电科技有限公司设备的引进更加丰富了公司的设备品种,为用户提供了更多的选择空间。广东纳米粒度分析仪报价
印刷和涂料,涂料:水基和油基涂料,微纤维涂料粘度改性剂,打印机/复印件墨粉,喷墨打印机墨水,炭黑,磁性材料。半导体:微磨料,CMP化学机械抛光。其他:纳米微球,淀粉/面粉颗粒,颗粒团聚模式分析,标准颗粒。CPS纳米粒度分析仪的操作软件集数据于一体,主要包括以下特性:后台数据采集,允许测量时浏览数据;重量,表面积,数量和吸收分布图;可以在同一张图表上显示20个不同的分布结果;可定制的分布统计输出结果;完整的粒度分布统计。重庆激光粒度粒形分析仪价格我们愿与您共同努力,共担风雨,合作共赢。
CPS纳米粒度分析仪样本分散系统:自动液体循环、干粉分散器、粉料送样器、温度控制器、气溶胶控制器。粒度仪的较佳选择:EyeTech可以提供颗粒系统粒径、形状和浓度等方面的总体信息。具有多样化的功能,可以:监测动力学过程;提供标准的体积和数量分布的结果。激光和图像通道的结合:对球形、非球形及细长颗粒的精确定性分析;可同时测量粒径、粒形和浓度;多种模块配置可满足不同类型的干法及湿法检测需求;测量过程中可实时观察样品颗粒。
系统配有冲洗系统,减少了由于系统污染引起的计划外停机维护时间。样品预处理系统:正确设计和操作样品调节系统是分析仪成功运行的关键。该系统基于现场经验针对这种复杂的工艺样品,专门为低维护操作而设计。低维护的固体颗粒分离器。不带过滤元件可将颗粒去除达到2-3微米,减少了维护量。先进的安全系统,保护分析仪免受高压影响和防止产品泄漏。简单校准。标准的引入是一种手工操作,只需使用注射器即可,不需要定期重新校准,无样本回收系统。驰光机电以发展求壮大,就一定会赢得更好的明天。
这个关系可以用散点图显示,用以观察样品粒径和形状之间的关系。形状过滤功能可以根据粒径或形状特性放大观察样品的特定部分。可以根据数据挖掘,对比分析粒度粒型数据分析,给除对比图与表格。图像分析软件的特征:测量过程中可观察颗粒;对已存图片或录像可重新分析;可根据粒径或形状对颗粒分类和过滤;对非球形颗粒可以提供多种形状参数;可提供纤维测量模块;验证工具-较大程度减少样品预处理对测量结果的影响,颗粒形状信息是很重要的。驰光机电科技严格控制原材料的选取与生产工艺的每个环节,保证产品质量不出问题。江西纳米粒度分析仪
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低维护配置允许安装分析仪在常压下将样品返回的合适位置,进一步减少维护需求。C-Quand在线EDXRF分析仪的优势:1.带有十五个测量通道,可以同时分析15种元素的含量。2.没有运动部件,不需要更换动力窗模块。3.运行维护成本低,无后期耗材成本。4.维护操作简单,带有全自动样品池清洗模块,每次维护时间多数十分钟,宕机时间短。5.内置标准样品,不需要停机校准,实现真正的完全在线测量。6.测量结果不受样品密度和原料种类影响,直接测量元素含量。广东纳米粒度分析仪报价
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