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氧化铪基本参数
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氧化铪企业商机

化学性质氧化铪的化学性质与氧化锆相似,其活性与煅烧温度有关,煅烧温度越高,化学活性性越低。无定型氧化铪容易溶解于酸中,但是结晶型氧化铪即使是在热盐酸或者是硝酸中也不发生反应,而*溶于热浓的氢氟酸和硫酸中。结晶型氧化铪与碱和盐酸溶后,则容易稀酸中。在11Chemicalbook00℃下,氧化铪与铪酸锂。在高于1500℃氧化铪与碱土金属氧化铪与二氧化硅等作用,生成铪酸盐和硅酸铪。在1800℃以上与氧化硅组成一系列的固溶体。铪盐水解可以得到两性的氢氧化铪,氢氧化铪在100℃下干燥能够达到HfO(OH)2,再升高温度即转换为氧化铪。氧化铪基本的理化特性的信息?吉林氧化铪均价

化学性质氧化铪的化学性质与氧化锆相似,其活性与煅烧温度有关,煅烧温度越高,化学活性性越低。无定型氧化铪容易溶解于酸中,但是结晶型氧化铪即使是在热盐酸或者是硝酸中也不发生反应,而*溶于热浓的氢氟酸和硫酸中。结晶型氧化铪与碱和盐酸溶后,则容易稀酸中。在1100℃下,氧化铪与铪酸锂。在高Chemicalbook于1500℃氧化铪与碱土金属氧化铪与二氧化硅等作用,生成铪酸盐和硅酸铪。在1800℃以上与氧化硅组成一系列的固溶体。铪盐水解可以得到两性的氢氧化铪,氢氧化铪在100℃下干燥能够达到HfO(OH)2,再升高温度即转换为氧化铪。在碳化过程中可有Hf2O3与HfO形成,但是对此研究较少。分析纯氧化铪环境危害氧化铪的销售价格是多少?

中文名称:氧化铪中文同义词:氧化铪(III);Hafnium(IV)鎜xide(99.998%-Hf)PURATREM;氧化铪(METALSBASISEXCLUDINGZR),ZR<1.5%;氧化铪;氧化铪,99.95%,(METALSBASISEXCLUDINGZR),ZRTYPICALLY<0.5%;氧化铪,SPECTROGRAPHICGRADE,99.9%(METALSBASISEXCLUDINGZR),ZRTYPICALLY<50PPM;氧化铪(IV),99.995%,(METALSBASISEXCLUDINGZR),ZRTYPICALLY<0.2%;氧化铪,99.95%,(METALSChemicalbookBASISEXCLUDINGZR),ZRTYPICALLY英文名称:HAFNIUMOXIDE英文同义词:HAFNIUMOXIDE,99.99%;HafniuM(IV)oxide,99.99%,(traceMetalbasis);dioxohafniuM;HafniuM(IV)oxide,(traceMetalbasis);Hafnium(IV)oxidepowder,98%;Hafniumoxide/99.999%;HAFNIUMOXIDE,99.8%;HAFNIUMOXIDE,99.9%HAFNIUMOXIDE,99.9%HAFNIUMOXIDE,99.9%HAFNIUMOXIDE,99.9%

产品特点:白色粉末,有单斜、四方和立方三种晶体结构。密度分别为10.3,10.1和9.68g/cm3。熔点2780~2920K。沸点5400K。氧化铪 性质熔点 2810 °C密度 9.68 g/mL at 25 °C(lit.)折射率 2.13 (1700 nm)热膨胀系数5.8×10-6/℃。不溶于水、盐酸和硝酸,可溶于浓硫酸和氟氢酸。由硫酸铪、氯氧化铪等化合物热分解或水解制取。为生产金属铪和铪合金的原料。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化剂。产品应用:二氧化铪(HfO?)是一种具有宽带隙和高介电常数的陶瓷材料,近来在工业界特别是微电子领域被引起极度的关注,由于它可能替代目前硅基集成电路的**器件金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的栅极绝缘层二氧化硅(SiO?),以解决目前MOSFET中传统SiO?/Si结构的发展的尺寸极限问题。氧化铪的毒理学数据?

应用领域氧化铪(HfO2)为锆铪分离的产物,目前只有美、法等国家在生产核级锆时产生有氧化铪。中国早期就已经具备生产核级Zr,并生产少量氧化铪的能力。但是产品数量稀少,价格昂贵。作为铪的主要化学产品,通常用作光学镀膜材料,很少量开始试用于高效集成电路,氧化铪在**领域的应用尚待开发。氧化铪在光学镀膜领域的应用HfO2的熔点比较高、同时铪原子的吸收截面较大Chemicalbook,捕获中子的能力强,化学性质特别稳定,因此在原子能工业中具有非常大应用的价值。自上世纪以来,光学镀膜得到了很快的发展,HfO2在光学方面的特性已经越来越适应光学镀膜技术的要求,所以HfO2在镀膜领域的应用也越来越***,特别是它对光有比较宽的透明波段,在光透过氧化铪薄膜时,对光的吸收少,大部分通过折射透过薄膜,因此HfO2在光学镀膜领域的应用越来越被重视。氧化铪的生产方法有那些?分析纯氧化铪环境危害

氧化铪的CAS登录号是多少?吉林氧化铪均价

中文名二氧化铪外文名Hafnium(IV)oxide别名氧化铪(IV)化学式HfO2分子量210.49CAS登录号12055-23-1EINECS登录号235-013-2熔点2758℃沸点5400℃水溶性难溶于水密度9.68g/cm³外观白色固体应用远红外波段材料

性质白色粉末,有单斜、四方和立方三种晶体结构。密度分别为10.3,10.1和10.43g/cm3。熔点2780~2920K。沸点5400K。热膨胀系数5.8×10-6/℃。不溶于水、盐酸和硝酸,可溶于浓硫酸和氟氢酸。由硫酸铪、氯氧化铪等化合物热分解或水解制取。为生产金属铪和铪合金的原料。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化剂。 吉林氧化铪均价

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