设计优化Tracepro

可视化的选项包括:真实渲染，实体渲染、轮廓线、线框和隐藏线等，这些选项能帮助设计更直观、准确地区设计所想要的产品。它的多文档和多视图结构允许用户可以在同一时间打开同一个模型的几个视图模式。复制和粘贴一个物体到另一个模型只需要简单的几个按键或者菜单选择项。

TracePro的RepTile特色能够简单的，自动的在任意表面设计大量的微结构，这些微结构的位置既可以随机设置，也可进行周期性排列，例如亮度增强膜，光导中的散射点，并且这些微结构可以均匀分布，可以参数化，或者可以利用已有的数据文件来设置。另外，用户可以设定每个微结构的属性，例如边数，高度，宽度，厚度，曲率半径，二次曲面系数，非球面，旋转角度。 上海复光Tracepro中文版。设计优化Tracepro

软件版本说明

在三个不同的版本可以被设置为层的子集。LC是标准的一个子集，标准是**的子集。

(7)航空**产业:

  1、可监看分析中每一条光线的传播路径，及光学表面上的偏振状态、光通量、入射位置、分量及光路。

  2、可建立非等向性的表面材料参数，例如入射方向、散射方向、波长及温度等参数。

  3、可模拟黑体或灰体的辐射光源。

(8)消费性电子产业:

  1、TracePro接受SAT、STEP 与IGES几何文件格式，可由主流 CAD 软件汇入设计模型。

  2、设计初期便可藉由TracePro精确评估光学效果，避免或减少制作产品原型的成本支出。

  3、完整的光频分析功能，并可以用人眼主观感受的方式描绘出光学分析结果。

  4、完整的光源定义方式，包含格点光源、表面光源、黑体辐射及档案光源。

光学追迹功能包括：

l  分光

l  准确的光线追踪-----不错过交叉或虚弱的光线

l  分析模式光线追迹对于交互式视图在任何表面或物体上的分析结果都是完整的

l  仿真模式光线追迹在追踪大量光线时的内存消耗是非常少或者是没有的

l  多出射面（仿真模式）

l  均匀或八叉树的立体像素地光线追迹使物体空间体素化

l  孔径衍射

l  重点分层采样

l  通过反向光线追迹来完善抽样方法的设计

TracePro仿真布局在发光强度，辐照度/光照度和波动在一个模型或在选定面使用Monte Carlo的方法追踪光线。光源由发射光线建模。此外，在TracePro表面光源属性中可以绘制面源属性直接从制造商的数据表导入。 TracePro是一套获奖无数、功能完善的光学设计仿真分析软件。

TracePro的2D和3D优化

交互式地完善您的设计以达到理想结果。

简化原型工艺来优化

TracePro通过利用2D对称和3D非对称优化器来简化光学和照明系统从原型到制作的过程。而不同于传统的优化器，TracePro提供了一种简单易用、独特的功能来监测和控制制作过程的每一步。

设计过程

设计过程一般分为三个步骤：画原始设计草图，用CAD略图功能将变量限制数据化，用强度、效率、辐照度、颜色、均匀性等参数建立评价函数。

评价函数根据你的预期目标通过权重来平衡多个操作对象。

上海复光复瞻Tracepro教程。设计优化Tracepro

TracePro是一 套能进行常规光学分析、设计照明系统、分析辐射度和亮度的软件。

TracePro 通过广为人知的CAD界面，3D优化以及与流行的CAD软件（例如SOLIDWORKS®）的无缝互操作性，简化了光学和照明系统制造过程中的原型流程。

用户还可以平移，旋转，缩放和执行其他标准几何图形处理技术TracePro的多文档，多视图架构允许您同时打开同一模型的多个视图，并同时打开多个模型。将对象从一个模型复制和粘贴到另一个模型*需要几次按键或菜单选择。 设计优化Tracepro

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