氧化铪更多1.性状:白色粉末。2.密度(g/mL,25℃):9.683.相对蒸汽密度(g/mL,空气=1):未确定4.熔点(ºC):21825.沸点(ºC,常压):未确定6.沸点(ºC,1mmHg):未确定7.折射率:未确定8.闪点(ºC):未确定9.比旋光度(º):未确定10.自燃点或引燃温度(ºC):未确定11.蒸气压(20ºC):未确定12.饱和蒸气压(kPa,60ºC):未确定13.燃烧热(KJ/mol):未确定14.临界温度(ºC):未确定15.临界压力(KPa):未确定16.油水(辛醇/水)分配系数的对数值:未确定17.上限(%,V/V):未确定18.下限(%,V/V):未确定19.溶解性:未确定氧化铪是什么形状的?青海有名的氧化铪
性质氧化铪为白色立方晶体,比重9.68。熔点2,758±25℃。沸点约5,400℃。单斜晶系的二氧化铪在1,475~1,600℃足量氧气氛中转化为四方晶系。不溶于水和一般无机酸,但在氢氟酸中缓慢溶解。化学反应与热的浓硫酸或酸式硫酸盐作用形成硫酸铪[ChemicalbookHf(SO4)2],与碳混合后加热通氯生成四氯化铪(HfCl4),与氟硅酸钾作用生成氟铪酸钾(K2HfF6),与碳在1,500℃以上作用形成碳化铪HfC。制备氧化铪可由铪的碳化物、四氯化物、硫化物、硼化物、氮化物或水合氧化物直接高温灼烧制取。应用领域青海有名的氧化铪氧化铪的折射率是多少?
应用领域氧化铪(HfO2)为锆铪分离的产物,目前只有美、法等国家在生产核级锆时产生有氧化铪。中国早期就已经具备生产核级Zr,并生产少量氧化铪的能力。但是产品数量稀少,价格昂贵。作为铪的主要化学产品,通常用作光学镀膜材料,很少量开始试用于高效集成电路,氧化铪在**领域的应用尚待开发。氧化铪在光学镀膜领域的应用HfO2的熔点比较高、同时铪原子的吸收截面较大Chemicalbook,捕获中子的能力强,化学性质特别稳定,因此在原子能工业中具有非常大应用的价值。自上世纪以来,光学镀膜得到了很快的发展,HfO2在光学方面的特性已经越来越适应光学镀膜技术的要求,所以HfO2在镀膜领域的应用也越来越***,特别是它对光有比较宽的透明波段,在光透过氧化铪薄膜时,对光的吸收少,大部分通过折射透过薄膜,因此HfO2在光学镀膜领域的应用越来越被重视。生产方法当加热到高温时铪与氧直接化合生成氧化铪。也可通过其硫酸盐或草酸盐经灼烧而得。
氧化铪又称氧化铪(IV),它是一种无机化工产品,其分子式为HfO2,分子量为210.4888。存储方法常温密闭,阴凉通风干燥。合成方法当加热到高温时铪与氧直接化合生成氧化铪。也可通过其硫酸盐或草酸盐经灼烧而得。主要用途用于光谱分析及催化剂体系,耐熔材料。系统编号CAS号:12055-23-1MDL号:MFCD00003565EINECS号:235-013-2PubChem号:24873674,毒理学数据主要的刺激性影响:在皮肤上面:刺激皮肤和粘膜在眼睛上面:刺激的影响致敏作用:没有已知的敏化现象氧化铪的用途与合成方法?
性质白色粉末,有单斜、四方和立方三种晶体结构。密度分别为10.3,10.1和10.43g/cm3。熔点2780~2920K。沸点5400K。热膨胀系数5.8×10-6/℃。不溶于水、盐酸和硝酸,可溶于浓硫酸和氟氢酸。由硫酸铪、氯氧化铪等化合物热分解或水解制取。为生产金属铪和铪合金的原料。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化剂。应用二氧化铪(HfO₂)是一种具有宽带隙和高介电常数的陶瓷材料,近来在工业界特别是微电子领域被引起极度的关注,由于它**可能替代硅基集成电路的**器件金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的栅极绝缘层二氧化硅(SiO₂),以解决MOSFET中传统SiO₂/Si结构的发展的尺寸极限问题。氧化铪的 氢键受体数量?青海有名的氧化铪
氧化铪的安全操作的注意事项?青海有名的氧化铪
化学性质氧化铪的化学性质与氧化锆相似,其活性与煅烧温度有关,煅烧温度越高,化学活性性越低。无定型氧化铪容易溶解于酸中,但是结晶型氧化铪即使是在热盐酸或者是硝酸中也不发生反应,而*溶于热浓的氢氟酸和硫酸中。结晶型氧化铪与碱和盐酸溶后,则容易稀酸中。在1100℃下,氧化铪与铪酸锂。在高Chemicalbook于1500℃氧化铪与碱土金属氧化铪与二氧化硅等作用,生成铪酸盐和硅酸铪。在1800℃以上与氧化硅组成一系列的固溶体。铪盐水解可以得到两性的氢氧化铪,氢氧化铪在100℃下干燥能够达到HfO(OH)2,再升高温度即转换为氧化铪。在碳化过程中可有Hf2O3与HfO形成,但是对此研究较少。性质氧化铪为白色立方晶体,比重9.68。熔点2,758±25℃。沸点约5,400℃。单斜晶系的二氧化Chemicalbook铪在1,475~1,600℃足量氧气氛中转化为四方晶系。不溶于水和一般无机酸,但在氢氟酸中缓慢溶解。青海有名的氧化铪
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