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化学气相沉积技术

原理

化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上阐述化学反应并产生固态沉积物的一种工艺，它大致包含三步：

（1）形成挥发性物质；

（2）把上述物质转移至沉积区域；

（3）在固体上产生化学反应并产生固态物质。基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集中。

特点

1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。

2）可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好）。

3）采用等离子和激光辅助技术可以明显地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进行。

4）涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化，从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。

5）可以控制涂层的密度和涂层纯度。

6）绕镀件好。可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好，所以可涂覆带有槽、沟、孔，甚至是盲孔的工件。

7）沉积层通常具有柱状晶体结构，不耐弯曲，但可通过各种技术对化学反应造成气相扰动，以改善其结构。

8）可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶瓷和化合物涂层。 常州市丰裕科技有限公司主营氧化铝喷涂，若有需要，欢迎垂询。浙江特氟龙喷涂有几种

曾经作者在某阀门喷涂企业任职，我们每年喷涂球阀上万套，所以在球阀的喷涂加工中积累了较丰富的经验。球阀和板阀的喷涂有很多的不同，主要是球阀喷涂的粉末多样性、工艺多样性、形状多样性，而且球阀喷涂的要求跟板阀相比也有很多不同，球阀喷涂主要的问题是砂眼、开裂、脱落、麻点、硬度低、涂层不均匀、毛刺、堆积等等。在球阀喷涂中，我们曾经喷涂过碳化钨、碳化铬、镍基合金、钴基合金、蒙乃尔合金、哈氏合金等多种材料，喷涂工艺有超音速喷涂、等离子喷涂、堆焊、喷焊等等，球阀的形状虽然都是圆形，但是喷涂的时候机器人程序的设定就比平板阀要复杂很多，如果程序不合理，喷涂的涂层会厚薄不均匀，影响后续磨削。上海热喷涂要多少钱常州市丰裕科技有限公司主营陶瓷喷涂，若有需要，欢迎致电咨询。

离子镀技术在1963年由D．M．Mattox提出，1972年，Bunshah&Juntz推出活性反应蒸发离子镀(AREIP)，沉积TiN,TiC等超硬膜，1972年Moley&Smith发展完善了空心热阴极离子镀，l973年又发展出射频离子镀(RFIP)。20世纪80年代，又发展出磁控溅射离子镀(MSIP)和多弧离子镀(MAIP)。

离子镀的基本特点是采用某种方法(如电子束蒸发磁控溅射，或多弧蒸发离化等)使中性粒子电离成离子和电子，在基体上必须施加负偏压，从而使离子对基体产生轰击，适当降低负偏压后，使离子进而沉积于基体成膜。离子镀的优点如下：

①膜层和基体结合力强。

②膜层均匀，致密。

③在负偏压作用下绕镀性好。

④无污染。

⑤多种基体材料均适合于离子镀。

化学气相沉积（CVD）将工件置于反应室中，抽真空并加热至900~1100℃。如要涂覆TiC层，则将钛以挥发性氯化物（如TiCl4)与气体碳氢化合物（如CH4）一起通入反应室内，这时就会在工表面发生化学反应生成TiC，并沉积在工件表面形成6~8μm厚的覆盖层。工件经气相沉积镀覆后，再进行淬火，回火处理，表面硬度可达到2000~4000HV物理类气相沉积（PVD）物理类气相沉积是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理类气相沉积方法有真空镀，真空溅射和离子镀三种，目前应用较广的是离子镀。离子镀是借助于惰性气体辉光放电，使镀料（如金属钛）气化蒸发离子化，离子经电场加速，以较高能量轰击工件表面，此时如通入CO2，N2等反应气体，便可在工件表面获得TiC,TiN覆盖层，硬度高达2000HV。离子镀的重要特点是沉积温度只有500℃左右，且覆盖层附着力强，适用于高速钢工具，热锻模等。常州市丰裕科技有限公司主营碳化钨喷涂，若有需要，欢迎来电详谈。

近几年，由于环保的要求越来越高，全国各地电镀企业逐渐关停，业内很多人士提出用喷涂来取代电镀。镀铬有两种，一种是装饰镀，一种是镀硬铬。大家通常讲的就是用喷涂来取代镀硬铬。首先，我个人的观点是喷涂取代镀硬铬适合用在部分产品上，比如：镜面辊、活塞杆、阀门等，而不是所有的产品上，每一个技术的存在，都是有它独有的优势和应用领域，而倡导“喷涂取代电镀”只是一个偏颇的观点。电镀跟喷涂相比，优势不是效率和质量，而是价格。常州市丰裕科技有限公司主营热喷涂，若有需要，欢迎咨询。江苏防腐涂层喷涂厂家

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