南京工业平板探测器技术参数

    在间接转换的平板探测器中，影响DQE的因素主要有两个方面：闪烁体的涂层和将可见光转换成电信号的晶体管。首先闪烁体涂层的材料和工艺影响了X线转换成可见光的能力，因此对DQE会产生影响。常见的闪烁体涂层材料有两种：碘化铯(CsI)和硫氧化钆(Gd2O2S)。碘化铯将X线转换成可见光的能力比硫氧化钆强，但成本比较高；将碘化铯加工成柱状结构，可以进一步提高捕获X线的能力，并减少散射光。使用硫氧化钆做涂层的探测器成像速度快，性能稳定，成本较低，但是转换效率不如碘化铯涂层高。 数字化X线影像(DR)的平板探测器的灵敏度远高于普通X线片，所以它只需要比较小的能量就可获得满意的图像。南京工业平板探测器技术参数

    DR是射线数字成像检测的英文简称，工业领域也叫X射线探伤，现大部分采用数字平板。DR可以对缺陷进行定性分析,比较直观。首先，X射线对体积型缺陷比较敏感。在检测进行时，DR检测系统对工件表面要求不高，它是X射线穿透待检物后在平板探测器上接收经过检测物吸收后的光电子，再由计算机和图像软件处理得到明暗区分的图片，从而观测缺陷的种类和估算其大小，图像易于保存，所以可以用于定性和存档。X射线易于检测物体内部的气泡、缩孔、夹杂但难于确定深度方向的尺寸。 南京工业平板探测器技术参数线阵与平板相似，不过只有一行像素，因此要形成二维图像，需要使用如传送装置增加时间维度。

    闪烁体除了材料区别，还有工艺区分，主要分为直接生长型和贴膜型。1.直接生长型主要为闪烁体晶体通过专业设备蒸镀在非晶硅TFT上，大致形式为将非晶硅TFT倒置在专业蒸镀设备上，这类型机器每台约为1000万人民币，可以精确到微米级的晶体生长。约10小时后，晶体直接生长在TFT上，再通过惰性化学物质将晶体长期封装在TFT上。该工艺十分复杂，设备高昂，但直接生长的碘化铯工艺和材料可以确保在低剂量下图像效果为比较好效果。2.除了直接蒸镀就为贴膜工艺，将晶体放到膜上然后通过贴合到TFT表面，该种工艺多了一层中间的转换层降低了转换效率，另外贴合分为全自动覆膜机贴合和人工贴合。该工艺对胶水要求高，要求比例均匀和贴合工艺正确，不然会出现脱落和不均匀影响图像效果，类似于手机贴膜，不能出现气泡和脱胶等现象。

    CR和DR存在一些共同点。1、DR和CR将X射线图像信息转换成数字图像信息。与传统的X射线相比，检查员的工作量，工作效率和胶片消耗都具有明显的优势。CR和DR技术不仅省去了薄膜冲洗工艺，而且减少了化学药品的消耗，并且可以很好地控制质量。2、DR和CR都具有较宽的动态范围和较宽的曝光范围。当X射线曝光参数不足时，可以获得良好的图像。透照的成功率很高，可以有效地减少回收率，并减少废品率。减少胶片消耗有利于节省资源，检查人员的工作量也相对减少。3、DR和CR获取数字信号图像，并根据需要通过图像处理系统实现图像优化，改善图像细节，达到比较好视觉效果，提高图像质量。 数字影像(DR)具有图像清晰细腻、高分辨率、广灰阶度、信息量大、动态范围大。

    探测器面积一定的条件下，为了增加空间分辨率，只好减小像素尺寸、降低单位像素面积、增加像素密度。单位像素的面积越小，会使像素有效因子减少，像素的感光性能越低，信噪比越低，动态范围变窄。因此这种减小像素尺寸的方法不可能无限制地增大分辨率，相反会引起图像质量的恶化，**终增加了的空间分辨率又被因此带来的噪声淹没。要弥补此问题就要增大X射线的曝光剂量，这与X射线影像技术的发展相违背。因此，单有高的空间分辨率并不意味着更高的发现能力。平板探测器在安检领域的应用包括公共场所安检、车辆集装箱检查、可疑包裹排查等。上海静态平板探测器技术指导

像素尺寸太小，会增加图像噪声；像素尺寸太大，会降低图像分辨率。南京工业平板探测器技术参数

    高压发生器的主要作用是供给X射线管阴、阳两极直流高压和灯丝加热电压。其主要由电源电路、高压电路、灯丝电路、控制电路、应用设备电路及封装以上电路的箱体等组成。电源电路主要起到将电源与高压发生器其他电路隔离、给其他电路供电的作用。高压电路主要将交流低电压（220V/380V）升压至直流高电压（150kV），从而给X射线管供电。灯丝电路主要将低电压（220V/380V）降压至电压（12V），从而给灯丝供电，加热灯丝产生自由电子。控制电路主要用于控制高压发生器的输出电压、输出灯丝电流和加载时间，同时与其他X射线设备影像链部件通讯，保证曝光的准确性。应用设备电路：高压发生器除了给X射线管供电，同时留有给其他设备供电的电路，如平板探测器、限束器等。 南京工业平板探测器技术参数

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