高压微射流均质机原理：通过增压器使物料在高压作用下以速度流经微管通道，并进入微米级固定均质腔，物料流在此过程中受到高剪切力、高碰撞力、空穴效应等，由此获得理想的均质结果。由PSI研发的增压器、固定均质腔可调节恒定压力以获得稳定的剪切力，确保均匀减小颗粒尺寸、使粒径分布窄而均一；有助于研发、生产过程中优化配方以获得大的稳定性；延长货架期、降低生产成本。高压微射流均质机普遍的应用范围涵盖医药、生物、化工等行业，适用于细胞破壁、纳米乳剂、纳米脂质体、化妆品、高粘度材料等，是降低粒径、解团聚、乳化等过程的选择。微射流均质机可以根据不同的生产需求进行调节和控制。大型微射流均质机厂家供应
微射流高压均质机应用范围：制药：纳米乳、微乳、脂质体、纳米粒、脂肪乳、纳米混悬剂、微球等（医药里档次高复杂注射剂，因为高压均质机引入金属离子，且档次高复杂注射剂对粒径和PDI（粒径集中性、分布宽窄）要求极为严格，所以微射流均质机在该领域的样品研发与工业化生产过程种目前处理垄断地位。）生物技术：疫苗佐剂，各类细胞破碎提取；化妆品：纳米包裹原料，脂质体化妆品，成品细化透皮，纳米递送体系；精细化工：导电高分子，碳纳米管，石墨烯，炭黑等；新能源材料：各种纳米氧化物分散，碳载铂催化剂分散等；食品饮品：植物蛋白饮料，功能性营养物质脂质体，食品大分子改性。其他需要精致纳米粒径控制的领域。大型微射流均质机厂家供应微射流均质机可以根据不同的工艺要求进行定制。
CMP抛光液一般由去离子水、磨料、pH值调节剂、氧化剂以及分散剂等添加剂组成。其中SiO2、Al2O3、CeO2 是应用较普遍的磨料。由于纳米磨料颗粒存在比表面积大、表面原子数多、表面能高等问题使其在水相介质中极易发生粒子团聚和快速沉降，导致抛光过程中表面粗糙度增加、划伤增多及抛光效率不稳定。因此，如何均匀分散成为制备CMP抛光液关键工艺之一。通过微射高压均质机分散可以有效的将二氧化硅，二氧化铈等氧化物均匀分散到纳米级，有效解决抛光液纳米分散中团聚的痛点。
高剪切乳化机的原理，剪切头由转子和定子组成，转子与定子相互啮合，每级定转子又有数层齿圈。转子高速旋转产生强大的离心力，形成强负压区，物料被吸入工作腔，在定、转子间隙内受到剪切、离心挤压、撞击撕裂和湍流等综合作用，而产生分裂液滴的张力。液体离开定子小孔后压力又回升，由此产生了空穴效应。均质头高速旋转，对物料进行剪切、分散、撞击。这样物料就会变得更加细腻，完成均质。金刚石纳米处理器是微射流均质机的主要处理单元，其内部为并联式（可线性放大）金刚石材质的固定结构微通道，不会随压力变化而变化，物料在流经微通道的过程中始终处于恒定峰值压力下，承受不间断的高剪切力作用，从而实现批次稳定的均一分散处理。微射流均质机的快速循环功能，缩短了处理时间，提升了生产效率。
工作原理的区别，高压微射流均质机主要是由分散单元和增压机构组成。分散单元内部通常有“Z”型和“Y”型，是高压流体在加压状态下通过细孔模块时，压力骤降而形成超声波流速，此时的流体内会发生粒子冲击、空化和消流、剪切、应力作用下其流体细胞的破坏、雾化、乳化、分散。高压流体在分散单元的狭小缝隙间快速通过，此时流体内压力的骤降而形成的超声速流速，流体内的粒子碰撞、空化及漏流、剪切力作用于劈开纳米大小的细微分子以完全的均质的状态存在。微射流均质机可以满足不同生产需求的加工工艺要求。东莞染料微射流技术
微射流均质机使产品颗粒更细致、均匀。大型微射流均质机厂家供应
均质阀处理样品过程中，1）从狭缝中喷出的瞬间由于存在（1000bar以上）压力降；2）样品喷出后与冲击环内侧的撞击力及粒子之间的剪切力共同作用，使粒子达到粒径减小的效果。过程中均质阀座与均质阀芯之间的狭缝大小，直接影响样品冲破缝隙所承受的阻力，此阻力的大小即为均质的压力，一般来说阻力越大，即均质压力越高、喷出速度越高，所形成的粒子间剪切力、与冲击环之间的撞击力也越强，均质能力就越强，粒径就越小。而均质压力大小的调节通过手轮，调节均质阀座与均质阀芯之间的间距来实现。大型微射流均质机厂家供应
