杭州工业平板探测器常用知识

DR是射线数字成像检测的英文简称，工业领域也叫X射线探伤，现大部分采用数字平板。DR可以对缺陷进行定性分析。X射线对体积型缺陷比较敏感。在检测进行时，DR检测系统对工件表面要求不高，它是X射线穿透待检物后在平板探测器上接收经过检测物吸收后的光电子，再由计算机和图像软件处理得到明暗区分的图片，从而观测缺陷的种类和估算其大小，图像易于保存，所以可以用于定性和存档。X射线易于检测物体内部的气泡、缩孔、夹杂但难于确定深度方向的尺寸。 上海煜影光电科技有限公司专业生产制造X光平板探测器，如果您对此类设备感兴趣，欢迎来电洽谈！杭州工业平板探测器常用知识

管道无损检测也可以称为管道工业探伤。无损检测是利用物质的声、光、磁和电等特性，在不损害或不影响被检测对象使用性能的前提下，检测被检对象中是否存在缺陷或不均匀性，给出缺陷大小，位置，性质和数量等信息。X射线实时成像无损检测设备成像清晰，可以直观的检测管道的内部缺陷，不管是厂家在线生产，还是正在长期使用的，都可以利用X射线实时成像检测设备检测到管道内部的焊缝、裂纹、缩孔、孔洞、腐蚀等缺陷。如今，X射线实时成像检测设备在管道缺陷检测中已经得到了大量的应用，并在实际检测中取得了非常好的效果。 杭州工业平板探测器常用知识密度分辨率高、获取更多影像细节是数字化X线影像(DR)优于普通放射影像**重要的特点。

X射线管包含有阳极和阴极两个电极，分别用于用于接受电子轰击的靶材和发射电子的灯丝。两极均被密封在高真空的玻璃或陶瓷外壳内。X射线管供电部分至少包含有一个使灯丝加热的低压电源和一个给两极施加高电压的高压发生器。当钨丝通过足够的电流使其产生电子云，且有足够的电压（千伏等级）加在阳极和阴极间，使得电子云被拉往阳极。此时电子以高能高速的状态撞击钨靶，高速电子到达靶面，运动突然受到阻止，一部分动能转化为辐射能，以X射线的形式放出，以这种形式产生的辐射称为轫致辐射。改变灯丝电流的大小可以改变灯丝的温度和电子的发射量，从而改变管电流和X射线强度的大小。改变X光管激发电位或选用不同的靶材可以改变入射X射线的能量或在不同能量处的强度。由于受高能电子轰击，X射线管工作时温度很高，需要对阳极靶材进行强制冷却。

平板探测器（简称FPD）成像时会受到暗场飘移、响应不一致和坏点等因素影响，因此必须对平板探测器进行一下几种校正。1、暗场校正（OFFSETcorrection），就是在开启射线源进行检测工作时，为了正确反映出透照物体内部结构与图像灰度值之间的对应关系，去除叠加在实际输出响应上的暗场图像值。2、虽然在线性曝光剂量范围内，平板探测器的每个探测单元对X射线响应是线性的，但不同探测单元的X射线响应系数并不完全一致，即响应不一致性。它带来的后果是相同的入射射线强度，但输出不同。因此必须对平板探测器做增益校正（GAINcorrection）。3、平板探测器（FPD）使用过程中，元器件老化、辐射额碰撞损伤都会产生新的坏点，所以定期更新坏点位置图（坏像素校正））是十分重要的。数字影像(DR)具有图像清晰细腻、高分辨率、广灰阶度、信息量大、动态范围大。

X光机是一种将电能转化为X光的设备，主要由控制台、高压发生器、机头、工作台及各种机械装置组成。这种装置是通过X光管实现的，所以X光管成为X光机的内核部件。因为每根X射线管的材料和结构都已经确定，所以极间绝缘强度和阳极热容量是有限的。工作时管电压、管电流和施加管电压的时间的任何组合都不能超过X射线管的公差，否则有立即损坏X射线管的危险。X射线机的高压部分、控制部分、灯丝加热部分、过载保护部分和限时部分均设置好，以保证X射线管的正常工作。 碘化铯将X线转换成可见光的能力比硫氧化钆强但成本比较高。无锡工业平板探测器技术参数

DR平板探测器可分为两种：非晶硒平板探测器和非晶硅平板探测器。杭州工业平板探测器常用知识

数字化X线探测器有多种分类。按照传感器阵列形状的不同，可分为平板探测器和线阵探测器。按照光子信号的转换方式的不同，可分为积分式探测器和单光子计数式探测器。此外，光学传感面板一般都由光电转化层和TFT阵列开关等寻址电路组成，按照这两部分的组成材料，可分为：非晶硅探测器、CMOS/单晶硅探测器、IGZO探测器、非晶硒探测器和CdTe/CZT（碲化镉/碲锌镉）探测器等。非晶硅、IGZO、CMOS和柔性基板四大传感器技术均有其特定的终端应用场景。非晶硅是目前主流的X线探测器传感器技术，具有大面积、工艺成熟稳定、普通放射的能谱范围响应好、材料稳定可靠、环境适应性好等特点，可同时满足静态和动态探测器的需求。 杭州工业平板探测器常用知识

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