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纳米力学测试基本参数
  • 品牌
  • 星石科技
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 纳米力学测试
纳米力学测试企业商机

谱学技术微纳米材料的化学成分分析主要依赖于各种谱学技术,包括紫外-可见光谱红外光谱、x射线荧光光谱、拉曼光谱、俄歇电子能谱、x射线光电子能谱等。另有一类谱仪是基于材料受激发的发射谱,是专为研究品体缺陷附近的原子排列状态而设计的,如核磁共振仪、电子自旋共振谱仪、穆斯堡尔谱仪、正电子湮灭等等。热分析技术,纳米材料的热分析主要是指差热分析、示差扫描量热法以及热重分析。三种方法常常相互结合,并与其他方法结合用于研究微纳米材料或纳米粒子的一些特 征:(1)表面成键或非成键有机基团或其他物质的存在与否、含量多少、热失重温度等(2)表面吸附能力的强弱与粒径的关系(3)升温过程中粒径变化(4)升温过程中的相转变情况及晶化过程。纳米力学测试可以解决纳米材料在微纳尺度下的力学问题,为纳米器件的设计和制造提供支持。深圳纺织纳米力学测试厂家供应

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纵观纳米测量技术发展的历程,它的研究主要向两个方向发展:一是在传统的测量方法基础上,应用先进的测试仪器解决应用物理和微细加工中的纳米测量问题,分析各种测试技术,提出改进的措施或新的测试方法;二是发展建立在新概念基础上的测量技术,利用微观物理、量子物理中较新的研究成果,将其应用于测量系统中,它将成为未来纳米测量的发展趋向。但纳米测量中也存在一些问题限制了它的发展。建立相应的纳米测量环境一直是实现纳米测量亟待解决的问题之一,而且在不同的测量方法中需要的纳米测量环境也是不同的。河北纳米力学材料测试纳米力学测试在生物医学领域,助力研究细胞力学行为,揭示疾病发生机制。

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微纳米材料力学性能测试系统可移动范围:250mm x 150mm;步长分辨率:50nm;Encoder 分辨率:500nm;较大移动速率:30mm/S;Z stage。可移动范围:50mm;步长分辨率:3nm;较大移动速率:1.9mm/S。原位成像扫描范围。XY 方向:60μm x 60μm;Z 方向:4μm;成像分辨率:256 x 256 像素点;扫描速率:3Hz;压头原位的位置控制精度:<+/-10nm;较大样品尺寸:150mm- 200mm。纳米压痕试验:测试硬度及弹性模量(包括随着连续压入深度的变化获得硬度和弹性模量的分布)以及断裂韧性、蠕变、应力释放等。 纳米划痕试验:获得摩擦系数、临界载荷、膜基结合性质。纳米摩擦磨损试验 :评价抗磨损能力。在压痕、划痕、磨损前后的SPM原位扫描探针成像: 获得微区的形貌组织结构。

纳米划痕法,纳米划痕硬度计主要是通过测量压头在法向和切向上的载荷和位移的连续变化过程,进而研究材料的摩擦性能、塑性性能和断裂性能的。纳米划痕仪器的设计主要有两种方案 纳米划痕计和压痕计,合二为一即划痕计的法向力和压痕深度由高分辨率的压痕计提供,同时记录匀速移动的试样台的位移,使压头沿试样表面进行刻划,切向力由压杆上的两个相互垂直的力传感器测量纳米划痕硬度计和压痕计相互单独。纳米划痕硬度计,不只可以研究材料的摩擦磨损行为,还普遍应用于薄膜的粘着失效和黏弹行为。对刻划材料来说,不只载荷和压入深度是重要的参数,而且残余划痕的深度、宽度、凸起的高度在研究接触压力和实际摩擦也是十分重要的。目前,该类仪器已普遍应用于各种电子薄膜、汽车喷漆、胶卷、光学镜 头、磁盘、化妆品(指甲油和口红)等的质量检测。纳米力学测试还可以揭示纳米材料的表面特性和表面反应动力学。

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目前纳米压痕在科研界和工业界都得到了普遍的应用,但是它仍然存在一些难以克服的缺点,比如纳米压痕实际上是对材料有损的测试,尤其是对于薄膜来说;其压针的曲率半径一般在50 nm 以上,由于分辨率的限制,不能对更小尺度的纳米结构进行测试;纳米压痕的扫描功能不强,扫描速度相对较慢,无法捕捉材料在外场作用下动态性能的变化。基于AFM 的纳米力学测试方法是另一类被普遍应用的测试方法。1986 年,Binnig 等发明了头一台原子力显微镜(AFM)。AFM 克服了之前扫描隧道显微镜(STM) 只能对导电样品或半导体样品进行成像的限制,可以实现对绝缘体材料表面原子尺度的成像,具有更普遍的应用范围。AFM 利用探针作为传感器对样品表面进行测试,不只可以获得样品表面的形貌信息,还可以实现对材料微区物理、化学、力学等性质的定量化测试。目前,AFM 普遍应用于物理学、化学、材料学、生物医学、微电子等众多领域。纳米力学测试的结果可以为新材料的设计和应用提供重要参考。深圳纺织纳米力学测试厂家供应

纳米力学测试需要使用专属的纳米力学测试仪器,如纳米压痕仪和纳米拉伸仪等。深圳纺织纳米力学测试厂家供应

即使源电阻大幅降低至1MW,对一个1mV的信号的测量也接近了理论极限,因此要使用一个普通的数字多用表(DMM)进行测量将变得十分困难。除了电压或电流灵敏度不够高之外,许多DMM在测量电压时的输入偏移电流很高,而相对于那些纳米技术[3]常常需要的、灵敏度更高的低电平DC测量仪器而言,DMM的输入电阻又过低。这些特点增加了测量的噪声,给电路带来不必要的干扰,从而造成测量的误差。系统搭建完毕后,必须对其性能进行校验,而且消除潜在的误差源。误差的来源可以包括电缆、连接线、探针[5]、沾污和热量。下面的章节中将对降低这些误差的一些途径进行探讨。深圳纺织纳米力学测试厂家供应

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